Los cátodos para sputtering son componentes esenciales del proceso de deposición por sputtering. Proporcionan la fuente de material para la creación de películas finas.
4 tipos de cátodos para sputtering que debe conocer
Cátodos metálicos para sputtering
Los cátodos metálicos para sputtering están hechos de elementos metálicos puros. Se utilizan habitualmente en aplicaciones en las que la pureza del metal es crucial. Esto incluye la producción de semiconductores y chips informáticos. Los cátodos metálicos pueden ser de cualquier metal elemental que sea adecuado para las propiedades deseadas de la película fina.
Cátodos para sputtering de aleación
Los cátodos para sputtering de aleación están hechos de mezclas de metales. Las aleaciones se eligen para conseguir propiedades específicas en las películas finas. Estas propiedades incluyen el aumento de la dureza, la mejora de la conductividad o la mejora de la resistencia a la corrosión. La composición de la aleación puede adaptarse a los requisitos específicos de la aplicación.
Cátodos cerámicos para sputtering
Los cátodos cerámicos para sputtering están hechos de compuestos no metálicos. Estos compuestos suelen ser óxidos o nitruros. Los cátodos cerámicos se utilizan para crear películas finas de gran dureza y resistencia al desgaste. Esto los hace adecuados para aplicaciones en herramientas e instrumentos de corte. Los materiales cerámicos suelen ofrecer propiedades de aislamiento térmico y eléctrico.
Formas especializadas de los cátodos para sputtering
Las formas de los cátodos para sputtering han evolucionado de las formas tradicionales a formas más especializadas. Por ejemplo, los cátodos rotacionales son cilíndricos y están diseñados para proporcionar una deposición de película fina más precisa. Estos cátodos tienen una superficie mayor, lo que permite velocidades de deposición más rápidas. La posibilidad de personalizar la forma de los cátodos para sputtering permite una mejor adaptación a sistemas y requisitos de deposición específicos.
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