Chatea con nosotros para una comunicación rápida y directa.
Respuesta inmediata en días laborables (dentro de las 8 horas en días festivos)
KinTek suministra una amplia gama de hornos de alta temperatura, incluyendo hornos de laboratorio, producción piloto e industrial, con un rango de temperatura de hasta 3000 ℃. La ventaja de KinTek es la capacidad de crear hornos hechos a medida para fines específicos, como diferentes métodos y velocidades de calentamiento, vacíos extra altos y dinámicos, atmósferas controladas y circuitos de gas, estructuras mecánicas automatizadas y desarrollo de software y hardware.
Horno de atmósfera controlada con cinta de malla
Número de artículo : KT-MB
Horno de fusión por inducción en vacío Horno de fusión de arco
Número de artículo : KT-VI
Planta de horno de pirólisis de calentamiento eléctrico de funcionamiento continuo
Número de artículo : KT-RFTF
Horno eléctrico de regeneración de carbón activo
Número de artículo : KT-CRF
Horno de grafitización experimental IGBT
Número de artículo : GF-02
Horno de prensado en caliente al vacío
Número de artículo : KT-VHP
Horno de grafitización de temperatura ultraalta
Número de artículo : GF-09
Gran horno de grafitización vertical
Número de artículo : GF-08
Horno de grafitización continua
Número de artículo : GF-07
Horno de grafitización de descarga inferior para materiales de carbono.
Número de artículo : GF-06
Horno vertical de grafitización de alta temperatura
Número de artículo : GF-05
Horno de grafitización de material negativo
Número de artículo : GF-04
Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica
Número de artículo : GF-03
Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado
Número de artículo : MP-CVD-100
Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz
Número de artículo : MP-CVD-101
Banco de trabajo máquina de corte circular pequeña, de un solo hilo, de diamante, 800mm x 800mm
Número de artículo : CM-2
1400℃ Horno tubular con tubo de alúmina
Número de artículo : KT-TF14
Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS
Número de artículo : KTSP
Horno de prensado en caliente de tubos al vacío
Número de artículo : KT-VTP
Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Número de artículo : KTMP315
Horno de sinterización en silla con transformador
Número de artículo : KT-DS10
Horno tubular rotativo de trabajo continuo sellado al vacío
Número de artículo : KT-CRTF
Horno rotativo multizona de calentamiento dividido
Número de artículo : KT-MRTF
horno rotatorio basculante de vacío de laboratorio
Número de artículo : KT-RTF
Horno de sinterización por aire a presión de 9MPa
Número de artículo : KT-APS
Pequeño horno de sinterización de alambre de tungsteno al vacío
Número de artículo : KT-VTW
Solicita tu cotización personalizada 👋
¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via WhatsappNuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Este artículo explora los métodos de preparación y los mecanismos de crecimiento de láminas delgadas de diamante mediante deposición química en fase vapor (CVD), destacando los retos y las aplicaciones potenciales.
Analiza el uso de diamantes cultivados en semiconductores, disipación de calor y fabricación avanzada.
Explora las propiedades únicas de los diamantes CVD, sus métodos de preparación y diversas aplicaciones en diversos campos.
Este artículo analiza las aplicaciones del diamante monocristalino MPCVD en los campos de los semiconductores y las pantallas ópticas, destacando sus propiedades superiores y su impacto potencial en diversas industrias.
En este artículo se analizan los avances y retos en la preparación de diamantes monocristalinos de gran tamaño mediante técnicas de deposición química en fase vapor por plasma de microondas (MPCVD).
Una mirada en profundidad a los métodos y beneficios del revestimiento al vacío en el vidrio arquitectónico, centrándose en la eficiencia energética, la estética y la durabilidad.
Un análisis en profundidad de los factores clave que influyen en la adherencia de las películas preparadas mediante la tecnología de pulverización catódica por magnetrón.
Explora las propiedades y diversas aplicaciones de los revestimientos de carbono tipo diamante (DLC).
En este artículo se analiza cómo afectan las distintas fuentes de alimentación a la morfología de las capas de película pulverizada, centrándose en las fuentes de alimentación de CC, PDC y RF.
En este artículo se analizan las causas y soluciones de la ablación severa en la región central de los cátodos cerámicos durante el sputtering por magnetrón.
Analiza los métodos para garantizar la tolerancia del espesor de la película en el recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica para un rendimiento óptimo del material.
Una mirada en profundidad a los pros y los contras del revestimiento por evaporación de haces de electrones y sus diversas aplicaciones en la industria.
Analiza las dificultades del crecimiento de la película de TiN con corriente alterna y propone soluciones como el sputtering de corriente continua y la corriente continua pulsada.
Una mirada en profundidad a los principios, tipos, aplicaciones de gas y usos prácticos de los procesos de recubrimiento PVD.
Análisis de los factores que provocan la no deposición de la película a pesar del resplandor en el sputtering por magnetrón.
Analiza los factores clave que influyen en la uniformidad de la deposición de películas finas en el sputtering por magnetrón, incluidos los parámetros del equipo, la potencia del sputtering, la presión del gas, la configuración del campo magnético, las propiedades del sustrato, etc.
Directrices para elegir los materiales de revestimiento al vacío adecuados en función de la aplicación, las propiedades del material, los métodos de deposición, la economía, la compatibilidad del sustrato y la seguridad.
Explora las razones por las que a los cátodos de renio les cuesta brillar durante el sputtering por magnetrón y ofrece sugerencias de optimización.
Parámetros clave que influyen en el efecto de sputtering en el sputtering por magnetrón, como la presión del aire, la potencia, la distancia al objetivo, el tipo de sustrato, etc.
Directrices y precauciones para la preparación de capas de película de PZT mediante pulverización catódica por magnetrón.