horno de prensa caliente
Horno de prensado en caliente al vacío
Número de artículo : KT-VHP
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura de trabajo
- 1500℃ / 2200℃
- Presión de trabajo
- 10-400T
- Distancia de prensado
- 100-200mm
- Presión de vacío
- 6x10-3Pa
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El horno de prensado en caliente al vacío es un equipo completo que calienta y presuriza materiales al vacío o en atmósfera. Según los diferentes materiales y temperaturas de calentamiento, los elementos de calentamiento pueden ser calentador de grafito, calentador de molibdeno y calentamiento por inducción, etc.; y para la presurización hidráulica se puede utilizar presurización unidireccional o bidireccional.
Bajo la alta temperatura y alta presión y vacío o atmósfera, las partículas sólidas de materia prima se unen entre sí, los granos crecen, y los vacíos (poros) y los límites de grano disminuyen gradualmente;A través de la transferencia de materiales, su volumen total se reduce, y su densidad aumenta, convirtiéndose en un cuerpo sinterizado policristalino compacto con una microestructura específica, de modo que los materiales pueden ser prensados y formados.
La densidad, dureza y otras propiedades mecánicas, electrónicas y térmicas de los materiales acabados pueden mejorarse significativamente a alta temperatura y presión, así como al vacío o en atmósfera.
Aplicaciones
El Horno de Prensado en Caliente de Tubo al Vacío es una herramienta versátil y potente utilizada en diversas industrias para procesos a alta temperatura. Este horno, capaz de funcionar en vacío o en atmósfera controlada, es especialmente adecuado para aplicaciones que requieren un control preciso de la temperatura y un entorno limpio. Las principales áreas de aplicación son
- Crecimiento de cristales: Ideal para la síntesis y el crecimiento de diversos tipos de cristales, cruciales en las industrias electrónica y de semiconductores.
- Tratamiento térmico: Se utiliza para el tratamiento térmico de metales y aleaciones con el fin de mejorar sus propiedades mecánicas, como la dureza, la ductilidad y la resistencia.
- Deposición de películas finas: Esencial para la deposición de películas finas en la fabricación de dispositivos electrónicos, células solares y revestimientos ópticos.
- Investigación en ciencia de materiales: Muy utilizado en laboratorios para la investigación de nuevos materiales, como cerámicas, materiales compuestos y aleaciones avanzadas.
- Metalurgia: Ayuda en la purificación y aleación de metales, así como en la producción de materiales refractarios.
- Fabricación de componentes electrónicos: Fundamental para procesos como el recocido, la sinterización y la producción de componentes electrónicos.
- Industria química: Se utiliza para reacciones químicas a alta temperatura y la síntesis de productos químicos en atmósferas controladas.
- Fabricación de vidrio: Útil en la producción de vidrios especiales y la modificación de las propiedades del vidrio mediante tratamiento térmico.
- Producción de materiales especiales: Participa en la creación de materiales con propiedades únicas, como los utilizados en el sector aeroespacial y de defensa.
- Instituciones académicas y de investigación: Un elemento básico en laboratorios universitarios y centros de investigación para la investigación y el desarrollo de materiales avanzados.
Detalles y piezas
- Estructura de doble carcasa con camisa refrigerada por agua, la carcasa interior es de acero inoxidable y ha sido finamente pulida. Las carcasas son de acero al carbono de alta calidad con tratamiento antioxidante o de acero inoxidable con chorro de arena.
- El elemento calefactor adopta alambre de grafito o molibdeno. El calentamiento se divide en calefacción monofásica o trifásica. El diseño racional del elemento calefactor ayuda a mejorar la uniformidad de la temperatura en la cavidad.
- El horno puede ser operado fácilmente a través del sistema de control eléctrico. La temperatura y la presión se controlan mediante PLC analógico, o el proceso de sinterización se completa automáticamente mediante un controlador programable de temperatura y presión. El sistema de control dispone de funciones de alarma y protección, como corte de agua, sobretemperatura y sobrecorriente.
Principio
El Horno de Prensado en Caliente con Tubo de Vacío funciona calentando y presurizando materiales bajo vacío o atmósfera. Utiliza elementos calefactores como calentadores de grafito o molibdeno y puede aplicar presurización unidireccional o bidireccional. Este proceso une las partículas de materia prima, reduce los huecos y aumenta la densidad, formando un cuerpo compacto sinterizado. El horno está diseñado para diversas industrias, garantizando un tratamiento térmico y una sinterización del material precisos.
Ventajas
El horno de prensado en caliente para tubos al vacío ofrece una plétora de ventajas que lo convierten en una opción superior para diversos procesos y aplicaciones de tratamiento térmico. Estas son algunas de las principales ventajas:
- Versatilidad en los procesos de tratamiento térmico: El horno admite una amplia gama de procesos de tratamiento térmico, lo que lo hace adecuado para diversos materiales e industrias. Esta versatilidad garantiza que pueda satisfacer diversas necesidades en el procesamiento de materiales.
- Ciclos de alta velocidad con templado de gas a alta presión: El horno está diseñado para facilitar los ciclos de alta velocidad, que son esenciales para una producción eficiente. La función de enfriamiento por gas a alta presión mejora el proceso de enfriamiento, lo que permite acelerar los ciclos y aumentar la productividad.
- Eficiencia energética y de recursos: Con un bajo consumo de energía y gases de proceso, el horno es respetuoso con el medio ambiente y rentable. Esta eficiencia no sólo reduce los costes operativos, sino que también minimiza la huella medioambiental.
- Respetuoso con el medio ambiente y con bajas emisiones: El diseño del horno garantiza bajas emisiones de gases de proceso, lo que lo convierte en una opción ecológica para las industrias que buscan minimizar su impacto medioambiental.
- Diseño sencillo y modular: El sencillo diseño del horno permite una fácil instalación y mantenimiento. Su naturaleza modular permite adaptarlo y ajustarlo a tareas específicas y a las condiciones de la planta, garantizando un rendimiento óptimo.
- Calidad garantizada y resultados de proceso repetibles: El horno está diseñado para garantizar la calidad y la repetibilidad de los resultados del proceso, lo que resulta crucial para los sectores en los que la precisión y la uniformidad son primordiales.
- Mantenimiento predictivo: Funciones avanzadas como el mantenimiento predictivo ayudan a identificar posibles problemas antes de que se agraven, garantizando un tiempo de inactividad mínimo y prolongando la vida útil del equipo.
Introducción a la estructura
Este horno eléctrico tiene dos tipos de calentamiento de grafito y calentamiento de alambre de resistencia, que son adecuados para la sinterización de polvo de metal, materiales inorgánicos no metálicos, etc. bajo vacío y prensado en caliente a alta temperatura; por supuesto, la sinterización por prensado en caliente también se puede llevar a cabo bajo atmósfera protectora. De este modo, se puede completar la densificación del material, evitar la deformación y suprimir el tamaño de grano del nanopolvo.
| Especificaciones |
|
|---|---|
| Carcasa del horno |
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| Lado del horno |
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| El elemento calefactor |
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| La capa de aislamiento |
|
| El sistema de vacío |
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| El circuito principal del sistema de control eléctrico |
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Características
- Estructura de la cámara de vacío de acero inoxidable SUS304 de doble capa, método de refrigeración por circulación de agua fría de la camisa para mantener la temperatura de la superficie del horno
- Estructura de soporte de doble columna, sistema de prensa hidráulica estable, la presión puede ser de control manual o automático, regulación y mantenimiento preciso de la presión.
- Materiales avanzados de aislamiento térmico con baja conductividad térmica y buen efecto de aislamiento térmico, que pueden aislar eficazmente el calor y reducir el consumo de energía
- El rango de temperatura es amplio. Se pueden seleccionar diversos elementos calefactores, como grafito, molibdeno, tungsteno, calentamiento por inducción, etc. La temperatura puede alcanzar 2800 ℃ en una atmósfera protectora adecuada, que puede adaptarse a la sinterización por prensado en caliente de diferentes materiales;
- Configuración diversificada del sistema de vacío, se seleccionan diferentes grados de vacío según el proceso;
- Se proporciona un sistema de carga y descarga, que puede utilizarse para la sinterización por prensado en caliente en un entorno de vacío, atmósfera inerte o atmósfera reductora;
- Configuración humanizada, se puede realizar tanto la operación manual como la operación inteligente;
- Un horno para múltiples propósitos puede ser utilizado como un simple horno de sinterización en vacío o atmósfera;
- Diversos tipos funcionales opcionales disponibles, descarga superior vertical, descarga de salida lateral vertical, presurización unidireccional, presurización bidireccional, etc.
Especificaciones técnicas
| Temperatura de trabajo | 1500℃ / 2200℃ |
|---|---|
| Elemento calefactor | Molibdeno/Grafito |
| Presión de trabajo | 10-400T |
| Distancia de prensado | 100-200mm |
| Presión de vacío | 6x10-3Pa |
| Diámetro efectivo del área de trabajo | 90-600 mm |
| Diámetro efectivo del área de trabajo | 120-600mm |
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
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FAQ
¿Para qué se utiliza un horno de vacío?
¿Qué es el horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué son los hornos dentales?
¿Qué es una prensa de laboratorio?
¿Cuál es el propósito de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuál es el proceso de un horno de vacío?
¿Cómo funciona el horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Qué es el proceso de fusión por arco al vacío?
¿Cuáles son las aplicaciones de las prensas de pellets?
¿Cuáles son los diferentes tipos de hornos dentales?
¿Cuál es el propósito de una prensa hidráulica en el laboratorio?
¿Qué es el método PECVD?
¿Cuáles son las ventajas de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Qué gas se utiliza en un horno de vacío?
¿Qué gas se utiliza en el proceso de CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Qué es el horno de refundición por arco al vacío (VAR) VAR?
¿Cómo funciona una prensa de pellets?
¿Cuál es la temperatura de un horno dental?
¿Cuáles son los diferentes tipos de prensas de laboratorio?
¿Para qué se utiliza PECVD?
¿Cómo funciona un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuál es el elemento calefactor utilizado en un horno de vacío?
¿Cuál es la ventaja del sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cómo funciona el horno de fusión por arco al vacío?
¿Cuáles son los beneficios de utilizar una prensa de pellets?
¿Cuál es el uso del horno de porcelana?
¿Cuáles son las ventajas de PECVD?
¿Qué significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Qué factores se deben considerar al seleccionar una prensa de pellets?
¿Cuál es la diferencia entre ALD y PECVD?
¿Cuál es la diferencia entre CVD y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
¿Cuál es la diferencia entre PECVD y pulverización catódica?
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