Horno de grafitización
Horno vertical de grafitización de alta temperatura
Número de artículo : GF-05
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Volumen (litros)
- 125 / 196 / 282 / 550 / 1000 / 1500
- Área de calentamiento efectiva (mm)
- Φ400×1000 / Φ500×1000 / Φ600×1000 / Φ700×1400 / Φ900×1600 / Φ1000×2000
- Potencia (kilovatios)
- 150 / 200 / 300 / 500 / 600 / 800
- Frecuencia (HZ)
- 1500/1000
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El horno vertical de grafitización de alta temperatura es un horno de alta temperatura que se utiliza para experimentos de grafitización y la producción de diversos materiales de carbono. Se caracteriza por su rápido aumento de temperatura, alta eficiencia y distribución uniforme de la temperatura. El horno utiliza aislamiento de ladrillo de alúmina de doble capa para evitar cortocircuitos y garantizar aislamiento térmico, resistencia al fuego y estabilidad. Cuenta con un sistema de monitoreo de flujo digital y un completo sistema PLC de protección y control automático de agua, electricidad y gas.
Aplicaciones
Los hornos verticales de grafitización de alta temperatura se utilizan ampliamente en diversas industrias, entre ellas:
- Cocción de cerámica
- Crecimiento de carburo
- Carbonización
- grafitización
- Sinterización
- Recocido
- Soldadura
- Desgasificación
Características
El horno vertical de grafitización de alta temperatura es un equipo de laboratorio de primera línea que ofrece una serie de beneficios a los usuarios. Estos beneficios incluyen:
- Uniformidad de alta temperatura: el diseño exclusivo del horno garantiza que la temperatura se distribuya uniformemente por toda la cámara del horno, lo cual es esencial para lograr resultados consistentes.
- Bajo consumo de energía: el material aislante de ladrillo de alúmina de doble capa del horno ayuda a minimizar la pérdida de calor, lo que reduce el consumo de energía y los costos operativos.
- Buena estabilidad: el contactor de frecuencia media de alto rendimiento del horno y el completo sistema PLC de protección y control automático de agua, electricidad y gas garantizan que el horno funcione de manera estable y confiable.
- Sistema de monitoreo de flujo digital: el sistema de monitoreo de flujo digital del horno proporciona monitoreo en tiempo real del flujo de agua en el gabinete de energía, lo que ayuda a prevenir el sobrecalentamiento y daños al horno.
- Se pueden encender varios hornos para calentar y apagar para enfriar, respectivamente, para lograr un funcionamiento continuo: esta característica permite a los usuarios utilizar varios hornos simultáneamente, lo que puede aumentar la productividad y el rendimiento.
Principio
El horno vertical de grafitización de alta temperatura es un horno de vacío de alta temperatura que utiliza grafito como elemento calefactor. El horno consta de una cámara cilíndrica de grafito con una camisa refrigerada por agua. La cámara se calienta pasando una corriente eléctrica a través de las paredes de grafito. La temperatura del horno se controla ajustando el flujo de corriente.
El horno vertical de grafitización de alta temperatura se utiliza para una variedad de aplicaciones, que incluyen:
- Grafitización de materiales de carbono.
- Sinterización de polvos metálicos
- Tratamiento térmico de metales y cerámicas.
- Recocido de metales
- Crecimiento de cristales
Ventajas
- Calentamiento y enfriamiento rápidos: las excelentes propiedades termomecánicas del grafito permiten cambios rápidos de temperatura, lo que reduce los ciclos del proceso.
- Uniformidad de alta temperatura: el diseño exclusivo del horno garantiza una distribución uniforme de la temperatura en toda la cámara del horno.
- Bajo consumo de energía: el aislamiento de ladrillo de alúmina de doble capa minimiza la pérdida de calor y mejora la eficiencia energética.
- Operación de múltiples hornos: la fuente de alimentación única puede acomodar múltiples hornos, lo que permite un funcionamiento continuo.
- Monitoreo y control integrales: el sistema basado en PLC proporciona monitoreo en tiempo real y control automático de agua, electricidad y gas.
- Económico: los hornos de grafito de alta temperatura ofrecen una solución rentable para aplicaciones de alta temperatura.
- Fácil mantenimiento: el reemplazo en campo de la zona caliente de grafito es simple y rápido, lo que minimiza el tiempo de inactividad.
Parámetros y especificaciones técnicas.
Uniformidad de la temperatura del cuerpo del horno: utilizando el calentamiento por inducción de frecuencia media, la temperatura aumenta rápidamente y la eficiencia es alta. El diseño exclusivo del horno mejora en gran medida la uniformidad de la temperatura del cuerpo del horno;
Bajo consumo de energía y buena estabilidad: se utiliza material aislante de ladrillo de alúmina de doble capa para evitar cortocircuitos entre el fieltro de carbono y la bobina, buen aislamiento térmico y resistencia al fuego, pequeña pérdida de calor y buena estabilidad del equipo;
De acuerdo con las necesidades del tiempo del proceso de sinterización, se puede configurar una única fuente de alimentación con múltiples hornos eléctricos, y los múltiples hornos se pueden encender para calentar y apagar para enfriar respectivamente para lograr un funcionamiento continuo;
Sistema de monitoreo de flujo digital, cada canal de monitoreo y protección del flujo de agua en el gabinete de energía, conversión del horno mediante contactor de frecuencia media de alto rendimiento; Sistema integral de protección y control automático de agua, electricidad y gas PLC.
| Especificaciones del modelo de producto | GF-05-Ф40×100 | GF-05-Ф50×100 | GF-05-Ф60×100 | GF-05-Ф70×140 | GF-05-Ф90×160 | GF-05-Ф100×200 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Volumen(L) | 125 | 196 | 282 | 550 | 1000 | 1500 |
| Temperatura nominal (C) | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2600 |
| Temperatura límite (C) | 3100 | 3100 | 3100 | 3100 | 300 | 2800 |
| Área de calentamiento efectiva (mm) | Ф400×1000 | Ф500×1000 | Ф600×1000 | Ф700×1400 | Ф900×1600 | Ф1000×2000 |
| Potencia (kilovatios) | 150 | 200 | 300 | 500 | 600 | 800 |
| Frecuencia (HZ) | 1500 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 |
| Método de control de temperatura | Termostato eléctrico Japón Shima | |||||
| método de calentamiento | Calentamiento por inducción | |||||
| Sistema de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas (para requisitos de alto vacío, se requieren una bomba de vacío Roots y una bomba de difusión de aceite) | |||||
| atmósfera de sinterización | N² Ar y otros gases | |||||
| Tensión nominal de alimentación (V) | 380 | |||||
| Tensión nominal de calefacción (V) | 750 | |||||
| Límite de vacío (Pa) | 100 (estado frío al vacío) | |||||
FAQ
¿Qué es un horno de grafitización?
¿Qué es el horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Para qué se utiliza un horno de vacío?
¿Qué es un horno tubular?
El horno tubular de laboratorio es un horno tubular de alta temperatura de calentamiento externo clásico, también llamado horno de calentamiento de pared caliente.
De acuerdo con las diferentes temperaturas de trabajo, el material del tubo del horno generalmente puede ser tubos de cuarzo transparente, tubos de cerámica de alúmina de alta pureza y tubos de aleación de metal de alta resistencia.
Para cumplir con diferentes propósitos de investigación térmica, el horno tubular se puede diseñar con múltiples zonas de calentamiento, para tener un control flexible del gradiente de temperatura en la cámara de trabajo del tubo; El tubo del horno puede funcionar con un entorno de trabajo de atmósfera controlada o un entorno de trabajo de alto vacío.
¿Para qué se utilizan los hornos de mufla?
¿Qué son los hornos dentales?
¿Cuáles son los principales tipos de máquinas de procesamiento de caucho?
¿Cuáles son las diferencias entre el horno vertical de grafitización de alta temperatura y el horno de grafito de alta temperatura (HTG)?
¿Cuál es el propósito del horno vertical de grafitización de alta temperatura?
¿Cuáles son las principales aplicaciones de los hornos de grafitización?
¿Cómo funciona el horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Qué es un horno de pirólisis?
¿Cuál es el proceso de un horno de vacío?
¿Cuál es el propósito de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cómo funciona un horno tubular?
Los elementos calefactores del horno tubular se colocan alrededor de la cavidad cilíndrica, el horno solo puede calentar las muestras en la cavidad cilíndrica a través de la radiación térmica indirecta, ya que el tubo del horno puede evitar que el material de la muestra entre en contacto con los elementos calefactores del horno y los materiales de aislamiento, por lo que el horno tubular crea un aislamiento limpio. calentar la cámara y reducir los riesgos de que el material de la muestra se contamine con el horno.
¿Qué es un horno de tubo rotatorio?
¿Cuáles son los tipos de horno de mufla?
¿Cuáles son los diferentes tipos de hornos dentales?
¿Qué es el horno rotatorio eléctrico?
¿Cuál es el principio de funcionamiento de una máquina granuladora de plástico de extrusión de doble husillo?
¿Cuáles son los diferentes tipos de hornos de grafitización?
¿Qué gas se utiliza en el proceso de CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Cómo funciona un horno de pirólisis?
¿Cuáles son los tipos de horno rotatorio?
¿Qué gas se utiliza en un horno de vacío?
¿Cuáles son las ventajas de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuál es la aplicación para horno tubular?
El horno tubular se utiliza principalmente en metalurgia, vidrio, tratamiento térmico, materiales de ánodo y cátodo de litio, nueva energía, abrasivos y otras industrias, y es un equipo profesional para medir materiales bajo ciertas condiciones de temperatura.
El horno tubular presenta una estructura simple, fácil operación, fácil control y producción continua.
El horno tubular también se aplica ampliamente en los sistemas CVD (deposición química de vapor) y CVD mejorados con plasma.
¿Cómo funciona un horno de tubo rotatorio?
¿Qué es el horno de mufla en química?
¿Cuál es la temperatura de un horno dental?
¿Cómo funciona un horno rotatorio eléctrico?
¿Para qué sirve una prensa vulcanizadora de placas en el procesamiento del caucho?
¿Por qué pirólisis de biomasa?
¿Cómo funciona un horno de grafitización?
¿Cuál es la ventaja del sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cuáles son las aplicaciones de los hornos de pirólisis?
¿Cuáles son las ventajas del horno de rotor?
¿Cuál es el elemento calefactor utilizado en un horno de vacío?
¿Cómo funciona un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuántos tipos diferentes de hornos tubulares?
El horno tubular puede funcionar con diferentes funciones mecánicas sin problemas, por lo que hay muchos tipos diferentes de variaciones de horno tubular para diferentes propósitos experimentales, los hornos típicos son los siguientes:
- Horno tubular horizontal
- Horno tubular vertical
- Horno de tubo partido
- Horno de tubo rotatorio
- Horno de tubo basculante
- Horno de tubo deslizante
- Horno tubular de calentamiento y enfriamiento rápido
- Horno tubular de alimentación y descarga continua
¿Cuáles son las ventajas de un horno tubular rotatorio?
¿Cuál es la función del horno de tubo rotatorio?
¿Cuál es el uso del horno de mufla para cenizas?
¿Cuál es el uso del horno de porcelana?
¿Cuáles son las ventajas del horno rotatorio eléctrico?
¿Cómo funciona un molino mezclador abierto para caucho?
¿Cuáles son las ventajas de la pirólisis de biomasa?
¿Cuáles son las ventajas de utilizar un horno de grafitización?
¿Qué significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Cuáles son las ventajas de utilizar hornos de pirólisis?
¿Cuál es la eficiencia de un horno rotatorio?
¿Cuáles son las ventajas del horno de tubo rotatorio?
¿Cuál es la temperatura del horno de mufla?
¿Para qué se puede utilizar el horno rotatorio eléctrico?
¿Cuáles son las ventajas de utilizar una mezcladora de caucho interna de laboratorio?
¿Cuáles son los pasos de la pirólisis de biomasa?
¿Cuál es la diferencia entre CVD y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
¿Qué factores se deben considerar al seleccionar un horno de pirólisis?
¿Qué aplicaciones tiene una calandria de caucho pequeña de laboratorio?
¿Qué biomasa es adecuada para la pirólisis?
¿Qué precauciones de seguridad se deben seguir al utilizar un horno de pirólisis?
¿Cómo funciona una prensa térmica automática de alta temperatura?
¿Para qué sirve una máquina de extrusión de película soplada de laboratorio?
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