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Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Piezas de deposición de película fina

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Número de artículo : KMS02

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Material
Grafito
Especificación
Ф35-65*17-30mm
cubrir
opcional
ISO & CE icon

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Aplicaciones

El crisol de grafito de evaporación por haz de electrones es una tecnología que utiliza haces de electrones para crear películas de grafito flexibles y rugosas. Sus parámetros clave incluyen el suministro de la fuente de carbono, la energía de irradiación del haz de electrones, el voltaje aplicado, la temperatura de evaporación y el tiempo de evaporación. El voltaje aplicado modula la adhesión entre la capa de grafito y la capa inferior del crisol. Para garantizar una capa de grafito plana, se debe controlar el caudal y el tamaño de las partículas de la fuente de alimentación de carbono para lograr una deposición y evaporación uniformes.

En el campo de la electrónica de potencia, la tecnología de crisol de grafito de evaporación por haz de electrones es ampliamente utilizada. Se trata de depositar una fuente de material de carbono utilizando un haz de electrones para formar una película delgada de grafito. El crisol de grafito fabricado por este proceso tiene baja resistencia, baja corona y alto límite elástico. Es ampliamente utilizado en la disipación de calor, fabricación de voltaje soportado y prueba de equipos electrónicos.

Detalle y piezas

Detalles del crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Detalles del crisol de grafito de evaporación por haz de electrones 2

Detalles del crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito estanco con tapa detalle 1
Crisol de grafito estanco con tapa
Crisol de grafito impermeable con tapa detalle 2
Crisol de grafito estanco con tapa
Crisol de grafito estanco con tapa detalle 3
Crisol de grafito estanco con tapa
Crisol de grafito estanco con tapa detalle 4
Crisol de grafito estanco con tapa

Especificaciones técnicas

Dimensiones del crisol de grafito 35*17mm 35*22mm 40*20mm 42,5*19,5mm 45*22,5mm 50*25mm 65*30mm

Los crisoles que mostramos están disponibles en diferentes tamaños y los tamaños personalizados están disponibles bajo pedido.

Ventaja

  • Precisión de la preparación: la tecnología de evaporación por haz de electrones puede controlar con precisión el proceso de deposición, lo que da como resultado crisoles de grafito consistentes y de alta precisión.
  • Resistencia al choque térmico: las películas de grafito formadas por evaporación con haz de electrones tienen una excelente resistencia al choque térmico y son adecuadas para aplicaciones con cambios rápidos de temperatura.
  • Resistencia al desgaste: el crisol de grafito evaporado por haz de electrones tiene buena resistencia al desgaste, lo que lo hace duradero y capaz de soportar condiciones adversas.
  • Resistencia química: estos crisoles son resistentes a los ácidos, los álcalis y la contaminación química, lo que garantiza su confiabilidad y longevidad en entornos químicamente agresivos.
  • Flexibilidad y rugosidad: La película de grafito formada por esta técnica tiene cierto grado de flexibilidad y rugosidad, lo que la hace efectiva para diversas aplicaciones.

En conclusión, los crisoles de grafito evaporado con haz de electrones tienen una preparación precisa, resistencia al choque térmico, resistencia a la abrasión, resistencia química, flexibilidad y aspereza. Son ampliamente utilizados en electrónica de potencia, pruebas de enlace molecular, tecnología láser, baterías, capacitores de alto voltaje y aplicaciones de dispositivos médicos.

FAQ

¿Qué son las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica son dispositivos utilizados en los sistemas de evaporación térmica para depositar películas finas sobre sustratos. Funcionan calentando un material (evaporante) a altas temperaturas, lo que provoca su evaporación y posterior condensación sobre un sustrato, formando una película fina.

¿Qué es un horno de grafitización?

Un horno de grafitización es un equipo especializado que se utiliza para convertir materiales carbonosos, como el coque de petróleo o la brea de alquitrán de hulla, en grafito mediante un proceso a alta temperatura en una atmósfera inerte. Este proceso suele implicar temperaturas de entre 2.500 y 3.000 grados Celsius.

Comparación de la tecnología de crisol de grafito de evaporación por haz de electrones y la tecnología tradicional.

Aunque la tecnología de crisol de grafito por evaporación con haz de electrones es más costosa que el tradicional prensado en caliente, tiene mayor precisión y es más adecuada para la fabricación de crisoles de grafito complejos. En comparación con la evaporación con fuente de carbono convencional, la evaporación con haz de electrones logra una distribución uniforme de la fuente de carbono y una superficie de carbono suave, lo que mejora el rendimiento y la confiabilidad del material. La tecnología ofrece un método más simple y eficiente desde el punto de vista energético para la fabricación de dispositivos en campos como la electrónica de potencia y mejora significativamente la fiabilidad de los dispositivos.

¿Cómo se fabrican los crisoles de grafito de alta pureza?

Los crisoles de grafito de alta pureza generalmente se fabrican mediante un proceso llamado prensado isostático. En este método, el polvo de grafito se coloca en un molde de goma y luego se somete a alta presión desde todas las direcciones. Esta presión compacta las partículas de grafito en una forma de crisol densa y uniforme. Luego, el crisol se calienta a alta temperatura para eliminar las impurezas y mejorar su pureza.

¿Cuáles son los principales tipos de fuentes de evaporación térmica?

Los principales tipos de fuentes de evaporación térmica son las fuentes de evaporación resistiva, las fuentes de evaporación por haz de electrones y las fuentes de evaporación flash. Cada tipo utiliza diferentes métodos para calentar el evaporante, como el calentamiento resistivo, el calentamiento por haz de electrones o el contacto directo con una superficie caliente.

¿Cuáles son las principales aplicaciones de los hornos de grafitización?

Los hornos de grafitización son cruciales en industrias como la metalúrgica, la electrónica y la aeroespacial. Producen productos de grafito de alta calidad, como electrodos, crisoles y componentes estructurales, que son esenciales para diversas aplicaciones de alta temperatura.

¿Qué es RF PECVD?

RF PECVD significa deposición de vapor químico mejorada con plasma de radiofrecuencia, que es una técnica utilizada para preparar películas policristalinas en un sustrato mediante el uso de plasma de descarga luminiscente para influir en el proceso mientras se lleva a cabo la deposición de vapor químico a baja presión. El método RF PECVD está bien establecido para la tecnología estándar de circuitos integrados de silicio, en la que normalmente se utilizan obleas planas como sustratos. Este método es ventajoso debido a la posibilidad de fabricación de película de bajo costo y alta eficiencia de deposición. Los materiales también se pueden depositar como películas de índice de refracción gradual o como una pila de nanopelículas, cada una con diferentes propiedades.

¿Qué es el objetivo de pulverización catódica?

Un objetivo de pulverización catódica es un material utilizado en el proceso de deposición por pulverización catódica, que consiste en romper el material objetivo en partículas diminutas que forman un rocío y recubren un sustrato, como una oblea de silicio. Los objetivos de pulverización catódica suelen ser elementos metálicos o aleaciones, aunque hay algunos objetivos cerámicos disponibles. Vienen en una variedad de tamaños y formas, y algunos fabricantes crean objetivos segmentados para equipos de pulverización catódica más grandes. Los objetivos de pulverización tienen una amplia gama de aplicaciones en campos como la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos debido a su capacidad para depositar películas delgadas con alta precisión y uniformidad.

¿Cuáles son las aplicaciones comunes de los crisoles de grafito de alta pureza?

Los crisoles de grafito de alta pureza tienen una amplia gama de aplicaciones en industrias como la metalurgia, fundiciones y laboratorios. Se utilizan comúnmente para fundir y fundir metales no ferrosos, incluidos aluminio, cobre y metales preciosos. Los crisoles de grafito de alta pureza también se utilizan en la producción de aleaciones y cerámicas de alta temperatura. Son esenciales en procesos como análisis químicos, espectroscopia y preparación de muestras en laboratorios. Además, estos crisoles encuentran aplicaciones en la industria de los semiconductores para la fusión y el crecimiento de silicio y otros materiales semiconductores.

¿Cómo funcionan las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica funcionan haciendo pasar corriente eléctrica a través de un material resistivo, que se calienta hasta alcanzar altas temperaturas. Este calor se transfiere al evaporante, provocando su fusión y vaporización. A continuación, el vapor atraviesa una cámara de vacío y se condensa en un sustrato, formando una fina película.

¿Cuáles son los diferentes tipos de hornos de grafitización?

Hay varios tipos de hornos de grafitización, incluyendo hornos de grafitización horizontales de alta temperatura, hornos de grafitización verticales grandes, hornos de grafitización continuos, hornos de grafitización de material negativo, hornos de grafitización verticales de alta temperatura, hornos de grafitización de temperatura ultra alta, hornos de grafitización experimental IGBT, hornos de grafitización de película de alta conductividad térmica, hornos de grafitización de descarga inferior para materiales de carbono y hornos de grafito al vacío de 2200°C.

¿Cómo se fabrican los blancos de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se fabrican utilizando una variedad de procesos de fabricación según las propiedades del material objetivo y su aplicación. Estos incluyen fusión y laminado al vacío, prensado en caliente, proceso especial de sinterización a presión, prensado en caliente al vacío y métodos forjados. La mayoría de los materiales de destino de pulverización catódica se pueden fabricar en una amplia gama de formas y tamaños, siendo las formas circulares o rectangulares las más comunes. Los objetivos generalmente están hechos de elementos metálicos o aleaciones, pero también se pueden usar objetivos de cerámica. También hay disponibles objetivos de pulverización catódica compuestos, hechos de una variedad de compuestos que incluyen óxidos, nitruros, boruros, sulfuros, seleniuros, telururos, carburos, mezclas cristalinas y compuestas.

¿Qué factores se deben considerar al seleccionar crisoles de grafito de alta pureza?

Al seleccionar crisoles de grafito de alta pureza, se deben considerar varios factores. En primer lugar, el tamaño y la capacidad del crisol deben coincidir con la aplicación prevista y la cantidad de material que se va a fundir o procesar. Se deben evaluar la conductividad térmica, la resistencia al choque térmico y la compatibilidad química del crisol para garantizar que cumplan con los requisitos específicos del proceso. Es importante seleccionar crisoles fabricados con material de grafito de alta calidad con altos niveles de pureza para minimizar la contaminación y garantizar un rendimiento excelente. También se debe considerar el diseño y la construcción del crisol, como la presencia de asas o picos vertedores para facilitar su manejo. Además, es recomendable consultar con fabricantes o expertos en la materia para asegurar la selección de los crisoles de grafito de alta pureza más adecuados para aplicaciones específicas.

¿Cuáles son los materiales comunes utilizados para los crisoles de evaporación?

Los crisoles de evaporación suelen estar hechos de materiales como tungsteno, tantalio, molibdeno, grafito o compuestos cerámicos. Estos materiales tienen altos puntos de fusión y buena conductividad térmica, lo que los hace adecuados para las condiciones de alta temperatura requeridas durante la evaporación. La elección del material del crisol depende de factores como el material evaporante, las propiedades deseadas de la película y los parámetros del proceso.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar fuentes de evaporación térmica?

Entre las ventajas de las fuentes de evaporación térmica se incluyen las altas velocidades de deposición, la buena direccionalidad, la excelente uniformidad y la compatibilidad con diversos materiales. También son relativamente sencillas y asequibles, lo que las hace adecuadas para una amplia gama de aplicaciones en la deposición de películas finas.

¿Cómo funciona un horno de grafitización?

Un horno de grafitización funciona sometiendo materiales carbonosos a temperaturas extremadamente altas, normalmente entre 2500 y 3000 grados Celsius, en una atmósfera inerte. Este proceso reorganiza los átomos de carbono en el material, convirtiéndolo en grafito, que tiene propiedades únicas como alta conductividad térmica, baja expansión térmica e inercia química.

¿Para qué se utiliza el objetivo de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se utilizan en un proceso llamado pulverización catódica para depositar películas delgadas de un material sobre un sustrato utilizando iones para bombardear el objetivo. Estos objetivos tienen una amplia gama de aplicaciones en varios campos, incluida la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos. Permiten la deposición de películas delgadas de materiales sobre una variedad de sustratos con alta precisión y uniformidad, lo que los convierte en una herramienta ideal para producir productos de precisión. Los objetivos de bombardeo iónico vienen en varias formas y tamaños y pueden especializarse para cumplir con los requisitos específicos de la aplicación.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar crisoles evaporadores?

Los crisoles de evaporación ofrecen varias ventajas en los procesos de deposición de películas delgadas. Proporcionan un entorno controlado para la evaporación de materiales, lo que permite un control preciso sobre el espesor y la uniformidad de la película. Los crisoles pueden soportar altas temperaturas y proporcionar una transferencia de calor eficiente, lo que garantiza tasas de evaporación constantes. Están disponibles en varios tamaños y formas para adaptarse a diferentes sistemas de evaporación y configuraciones de sustrato. Los crisoles de evaporación también permiten la deposición de una amplia gama de materiales, incluidos metales, semiconductores y cerámicas. Se pueden cargar y descargar fácilmente, lo que facilita cambios rápidos de materiales o ajustes de procesos. En general, los crisoles de evaporación son herramientas esenciales en las técnicas de deposición de películas delgadas, ya que ofrecen versatilidad, confiabilidad y reproducibilidad.

¿Para qué aplicaciones se utilizan las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica se utilizan en diversas aplicaciones, como la producción de revestimientos ópticos, dispositivos semiconductores y diversos tipos de películas finas. Son especialmente útiles en industrias que requieren un control preciso de la deposición de materiales sobre sustratos.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar un horno de grafitización?

Las ventajas de utilizar un horno de grafitización incluyen la producción de grafito de alta calidad con una excelente conductividad térmica, baja expansión térmica e inercia química. Estas propiedades hacen que el grafito sea ideal para una amplia gama de aplicaciones de alta temperatura en industrias como la metalurgia, la electrónica y la aeroespacial.

¿Qué son los objetivos de pulverización catódica para la electrónica?

Los objetivos de pulverización para la electrónica son discos delgados o láminas de materiales como aluminio, cobre y titanio que se utilizan para depositar películas delgadas en obleas de silicio para crear dispositivos electrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados. Estos objetivos se utilizan en un proceso denominado pulverización catódica, en el que los átomos del material objetivo se expulsan físicamente de la superficie y se depositan en un sustrato bombardeando el objetivo con iones. Los objetivos de pulverización catódica para la electrónica son esenciales en la producción de microelectrónica y, por lo general, requieren alta precisión y uniformidad para garantizar dispositivos de calidad.

¿Cómo se deben manipular y mantener los crisoles de evaporación?

Los crisoles de evaporación deben manipularse y mantenerse con cuidado para garantizar su longevidad y rendimiento. Los crisoles deben limpiarse minuciosamente antes de cada uso para eliminar cualquier material residual de deposiciones anteriores. Evite el uso de materiales abrasivos que puedan dañar la superficie del crisol. Durante la carga y descarga, manipule los crisoles con guantes limpios o herramientas especializadas para evitar la contaminación. Cuando no esté en uso, almacene los crisoles en un ambiente seco y limpio para evitar la corrosión o degradación. La inspección periódica de los crisoles en busca de grietas, defectos o signos de desgaste es importante para evitar fallas inesperadas durante el proceso de evaporación. Siga las recomendaciones del fabricante para cualquier procedimiento de mantenimiento específico, como recocido o tratamiento de superficie, para prolongar la vida útil del crisol.

¿Cuál es la vida útil de un objetivo de pulverización catódica?

La vida útil de un objetivo de pulverización catódica depende de factores como la composición del material, la pureza y la aplicación específica para la que se utiliza. En general, los objetivos pueden durar de varios cientos a miles de horas de pulverización catódica, pero esto puede variar ampliamente según las condiciones específicas de cada ejecución. La manipulación y el mantenimiento adecuados también pueden prolongar la vida útil de un objetivo. Además, el uso de objetivos de pulverización catódica rotativa puede aumentar los tiempos de ejecución y reducir la aparición de defectos, lo que los convierte en una opción más rentable para procesos de gran volumen.
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