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Crisol de haz de pistola de electrones

Piezas de deposición de película fina

Crisol de haz de pistola de electrones

Número de artículo : KES01

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Material
Tantalio / Molibdeno / Tungsteno
Especificación
4CC/7CC/15CC/25CC/40CC
ISO & CE icon

Envío:

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Solicitud

El cañón de electrones produce un poderoso haz de electrones que se dirige al crisol. Los electrones calientan el material en el crisol hasta que se convierte en átomos o agrupaciones moleculares. Luego, esta nube se puede depositar sobre una superficie para formar una película delgada. En la evaporación por haz de electrones, el crisol es como un recipiente que contiene y calienta el material que se va a depositar. Está hecho de un material especial que puede soportar altas temperaturas sin derretirse. Ayudan a concentrar el calor en el material que se está evaporando.

Se utiliza principalmente para lo siguiente:

  • Deposición de película delgada: Ampliamente utilizado en tecnologías de deposición de película delgada, como la evaporación por haz de electrones, la producción de película delgada de dispositivos electrónicos, el recubrimiento óptico y la modificación de la superficie de los materiales.
  • Industria de semiconductores: deposición de películas metálicas delgadas como interconexiones, contactos óhmicos y barreras de difusión.
  • Óptica y Optoelectrónica: Recubrimientos ópticos, recubrimientos antirreflectantes y espejos para diversos dispositivos ópticos.

Detalle y piezas

Crisol de haz de pistola de electrones; crisol de molibdeno/tungsteno
Crisol de molibdeno/tungsteno
Crisol de nitruro de boro
Crisol de nitruro de boro
Crisol de grafito
Crisol de grafito

Especificaciones técnicas

producto Crisol de molibdeno/tungsteno Crisol de nitruro de boro/crisol de nitruro de boro conductor Crisol de grafito/Crisol de grafito revestido Crisoles recubiertos de grafito pirolítico Crisol de níquel Crisol de titanio crisol de cobre Crisol de alúmina
Especificación 4CC/7CC/15CC/25CC/40CC 4CC/7CC/15CC/25CC/40CC 4CC/7CC/15CC/25CC/40CC 4CC / 7CC 4CC 4CC 4CC / 2CC / 40CC 4CC

Los crisoles que mostramos están disponibles en diferentes tamaños y los tamaños personalizados están disponibles bajo pedido.

Ventaja

  • Mayor tasa de evaporación.
  • Mejorar la estabilidad al calor; calentamiento uniforme.
  • Reducir el calor transferido al crisol; Buen rendimiento de aislamiento térmico.
  • Permite cambios rápidos de material para minimizar el tiempo de inactividad de la cámara.
  • Compatibilidad con vacío; membrana de alta pureza.
  • Versatilidad; admite múltiples materiales.
  • Minimiza el daño y el mantenimiento del crisol.
  • Estas ventajas hacen que el crisol de haz de cañón de electrones sea una herramienta importante en el proceso de deposición de película delgada, proporcionando un control preciso, una alta tasa de deposición y una película delgada de alta calidad para diversas industrias y campos de investigación.

FAQ

¿Qué son las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica son dispositivos utilizados en los sistemas de evaporación térmica para depositar películas finas sobre sustratos. Funcionan calentando un material (evaporante) a altas temperaturas, lo que provoca su evaporación y posterior condensación sobre un sustrato, formando una película fina.

¿Qué es la deposición física de vapor (PVD)?

La deposición física de vapor (PVD) es una técnica para depositar películas delgadas al vaporizar un material sólido en el vacío y luego depositarlo sobre un sustrato. Los recubrimientos PVD son muy duraderos, resistentes a los arañazos y a la corrosión, lo que los hace ideales para una variedad de aplicaciones, desde células solares hasta semiconductores. PVD también crea películas delgadas que pueden soportar altas temperaturas. Sin embargo, PVD puede ser costoso y el costo varía según el método utilizado. Por ejemplo, la evaporación es un método de PVD de bajo costo, mientras que la pulverización catódica de haz de iones es bastante costosa. La pulverización catódica con magnetrón, por otro lado, es más costosa pero más escalable.

Comparación de la evaporación térmica y la evaporación por haz de electrones.

La evaporación por haz de electrones tiene muchas ventajas sobre la evaporación térmica. Es capaz de fundir materiales a muy altas temperaturas, incluso tungsteno, grafito...; Fácil de controlar la tasa de evaporación, combinado con un sensor de cristal de cuarzo como señal de retroalimentación para ajustar la corriente del haz de electrones para evaporar más material sin romper el vacío. Por lo tanto, la evaporación por haz de electrones se utiliza en el campo del procesamiento de películas delgadas, incluidos los semiconductores, la óptica, los paneles solares, el vidrio y el vidrio arquitectónico, para impartir las propiedades conductivas, reflectantes, transmisivas y electrónicas deseadas.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar crisoles cerámicos?

Los crisoles cerámicos ofrecen varias ventajas sobre otros tipos de crisoles. En primer lugar, tienen una excelente resistencia térmica, lo que les permite soportar altas temperaturas sin agrietarse ni deformarse. Los crisoles cerámicos también son químicamente inertes, lo que significa que no reaccionan con la mayoría de las sustancias, lo que los hace adecuados para una amplia gama de aplicaciones. Además, no son porosos, lo que garantiza que no haya contaminación ni absorción de materiales durante los procesos de calentamiento o fusión. Los crisoles de cerámica son muy duraderos y duraderos, lo que los convierte en una opción confiable para uso repetido. Además, los crisoles cerámicos se pueden fabricar en varias formas y tamaños para adaptarse a diferentes requisitos experimentales o industriales.

¿Cómo se fabrican los crisoles de grafito de alta pureza?

Los crisoles de grafito de alta pureza generalmente se fabrican mediante un proceso llamado prensado isostático. En este método, el polvo de grafito se coloca en un molde de goma y luego se somete a alta presión desde todas las direcciones. Esta presión compacta las partículas de grafito en una forma de crisol densa y uniforme. Luego, el crisol se calienta a alta temperatura para eliminar las impurezas y mejorar su pureza.

¿Cuáles son los principales tipos de fuentes de evaporación térmica?

Los principales tipos de fuentes de evaporación térmica son las fuentes de evaporación resistiva, las fuentes de evaporación por haz de electrones y las fuentes de evaporación flash. Cada tipo utiliza diferentes métodos para calentar el evaporante, como el calentamiento resistivo, el calentamiento por haz de electrones o el contacto directo con una superficie caliente.

¿Qué es la pulverización catódica con magnetrón?

La pulverización catódica con magnetrón es una técnica de recubrimiento basada en plasma que se utiliza para producir películas muy densas con una excelente adherencia, lo que la convierte en un método versátil para crear recubrimientos en materiales que tienen puntos de fusión altos y no se pueden evaporar. Este método genera un plasma confinado magnéticamente cerca de la superficie de un objetivo, donde los iones energéticos con carga positiva chocan con el material del objetivo con carga negativa, lo que hace que los átomos sean expulsados o "pulverizados". Estos átomos expulsados luego se depositan en un sustrato u oblea para crear el recubrimiento deseado.

¿Cuáles son los métodos utilizados para depositar películas delgadas?

Los dos métodos principales utilizados para depositar películas delgadas son la deposición química de vapor (CVD) y la deposición física de vapor (PVD). CVD implica la introducción de gases reactivos en una cámara, donde reaccionan en la superficie de la oblea para formar una película sólida. PVD no implica reacciones químicas; en cambio, los vapores de los materiales constituyentes se crean dentro de la cámara, que luego se condensan en la superficie de la oblea para formar una película sólida. Los tipos comunes de PVD incluyen la deposición por evaporación y la deposición por pulverización catódica. Los tres tipos de técnicas de deposición por evaporación son la evaporación térmica, la evaporación por haz de electrones y el calentamiento inductivo.

¿Qué es el objetivo de pulverización catódica?

Un objetivo de pulverización catódica es un material utilizado en el proceso de deposición por pulverización catódica, que consiste en romper el material objetivo en partículas diminutas que forman un rocío y recubren un sustrato, como una oblea de silicio. Los objetivos de pulverización catódica suelen ser elementos metálicos o aleaciones, aunque hay algunos objetivos cerámicos disponibles. Vienen en una variedad de tamaños y formas, y algunos fabricantes crean objetivos segmentados para equipos de pulverización catódica más grandes. Los objetivos de pulverización tienen una amplia gama de aplicaciones en campos como la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos debido a su capacidad para depositar películas delgadas con alta precisión y uniformidad.

¿Cuáles son algunos usos comunes de los crisoles de cerámica?

Los crisoles cerámicos tienen una amplia gama de aplicaciones en diversas industrias. Se utilizan comúnmente en laboratorios para calentar, fundir o calcinar sustancias durante experimentos o preparaciones de muestras. Los crisoles cerámicos también se utilizan ampliamente en procesos de producción de aleaciones y fundición de metales, ya que pueden soportar las altas temperaturas necesarias para fundir metales. Se utilizan en la producción de cerámica, vidrio y semiconductores, donde el control preciso de la temperatura y la resistencia química son cruciales. Además, los crisoles cerámicos encuentran aplicaciones en las industrias farmacéutica y química, así como en investigación y desarrollo, donde se utilizan para analizar y probar materiales en condiciones de temperatura extrema.

¿Cuáles son las aplicaciones comunes de los crisoles de grafito de alta pureza?

Los crisoles de grafito de alta pureza tienen una amplia gama de aplicaciones en industrias como la metalurgia, fundiciones y laboratorios. Se utilizan comúnmente para fundir y fundir metales no ferrosos, incluidos aluminio, cobre y metales preciosos. Los crisoles de grafito de alta pureza también se utilizan en la producción de aleaciones y cerámicas de alta temperatura. Son esenciales en procesos como análisis químicos, espectroscopia y preparación de muestras en laboratorios. Además, estos crisoles encuentran aplicaciones en la industria de los semiconductores para la fusión y el crecimiento de silicio y otros materiales semiconductores.

¿Cómo funcionan las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica funcionan haciendo pasar corriente eléctrica a través de un material resistivo, que se calienta hasta alcanzar altas temperaturas. Este calor se transfiere al evaporante, provocando su fusión y vaporización. A continuación, el vapor atraviesa una cámara de vacío y se condensa en un sustrato, formando una fina película.

¿Por qué pulverizar con magnetrón?

Se prefiere la pulverización catódica con magnetrón debido a su capacidad para lograr una alta precisión en el espesor de la película y la densidad de los recubrimientos, superando a los métodos de evaporación. Esta técnica es especialmente adecuada para crear recubrimientos metálicos o aislantes con propiedades ópticas o eléctricas específicas. Además, los sistemas de pulverización catódica con magnetrones se pueden configurar con múltiples fuentes de magnetrones.

¿Qué es un equipo de deposición de película delgada?

El equipo de deposición de película delgada se refiere a las herramientas y los métodos utilizados para crear y depositar recubrimientos de película delgada sobre un material de sustrato. Estos recubrimientos pueden estar hechos de varios materiales y tener diferentes características que pueden mejorar o alterar el desempeño del sustrato. La deposición física de vapor (PVD) es una técnica popular que consiste en vaporizar un material sólido en el vacío y luego depositarlo sobre un sustrato. Otros métodos incluyen la evaporación y la pulverización catódica. El equipo de deposición de película delgada se utiliza en la producción de dispositivos optoelectrónicos, implantes médicos y óptica de precisión, entre otros.

¿Cómo se fabrican los blancos de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se fabrican utilizando una variedad de procesos de fabricación según las propiedades del material objetivo y su aplicación. Estos incluyen fusión y laminado al vacío, prensado en caliente, proceso especial de sinterización a presión, prensado en caliente al vacío y métodos forjados. La mayoría de los materiales de destino de pulverización catódica se pueden fabricar en una amplia gama de formas y tamaños, siendo las formas circulares o rectangulares las más comunes. Los objetivos generalmente están hechos de elementos metálicos o aleaciones, pero también se pueden usar objetivos de cerámica. También hay disponibles objetivos de pulverización catódica compuestos, hechos de una variedad de compuestos que incluyen óxidos, nitruros, boruros, sulfuros, seleniuros, telururos, carburos, mezclas cristalinas y compuestas.

¿Cuáles son los materiales comunes utilizados para los crisoles de evaporación?

Los crisoles de evaporación suelen estar hechos de materiales como tungsteno, tantalio, molibdeno, grafito o compuestos cerámicos. Estos materiales tienen altos puntos de fusión y buena conductividad térmica, lo que los hace adecuados para las condiciones de alta temperatura requeridas durante la evaporación. La elección del material del crisol depende de factores como el material evaporante, las propiedades deseadas de la película y los parámetros del proceso.

¿Cómo puedo elegir el crisol cerámico adecuado para mi aplicación?

Al elegir un crisol cerámico para una aplicación específica, se deben considerar varios factores. En primer lugar, se debe determinar el rango de temperatura requerido para la aplicación, ya que los diferentes tipos de cerámicas tienen límites máximos de temperatura diferentes. Es importante seleccionar un crisol que pueda soportar la temperatura esperada sin deformarse ni dañarse. En segundo lugar, se debe considerar el tamaño y la capacidad del crisol para garantizar que pueda acomodar la cantidad requerida de material. La forma y el diseño del crisol también deben ser compatibles con la configuración experimental o el proceso industrial. Además, se debe evaluar la compatibilidad química del crisol con las sustancias que se utilizan para garantizar que no haya reacciones adversas ni contaminación. Consultar con proveedores o expertos en el campo puede ayudar a seleccionar el crisol cerámico más adecuado para aplicaciones específicas.

¿Qué factores se deben considerar al seleccionar crisoles de grafito de alta pureza?

Al seleccionar crisoles de grafito de alta pureza, se deben considerar varios factores. En primer lugar, el tamaño y la capacidad del crisol deben coincidir con la aplicación prevista y la cantidad de material que se va a fundir o procesar. Se deben evaluar la conductividad térmica, la resistencia al choque térmico y la compatibilidad química del crisol para garantizar que cumplan con los requisitos específicos del proceso. Es importante seleccionar crisoles fabricados con material de grafito de alta calidad con altos niveles de pureza para minimizar la contaminación y garantizar un rendimiento excelente. También se debe considerar el diseño y la construcción del crisol, como la presencia de asas o picos vertedores para facilitar su manejo. Además, es recomendable consultar con fabricantes o expertos en la materia para asegurar la selección de los crisoles de grafito de alta pureza más adecuados para aplicaciones específicas.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar fuentes de evaporación térmica?

Entre las ventajas de las fuentes de evaporación térmica se incluyen las altas velocidades de deposición, la buena direccionalidad, la excelente uniformidad y la compatibilidad con diversos materiales. También son relativamente sencillas y asequibles, lo que las hace adecuadas para una amplia gama de aplicaciones en la deposición de películas finas.

¿Cuáles son los materiales utilizados en la deposición de película delgada?

La deposición de película delgada comúnmente utiliza metales, óxidos y compuestos como materiales, cada uno con sus ventajas y desventajas únicas. Se prefieren los metales por su durabilidad y facilidad de depósito, pero son relativamente caros. Los óxidos son muy duraderos, pueden soportar altas temperaturas y pueden depositarse a bajas temperaturas, pero pueden ser quebradizos y difíciles de manipular. Los compuestos ofrecen resistencia y durabilidad, pueden depositarse a bajas temperaturas y adaptarse para exhibir propiedades específicas.

La selección del material para un recubrimiento de película delgada depende de los requisitos de la aplicación. Los metales son ideales para la conducción térmica y eléctrica, mientras que los óxidos son efectivos para ofrecer protección. Los compuestos se pueden adaptar para satisfacer necesidades específicas. En última instancia, el mejor material para un proyecto en particular dependerá de las necesidades específicas de la aplicación.

¿Qué es la tecnología de deposición de película delgada?

La tecnología de deposición de película delgada es el proceso de aplicar una película muy delgada de material, con un grosor que varía desde unos pocos nanómetros hasta 100 micrómetros, sobre la superficie de un sustrato o sobre recubrimientos previamente depositados. Esta tecnología se utiliza en la producción de productos electrónicos modernos, incluidos semiconductores, dispositivos ópticos, paneles solares, CD y unidades de disco. Las dos amplias categorías de deposición de película delgada son la deposición química, donde un cambio químico produce un revestimiento depositado químicamente, y la deposición física de vapor, donde un material se libera de una fuente y se deposita sobre un sustrato mediante procesos mecánicos, electromecánicos o termodinámicos.

¿Para qué se utiliza el objetivo de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se utilizan en un proceso llamado pulverización catódica para depositar películas delgadas de un material sobre un sustrato utilizando iones para bombardear el objetivo. Estos objetivos tienen una amplia gama de aplicaciones en varios campos, incluida la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos. Permiten la deposición de películas delgadas de materiales sobre una variedad de sustratos con alta precisión y uniformidad, lo que los convierte en una herramienta ideal para producir productos de precisión. Los objetivos de bombardeo iónico vienen en varias formas y tamaños y pueden especializarse para cumplir con los requisitos específicos de la aplicación.

¿Cuáles son las ventajas de utilizar crisoles evaporadores?

Los crisoles de evaporación ofrecen varias ventajas en los procesos de deposición de películas delgadas. Proporcionan un entorno controlado para la evaporación de materiales, lo que permite un control preciso sobre el espesor y la uniformidad de la película. Los crisoles pueden soportar altas temperaturas y proporcionar una transferencia de calor eficiente, lo que garantiza tasas de evaporación constantes. Están disponibles en varios tamaños y formas para adaptarse a diferentes sistemas de evaporación y configuraciones de sustrato. Los crisoles de evaporación también permiten la deposición de una amplia gama de materiales, incluidos metales, semiconductores y cerámicas. Se pueden cargar y descargar fácilmente, lo que facilita cambios rápidos de materiales o ajustes de procesos. En general, los crisoles de evaporación son herramientas esenciales en las técnicas de deposición de películas delgadas, ya que ofrecen versatilidad, confiabilidad y reproducibilidad.

¿Cómo se deben manipular y mantener los crisoles cerámicos?

El manejo y mantenimiento adecuados de los crisoles cerámicos son esenciales para garantizar su longevidad y rendimiento. Al manipular crisoles cerámicos, es importante evitar dejarlos caer o someterlos a cambios bruscos de temperatura, ya que esto puede provocar un choque térmico y provocar grietas o roturas. Es aconsejable utilizar herramientas adecuadas, como pinzas o guantes, para manipular crisoles calientes. Después de su uso, se debe dejar que los crisoles de cerámica se enfríen gradualmente antes de limpiarlos. La limpieza se puede realizar con agua tibia y un detergente suave, seguido de enjuagar y secar bien. Es importante evitar el uso de productos químicos agresivos o materiales abrasivos que puedan dañar la superficie cerámica. Se deben realizar inspecciones periódicas para detectar signos de desgaste, grietas o decoloración, y se deben reemplazar los crisoles dañados para garantizar la seguridad y precisión en experimentos o procesos industriales.

¿Para qué aplicaciones se utilizan las fuentes de evaporación térmica?

Las fuentes de evaporación térmica se utilizan en diversas aplicaciones, como la producción de revestimientos ópticos, dispositivos semiconductores y diversos tipos de películas finas. Son especialmente útiles en industrias que requieren un control preciso de la deposición de materiales sobre sustratos.

¿Cuáles son los métodos para lograr una deposición óptima de película delgada?

Para lograr películas delgadas con propiedades deseables, son esenciales objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de alta calidad. La calidad de estos materiales puede verse influenciada por varios factores, como la pureza, el tamaño del grano y el estado de la superficie.

La pureza de los objetivos de pulverización catódica o los materiales de evaporación juega un papel crucial, ya que las impurezas pueden causar defectos en la película delgada resultante. El tamaño del grano también afecta la calidad de la película delgada, y los granos más grandes conducen a propiedades deficientes de la película. Además, la condición de la superficie es crucial, ya que las superficies ásperas pueden provocar defectos en la película.

Para lograr objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de la más alta calidad, es crucial seleccionar materiales que posean alta pureza, tamaño de grano pequeño y superficies lisas.

Usos de la deposición de película delgada

Películas delgadas a base de óxido de zinc

Las películas delgadas de ZnO encuentran aplicaciones en varias industrias, como la térmica, óptica, magnética y eléctrica, pero su uso principal es en recubrimientos y dispositivos semiconductores.

Resistencias de película delgada

Las resistencias de película delgada son cruciales para la tecnología moderna y se utilizan en receptores de radio, placas de circuitos, computadoras, dispositivos de radiofrecuencia, monitores, enrutadores inalámbricos, módulos Bluetooth y receptores de teléfonos celulares.

Películas delgadas magnéticas

Las películas delgadas magnéticas se utilizan en electrónica, almacenamiento de datos, identificación por radiofrecuencia, dispositivos de microondas, pantallas, placas de circuitos y optoelectrónica como componentes clave.

Películas finas ópticas

Los recubrimientos ópticos y la optoelectrónica son aplicaciones estándar de películas delgadas ópticas. La epitaxia de haz molecular puede producir dispositivos optoelectrónicos de película delgada (semiconductores), donde las películas epitaxiales se depositan átomo por átomo sobre el sustrato.

Películas finas de polímero

Las películas delgadas de polímero se utilizan en chips de memoria, células solares y dispositivos electrónicos. Las técnicas de deposición química (CVD) ofrecen un control preciso de los recubrimientos de película de polímero, incluida la conformidad y el espesor del recubrimiento.

Baterías de película delgada

Las baterías de película delgada alimentan dispositivos electrónicos, como dispositivos médicos implantables, y la batería de iones de litio ha avanzado significativamente gracias al uso de películas delgadas.

Recubrimientos de película delgada

Los recubrimientos de película delgada mejoran las características químicas y mecánicas de los materiales objetivo en diversas industrias y campos tecnológicos. Los recubrimientos antirreflectantes, los recubrimientos antiultravioleta o antiinfrarrojos, los recubrimientos antirrayas y la polarización de lentes son algunos ejemplos comunes.

Células solares de película delgada

Las células solares de película delgada son esenciales para la industria de la energía solar, ya que permiten la producción de electricidad relativamente barata y limpia. Los sistemas fotovoltaicos y la energía térmica son las dos principales tecnologías aplicables.

¿Qué son los objetivos de pulverización catódica para la electrónica?

Los objetivos de pulverización para la electrónica son discos delgados o láminas de materiales como aluminio, cobre y titanio que se utilizan para depositar películas delgadas en obleas de silicio para crear dispositivos electrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados. Estos objetivos se utilizan en un proceso denominado pulverización catódica, en el que los átomos del material objetivo se expulsan físicamente de la superficie y se depositan en un sustrato bombardeando el objetivo con iones. Los objetivos de pulverización catódica para la electrónica son esenciales en la producción de microelectrónica y, por lo general, requieren alta precisión y uniformidad para garantizar dispositivos de calidad.

¿Cómo se deben manipular y mantener los crisoles de evaporación?

Los crisoles de evaporación deben manipularse y mantenerse con cuidado para garantizar su longevidad y rendimiento. Los crisoles deben limpiarse minuciosamente antes de cada uso para eliminar cualquier material residual de deposiciones anteriores. Evite el uso de materiales abrasivos que puedan dañar la superficie del crisol. Durante la carga y descarga, manipule los crisoles con guantes limpios o herramientas especializadas para evitar la contaminación. Cuando no esté en uso, almacene los crisoles en un ambiente seco y limpio para evitar la corrosión o degradación. La inspección periódica de los crisoles en busca de grietas, defectos o signos de desgaste es importante para evitar fallas inesperadas durante el proceso de evaporación. Siga las recomendaciones del fabricante para cualquier procedimiento de mantenimiento específico, como recocido o tratamiento de superficie, para prolongar la vida útil del crisol.

Factores y parámetros que influyen en la deposición de películas delgadas

Tasa de deposición:

La velocidad a la que se produce la película, normalmente medida en espesor dividido por el tiempo, es crucial para seleccionar una tecnología adecuada para la aplicación. Las tasas de deposición moderadas son suficientes para películas delgadas, mientras que las tasas de deposición rápidas son necesarias para películas gruesas. Es importante lograr un equilibrio entre la velocidad y el control preciso del espesor de la película.

Uniformidad:

La consistencia de la película sobre el sustrato se conoce como uniformidad, que generalmente se refiere al espesor de la película, pero también puede relacionarse con otras propiedades, como el índice de refracción. Es importante tener una buena comprensión de la aplicación para evitar la uniformidad de especificación insuficiente o excesiva.

Capacidad de llenado:

La capacidad de relleno o cobertura escalonada se refiere a qué tan bien el proceso de deposición cubre la topografía del sustrato. El método de deposición utilizado (p. ej., CVD, PVD, IBD o ALD) tiene un impacto significativo en la cobertura y el relleno del paso.

Características de la película:

Las características de la película dependen de los requisitos de la aplicación, que pueden categorizarse como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecánicos o químicos. La mayoría de las películas deben cumplir con los requisitos en más de una categoría.

Temperatura de proceso:

Las características de la película se ven significativamente afectadas por la temperatura del proceso, que puede estar limitada por la aplicación.

Daño:

Cada tecnología de deposición tiene el potencial de dañar el material sobre el que se deposita, y las características más pequeñas son más susceptibles al daño del proceso. La contaminación, la radiación ultravioleta y el bombardeo de iones se encuentran entre las posibles fuentes de daño. Es crucial entender las limitaciones de los materiales y herramientas.

¿Cuál es la vida útil de un objetivo de pulverización catódica?

La vida útil de un objetivo de pulverización catódica depende de factores como la composición del material, la pureza y la aplicación específica para la que se utiliza. En general, los objetivos pueden durar de varios cientos a miles de horas de pulverización catódica, pero esto puede variar ampliamente según las condiciones específicas de cada ejecución. La manipulación y el mantenimiento adecuados también pueden prolongar la vida útil de un objetivo. Además, el uso de objetivos de pulverización catódica rotativa puede aumentar los tiempos de ejecución y reducir la aparición de defectos, lo que los convierte en una opción más rentable para procesos de gran volumen.
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Barco de evaporación de tungsteno / molibdeno de fondo hemisférico

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Se utiliza para chapado en oro, chapado en plata, platino, paladio, adecuado para una pequeña cantidad de materiales de película delgada. Reduzca el desperdicio de materiales de película y reduzca la disipación de calor.

Bote de semicírculo de crisol de cerámica de alúmina (Al2O3) con tapa

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Los crisoles son recipientes ampliamente utilizados para fundir y procesar diversos materiales, y los crisoles semicirculares en forma de bote son adecuados para requisitos especiales de fundición y procesamiento. Sus tipos y usos varían según el material y la forma.

Sistema de hilado por fusión al vacío

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Desarrolle materiales metaestables con facilidad utilizando nuestro sistema de hilado por fusión al vacío. Ideal para trabajos de investigación y experimentación con materiales amorfos y microcristalinos. Ordene ahora para obtener resultados efectivos.

Crisol de evaporación para materia orgánica

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Un crisol de evaporación para materia orgánica, denominado crisol de evaporación, es un recipiente para evaporar disolventes orgánicos en un entorno de laboratorio.

Crisoles de alúmina (Al2O3) Análisis térmico cubierto / TGA / DTA

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Los recipientes de análisis térmico TGA/DTA están hechos de óxido de aluminio (corindón u óxido de aluminio). Puede soportar altas temperaturas y es adecuado para analizar materiales que requieren pruebas de alta temperatura.

Barco de evaporación de cerámica aluminizada

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Recipiente para depositar películas delgadas; tiene un cuerpo cerámico revestido de aluminio para mejorar la eficiencia térmica y la resistencia química. haciéndolo adecuado para diversas aplicaciones.

Crisol de alúmina (Al2O3) con tapa Crisol de laboratorio cilíndrico

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Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

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Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Crisol de nitruro de boro (BN) - polvo de fósforo sinterizado

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