Solución de paquete completo para equipos de laboratorio: todo para su investigación. Procesamiento de muestras, pruebas bioquímicas, investigación de nuevos materiales, etc.
El equipo de preparación de muestras KinTek incluye trituración de muestras, molienda, mientras que el equipo de tamizado, el equipo de prensa hidráulica incluye prensa manual, prensa eléctrica, prensa isostática, prensa en caliente y máquina de filtrado de prensa.
Ver detallesKinTek suministra una amplia gama de hornos de alta temperatura, incluyendo hornos de laboratorio, producción piloto e industrial, con un rango de temperatura de hasta 3000 ℃. La ventaja de KinTek es la capacidad de crear hornos hechos a medida para fines específicos, como diferentes métodos y velocidades de calentamiento, vacíos extra altos y dinámicos, atmósferas controladas y circuitos de gas, estructuras mecánicas automatizadas y desarrollo de software y hardware.
Ver detallesKinTek suministra diversos productos y materiales de laboratorio, como material de evaporación, metales, piezas electroquímicas, polvos de nuevos materiales, gránulos, alambres, tiras, láminas y placas consumibles.
Ver detallesEl equipo de bioquímica KinTek tiene evaporadores rotatorios de varios tipos, reactores de vidrio y acero inoxidable, sistemas de destilación, calentadores y enfriadores de circulación, y equipos de vacío.
Ver detallesAnaliza las dificultades del crecimiento de la película de TiN con corriente alterna y propone soluciones como el sputtering de corriente continua y la corriente continua pulsada.
Una mirada en profundidad a los principios, tipos, aplicaciones de gas y usos prácticos de los procesos de recubrimiento PVD.
Exploración en profundidad de los principios de diseño de sistemas de película fina, consideraciones tecnológicas y aplicaciones prácticas en diversos campos.
Análisis de los factores que provocan la no deposición de la película a pesar del resplandor en el sputtering por magnetrón.
Analiza los factores clave que influyen en la uniformidad de la deposición de películas finas en el sputtering por magnetrón, incluidos los parámetros del equipo, la potencia del sputtering, la presión del gas, la configuración del campo magnético, las propiedades del sustrato, etc.
Directrices para elegir los materiales de revestimiento al vacío adecuados en función de la aplicación, las propiedades del material, los métodos de deposición, la economía, la compatibilidad del sustrato y la seguridad.
Explora las razones por las que a los cátodos de renio les cuesta brillar durante el sputtering por magnetrón y ofrece sugerencias de optimización.
Parámetros clave que influyen en el efecto de sputtering en el sputtering por magnetrón, como la presión del aire, la potencia, la distancia al objetivo, el tipo de sustrato, etc.