Piezas de deposición de película fina
Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de tungsteno / Crisol de molibdeno
Número de artículo : KMS04
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Material
- Molibdeno / Tungsteno
- Especificación
- 30-50mm*15-25mm
Envío:
Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Solicita tu cotización personalizada 👋
¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via Chat en líneaSolicitud
La evaporación por haz de electrones (EBE) es una técnica de deposición física de vapor (PVD) para la deposición de películas delgadas. En EBE, se utiliza un haz de electrones de alta energía para calentar y vaporizar un material sólido, que luego se condensa en un sustrato para formar una película delgada. Los crisoles de tungsteno y molibdeno se utilizan comúnmente en los procesos de evaporación por haz de electrones debido a sus excelentes propiedades térmicas y mecánicas. Los crisoles de tungsteno/molibdeno se utilizan comúnmente para la deposición de películas delgadas en la producción de microelectrónica, como circuitos integrados (CI) y microprocesadores; procesos de recubrimiento óptico, para depositar películas delgadas sobre lentes, espejos u otros componentes ópticos; son deposiciones de película delgada para recubrimientos antirreflectantes o capas conductoras; Recubrimientos resistentes al desgaste: los crisoles de tungsteno se pueden usar para depositar recubrimientos resistentes al desgaste en varios componentes, como herramientas de corte o piezas de motores, etc.
Detalle y piezas
Especificaciones técnicas
| Diámetro exterior y alto | 30*15mm | 34*20mm | 35*17mm | 40*17mm | 42*19mm | 45*22mm | 50 mm * 22 |
Los crisoles que mostramos están disponibles en diferentes tamaños y los tamaños personalizados están disponibles bajo pedido.
Ventajas
- Punto de fusión muy alto; adecuado para el procesamiento de materiales de alto punto de fusión. Alta conductividad térmica para una transferencia de calor eficiente durante la evaporación.
- Alta pureza; el uso de un crisol de tungsteno ayuda a garantizar la pureza de la película depositada.
- Alta resistencia mecánica; El tungsteno es conocido por su excelente resistencia mecánica y resistencia a la deformación a altas temperaturas.
- baja presión de vapor; El tungsteno tiene una presión de vapor baja que ayuda a minimizar la contaminación y a mantener un entorno de vacío limpio durante la evaporación.
FAQ
¿Qué Son Los Barcos De Tungsteno?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Embarcaciones De Tungsteno?
¿Qué Son Las Fuentes De Evaporación Térmica?
¿Qué Es La Deposición Física De Vapor (PVD)?
¿Cuáles Son Los Principales Tipos De Fuentes De Evaporación Térmica?
¿Qué Es La Pulverización Catódica Con Magnetrón?
¿Cuáles Son Los Métodos Utilizados Para Depositar Películas Delgadas?
¿Qué Es El Objetivo De Pulverización Catódica?
¿Cómo Funcionan Las Fuentes De Evaporación Térmica?
¿Por Qué Pulverizar Con Magnetrón?
¿Qué Es Un Equipo De Deposición De Película Delgada?
¿Cómo Se Fabrican Los Blancos De Pulverización Catódica?
¿Cuáles Son Los Materiales Comunes Utilizados Para Los Crisoles De Evaporación?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Fuentes De Evaporación Térmica?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Barcos De Evaporación?
¿Cuáles Son Los Materiales Utilizados En La Deposición De Película Delgada?
La deposición de película delgada comúnmente utiliza metales, óxidos y compuestos como materiales, cada uno con sus ventajas y desventajas únicas. Se prefieren los metales por su durabilidad y facilidad de depósito, pero son relativamente caros. Los óxidos son muy duraderos, pueden soportar altas temperaturas y pueden depositarse a bajas temperaturas, pero pueden ser quebradizos y difíciles de manipular. Los compuestos ofrecen resistencia y durabilidad, pueden depositarse a bajas temperaturas y adaptarse para exhibir propiedades específicas.
La selección del material para un recubrimiento de película delgada depende de los requisitos de la aplicación. Los metales son ideales para la conducción térmica y eléctrica, mientras que los óxidos son efectivos para ofrecer protección. Los compuestos se pueden adaptar para satisfacer necesidades específicas. En última instancia, el mejor material para un proyecto en particular dependerá de las necesidades específicas de la aplicación.
¿Qué Es La Tecnología De Deposición De Película Delgada?
¿Para Qué Se Utiliza El Objetivo De Pulverización Catódica?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Crisoles Evaporadores?
¿Para Qué Aplicaciones Se Utilizan Las Fuentes De Evaporación Térmica?
¿Cuál Es La Vida útil Típica De Un Barco De Evaporación?
¿Cuáles Son Los Métodos Para Lograr Una Deposición óptima De Película Delgada?
Para lograr películas delgadas con propiedades deseables, son esenciales objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de alta calidad. La calidad de estos materiales puede verse influenciada por varios factores, como la pureza, el tamaño del grano y el estado de la superficie.
La pureza de los objetivos de pulverización catódica o los materiales de evaporación juega un papel crucial, ya que las impurezas pueden causar defectos en la película delgada resultante. El tamaño del grano también afecta la calidad de la película delgada, y los granos más grandes conducen a propiedades deficientes de la película. Además, la condición de la superficie es crucial, ya que las superficies ásperas pueden provocar defectos en la película.
Para lograr objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de la más alta calidad, es crucial seleccionar materiales que posean alta pureza, tamaño de grano pequeño y superficies lisas.
Usos De La Deposición De Película Delgada
Películas delgadas a base de óxido de zinc
Las películas delgadas de ZnO encuentran aplicaciones en varias industrias, como la térmica, óptica, magnética y eléctrica, pero su uso principal es en recubrimientos y dispositivos semiconductores.
Resistencias de película delgada
Las resistencias de película delgada son cruciales para la tecnología moderna y se utilizan en receptores de radio, placas de circuitos, computadoras, dispositivos de radiofrecuencia, monitores, enrutadores inalámbricos, módulos Bluetooth y receptores de teléfonos celulares.
Películas delgadas magnéticas
Las películas delgadas magnéticas se utilizan en electrónica, almacenamiento de datos, identificación por radiofrecuencia, dispositivos de microondas, pantallas, placas de circuitos y optoelectrónica como componentes clave.
Películas finas ópticas
Los recubrimientos ópticos y la optoelectrónica son aplicaciones estándar de películas delgadas ópticas. La epitaxia de haz molecular puede producir dispositivos optoelectrónicos de película delgada (semiconductores), donde las películas epitaxiales se depositan átomo por átomo sobre el sustrato.
Películas finas de polímero
Las películas delgadas de polímero se utilizan en chips de memoria, células solares y dispositivos electrónicos. Las técnicas de deposición química (CVD) ofrecen un control preciso de los recubrimientos de película de polímero, incluida la conformidad y el espesor del recubrimiento.
Baterías de película delgada
Las baterías de película delgada alimentan dispositivos electrónicos, como dispositivos médicos implantables, y la batería de iones de litio ha avanzado significativamente gracias al uso de películas delgadas.
Recubrimientos de película delgada
Los recubrimientos de película delgada mejoran las características químicas y mecánicas de los materiales objetivo en diversas industrias y campos tecnológicos. Los recubrimientos antirreflectantes, los recubrimientos antiultravioleta o antiinfrarrojos, los recubrimientos antirrayas y la polarización de lentes son algunos ejemplos comunes.
Células solares de película delgada
Las células solares de película delgada son esenciales para la industria de la energía solar, ya que permiten la producción de electricidad relativamente barata y limpia. Los sistemas fotovoltaicos y la energía térmica son las dos principales tecnologías aplicables.
¿Qué Son Los Objetivos De Pulverización Catódica Para La Electrónica?
¿Cómo Se Deben Manipular Y Mantener Los Crisoles De Evaporación?
¿Se Pueden Reutilizar Los Barcos De Evaporación?
Factores Y Parámetros Que Influyen En La Deposición De Películas Delgadas
Tasa de deposición:
La velocidad a la que se produce la película, normalmente medida en espesor dividido por el tiempo, es crucial para seleccionar una tecnología adecuada para la aplicación. Las tasas de deposición moderadas son suficientes para películas delgadas, mientras que las tasas de deposición rápidas son necesarias para películas gruesas. Es importante lograr un equilibrio entre la velocidad y el control preciso del espesor de la película.
Uniformidad:
La consistencia de la película sobre el sustrato se conoce como uniformidad, que generalmente se refiere al espesor de la película, pero también puede relacionarse con otras propiedades, como el índice de refracción. Es importante tener una buena comprensión de la aplicación para evitar la uniformidad de especificación insuficiente o excesiva.
Capacidad de llenado:
La capacidad de relleno o cobertura escalonada se refiere a qué tan bien el proceso de deposición cubre la topografía del sustrato. El método de deposición utilizado (p. ej., CVD, PVD, IBD o ALD) tiene un impacto significativo en la cobertura y el relleno del paso.
Características de la película:
Las características de la película dependen de los requisitos de la aplicación, que pueden categorizarse como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecánicos o químicos. La mayoría de las películas deben cumplir con los requisitos en más de una categoría.
Temperatura de proceso:
Las características de la película se ven significativamente afectadas por la temperatura del proceso, que puede estar limitada por la aplicación.
Daño:
Cada tecnología de deposición tiene el potencial de dañar el material sobre el que se deposita, y las características más pequeñas son más susceptibles al daño del proceso. La contaminación, la radiación ultravioleta y el bombardeo de iones se encuentran entre las posibles fuentes de daño. Es crucial entender las limitaciones de los materiales y herramientas.
¿Cuál Es La Vida útil De Un Objetivo De Pulverización Catódica?
¿Cómo Se Selecciona El Material Adecuado Para El Barco De Evaporación?
4.8
out of
5
Electron beam evaporation coating made simple and efficient with Kintek Solution's tools.
4.9
out of
5
Kintek Solution's crucibles have taken our manufacturing process to the next level. The quality and durability are second to none.
4.7
out of
5
The expertise of Kintek Solution in electron beam evaporation coating is evident in their outstanding products.
4.8
out of
5
Kintek Solution's crucibles have revolutionized our thin film deposition process, delivering exceptional results.
4.7
out of
5
Kintek Solution has set a new standard for electron beam evaporation coating. Their products are a testament to their commitment to quality.
4.9
out of
5
Kintek Solution's crucibles have accelerated our manufacturing process, enabling us to meet increasing demands efficiently.
4.6
out of
5
Kintek Solution's electron beam evaporation coating solution has transformed our manufacturing process, delivering exceptional results.
4.7
out of
5
Kintek Solution's crucibles have exceeded our expectations, providing superior outcomes in our electron beam evaporation process.
4.8
out of
5
Kintek Solution's electron beam evaporation coating products are a game-changer, delivering precision and reliability.
PDF - Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de tungsteno / Crisol de molibdeno
Descargarcatalogo de Piezas De Deposición De Película Fina
Descargarcatalogo de Crisol De Evaporación
Descargarcatalogo de Barco De Tungsteno
Descargarcatalogo de Fuentes De Evaporación Térmica
Descargarcatalogo de Barco De Evaporación
Descargarcatalogo de Materiales De Deposición De Película Delgada
Descargarcatalogo de Equipo De Deposito De Pelicula Delgada
Descargarcatalogo de Objetivos De Pulverización Catódica
DescargarSOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Estos crisoles actúan como contenedores para el material de oro evaporado por el haz de evaporación de electrones mientras dirigen con precisión el haz de electrones para una deposición precisa.
Crisol de haz de pistola de electrones
En el contexto de la evaporación por haz de cañón de electrones, un crisol es un contenedor o soporte de fuente que se utiliza para contener y evaporar el material que se depositará sobre un sustrato.
Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno
Cuando se utilizan técnicas de evaporación por haz de electrones, el uso de crisoles de cobre sin oxígeno minimiza el riesgo de contaminación por oxígeno durante el proceso de evaporación.
Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de nitruro de boro conductivo (crisol BN)
Crisol de nitruro de boro conductor suave y de alta pureza para recubrimiento por evaporación de haz de electrones, con rendimiento de alta temperatura y ciclo térmico.
Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones
Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.
Barco de evaporación de tungsteno
Aprenda sobre los botes de tungsteno, también conocidos como botes de tungsteno evaporado o revestido. Con un alto contenido de tungsteno del 99,95%, estos barcos son ideales para entornos de alta temperatura y ampliamente utilizados en diversas industrias. Descubre aquí sus propiedades y aplicaciones.
Barco de evaporación de molibdeno/tungsteno/tantalio - forma especial
El bote de evaporación de tungsteno es ideal para la industria de recubrimiento al vacío y hornos de sinterización o recocido al vacío. Ofrecemos botes de evaporación de tungsteno que están diseñados para ser duraderos y robustos, con una vida útil prolongada y para garantizar una distribución constante, suave y uniforme de los metales fundidos.
Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD
Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.
Barco de evaporación de tungsteno / molibdeno de fondo hemisférico
Se utiliza para chapado en oro, chapado en plata, platino, paladio, adecuado para una pequeña cantidad de materiales de película delgada. Reduzca el desperdicio de materiales de película y reduzca la disipación de calor.
Barco de evaporación de molibdeno/tungsteno/tantalio
Las fuentes de evaporación en barco se utilizan en sistemas de evaporación térmica y son adecuadas para depositar diversos metales, aleaciones y materiales. Las fuentes de evaporación en barco están disponibles en diferentes espesores de tungsteno, tantalio y molibdeno para garantizar la compatibilidad con una variedad de fuentes de energía. Como recipiente, se utiliza para la evaporación al vacío de materiales. Pueden usarse para la deposición de películas delgadas de diversos materiales o diseñarse para que sean compatibles con técnicas como la fabricación por haz de electrones.
Juego de botes de evaporación de cerámica
Se puede utilizar para la deposición de vapor de varios metales y aleaciones. La mayoría de los metales se pueden evaporar completamente sin pérdidas. Las cestas de evaporación son reutilizables.
Alambre de tungsteno evaporado térmicamente
Tiene un alto punto de fusión, conductividad térmica y eléctrica y resistencia a la corrosión. Es un material valioso para alta temperatura, vacío y otras industrias.
Crisoles de alúmina (Al2O3) Análisis térmico cubierto / TGA / DTA
Los recipientes de análisis térmico TGA/DTA están hechos de óxido de aluminio (corindón u óxido de aluminio). Puede soportar altas temperaturas y es adecuado para analizar materiales que requieren pruebas de alta temperatura.
Crisol de evaporación de grafito
Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.
Bote de semicírculo de crisol de cerámica de alúmina (Al2O3) con tapa
Los crisoles son recipientes ampliamente utilizados para fundir y procesar diversos materiales, y los crisoles semicirculares en forma de bote son adecuados para requisitos especiales de fundición y procesamiento. Sus tipos y usos varían según el material y la forma.
Crisol de cerámica de alúmina (Al2O3) para horno de mufla de laboratorio
Los crisoles de cerámica de alúmina se utilizan en algunos materiales y herramientas de fundición de metales, y los crisoles de fondo plano son adecuados para fundir y procesar lotes más grandes de materiales con mejor estabilidad y uniformidad.
Crisol de alúmina (Al2O3) con tapa Crisol de laboratorio cilíndrico
Crisoles cilíndricos Los crisoles cilíndricos son una de las formas de crisol más comunes, adecuados para fundir y procesar una amplia variedad de materiales, y son fáciles de manejar y limpiar.
Crisol de evaporación para materia orgánica
Un crisol de evaporación para materia orgánica, denominado crisol de evaporación, es un recipiente para evaporar disolventes orgánicos en un entorno de laboratorio.
Artículos relacionados
Explorando los beneficios de usar tungsteno para calentar hornos
El tungsteno tiene una serie de propiedades que lo hacen adecuado para su uso en hornos de alta temperatura.
Un estudio comparativo de las técnicas de evaporación y pulverización catódica en la deposición de película delgada
Las dos técnicas más comunes utilizadas para la deposición de películas delgadas son la evaporación y la pulverización catódica.
Comprensión de la prensa isostática caliente: una herramienta esencial en la fabricación de productos electrónicos
El equipo de prensa isostática en caliente (WIP), también conocido como laminador isostático en caliente, es una tecnología de vanguardia que combina el prensado isostático con un elemento calefactor. Utiliza agua tibia o un medio similar para aplicar una presión uniforme a los productos en polvo desde todas las direcciones. El proceso implica dar forma y prensar el material en polvo utilizando materiales flexibles como molde de camisa y presión hidráulica como medio de presión.
Recubrimiento por evaporación de haz de electrones: Ventajas, desventajas y aplicaciones
Una mirada en profundidad a los pros y los contras del revestimiento por evaporación de haces de electrones y sus diversas aplicaciones en la industria.
Horno de fusión al vacío: Guía completa de la fusión por inducción al vacío
Descubra los entresijos de los hornos de fusión por inducción al vacío, sus componentes, funcionamiento, ventajas y aplicaciones. Explore cómo estos hornos revolucionan el procesamiento de metales y consiguen propiedades excepcionales de los materiales.
Selección de materiales de revestimiento al vacío: Factores clave y consideraciones
Directrices para elegir los materiales de revestimiento al vacío adecuados en función de la aplicación, las propiedades del material, los métodos de deposición, la economía, la compatibilidad del sustrato y la seguridad.
Tecnología de revestimiento al vacío: Desarrollo y aplicación
Explora la evolución, métodos y aplicaciones de la tecnología de recubrimiento al vacío, centrándose en el PVD y su impacto en las herramientas y moldes industriales.
Métodos de recubrimiento para el cultivo de películas monocristalinas
Una visión general de varios métodos de recubrimiento como CVD, PVD y epitaxia para el crecimiento de películas monocristalinas.
Procesos de deposición de capas finas en la fabricación de semiconductores
Una visión general de las técnicas de deposición de películas finas, centrándose en los procesos de deposición química en fase vapor (CVD) y deposición física en fase vapor (PVD) en la fabricación de semiconductores.
Tecnología de deposición por pulverización catódica
Una mirada en profundidad a la tecnología de deposición por pulverización catódica, sus mecanismos, tipos y aplicaciones.
Desafíos en el logro de la descarga luminiscente con cátodos de renio en el sputtering con magnetrón
Explora las razones por las que a los cátodos de renio les cuesta brillar durante el sputtering por magnetrón y ofrece sugerencias de optimización.
Chispas en el material objetivo durante el recubrimiento por magnetrón: Causas y soluciones
Explica por qué el material objetivo produce chispas durante el sputtering por magnetrón y ofrece soluciones para evitarlo.