Horno de vacío
2200 ℃ Grafito Horno de vacío
Número de artículo : KT-VG
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 2200 ℃
- Temperatura de trabajo constante
- 2100 ℃
- Velocidad de calentamiento
- 0-10 ℃/min
- Volumen efectivo
- 12-150 L
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El Horno de Grafito al Vacío 2200℃ es un horno de alta temperatura que utiliza fieltro de grafito como material de aislamiento térmico y varillas resistentes de grafito como elemento de calentamiento. Puede alcanzar una temperatura máxima de trabajo de hasta 2200℃, lo que lo hace ideal para la sinterización por reacción en vacío de diversos materiales como aleación de tungsteno, carburo de silicio, aleación de molibdeno, aleación de titanio, carburo cementado y materiales de carbono.
El horno presenta un alto rendimiento de vacío, con un nivel de vacío máximo de hasta 6*10-3Pa, y sin gaseado a alta temperatura. También tiene un excelente rendimiento de mantenimiento de la presión de vacío, con una tasa de aumento de la presión de vacío de 0,67Pa/h.
Las características de seguridad del horno incluyen protección contra sobrecorriente y función de alarma de sobretemperatura, con apagado automático. También tiene incorporada una función de detección de par térmico, con parada automática del calentamiento y alarma en caso de detección de rotura o fallo.
Aplicaciones
El horno de vacío para grafito KT-VG es un horno de alta temperatura excepcional que se utiliza ampliamente en diversas industrias para el tratamiento a alta temperatura de materiales en un entorno de vacío o atmósfera protectora. Estas son algunas de sus principales áreas de aplicación:
- Sinterización por reacción en vacío de diversos materiales como aleación de tungsteno, carburo de silicio, aleación de molibdeno, aleación de titanio, carburo cementado y materiales de carbono.
- Soldadura fuerte y blanda a alta temperatura
- Recocido y tratamiento térmico de metales y aleaciones
- Desmoldeo y sinterización de materiales cerámicos
- Crecimiento de cristales
- Recubrimiento y deposición al vacío
- Investigación y desarrollo de nuevos materiales
Características
El horno de grafito al vacío de tipo horizontal es un horno de alto rendimiento ideal para aplicaciones de sinterización al vacío y en atmósfera controlada. Con sus características y capacidades avanzadas, este horno ofrece numerosas ventajas a los usuarios, entre las que se incluyen:
- Súper alta temperatura de trabajo:** Capaz de alcanzar temperaturas de hasta 2200℃, lo que lo hace adecuado para el tratamiento a alta temperatura de diversos materiales.
- Alto rendimiento de vacío:** Alcanza un nivel de vacío máximo de hasta 6*10-3Pa, asegurando un ambiente limpio y controlado para el procesamiento de materiales.
- Excelente rendimiento de mantenimiento de la presión de vacío:** Mantiene un entorno de vacío estable con una tasa de aumento de presión de sólo 0,67Pa/h, evitando la contaminación y garantizando la integridad del proceso.
- Diseño de doble capa del cuerpo de la carcasa de vacío:** Presenta una carcasa de doble capa para la refrigeración rápida por circulación de agua fría, reduciendo eficazmente la temperatura de la superficie de la carcasa exterior para mejorar la seguridad y la comodidad del operario.
- Puertos independientes de entrada y salida de aire:** Permite trabajar en atmósfera controlada, lo que permite a los usuarios adaptar el entorno del horno a los requisitos específicos del proceso.
- Válvulas de vacío neumáticas manuales y automáticas opcionales:** Proporciona flexibilidad en el control del vacío, adaptándose a diferentes requisitos de trabajo y necesidades de automatización.
- Sistema de control de temperatura por microprocesador programable PID:** Garantiza un control preciso de la temperatura, optimizando los resultados del proceso y reduciendo los defectos del producto.
- Configuración profesional de los elementos calefactores:** Optimizada para la radiación de calor y la longevidad, maximizando el rendimiento y prolongando la vida útil.
- Sistema de enclavamiento de seguridad:** Apaga el horno cuando la puerta está abierta o en casos de sobretemperatura o fallo del sensor, garantizando la seguridad del operario y evitando accidentes.
Principio
El horno de grafito al vacío 2200 ℃ utiliza un elemento calefactor de grafito de alta temperatura dentro de una cámara de grafito aislada. Este diseño especializado permite un control preciso de la temperatura y una distribución uniforme del calentamiento. El horno funciona en condiciones de vacío, lo que permite el procesamiento en atmósfera controlada de materiales a temperaturas elevadas. El entorno de vacío minimiza la contaminación por gas, la oxidación y la desgasificación, garantizando la pureza y la integridad de los materiales tratados.
Ventajas
- Temperatura de trabajo superalta en vacío y sinterización en atmósfera controlada
- Alto rendimiento de vacío, con un nivel de vacío máximo de hasta 6*10-3Pa, y sin desgasificación a alta temperatura.
- Excelente rendimiento de mantenimiento de la presión de vacío, con una tasa de aumento de la presión de vacío de 0,67Pa/h.
- Cuerpo de vacío de doble capa, con camisa para refrigeración rápida por circulación de agua fría.
- Puertos de entrada y salida de aire independientes, con una función de trabajo en atmósfera controlada disponible también
- Válvulas de vacío neumáticas manuales y automáticas opcionales para diferentes requisitos de trabajo
- Sistema de control de temperatura por microprocesador programable PID, que garantiza un control preciso de la temperatura
- Configuración profesional de los elementos calefactores para optimizar las propiedades de radiación térmica y garantizar la máxima vida útil.
- Sistema de enclavamiento de seguridad, que apaga el horno cuando la puerta está abierta, o en casos de sobretemperatura o fallo del sensor
Ventajas de seguridad
- Protección contra sobrecorriente y función de alarma por sobretemperatura, con apagado automático
- Función incorporada de detección de par térmico, con parada automática del calentamiento y alarma en caso de rotura o detección de fallo
- Función de reinicio por fallo de alimentación, que reanuda el programa de calentamiento del horno cuando se restablece la alimentación después de un fallo de alimentación
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-VG | ||
| Temperatura máxima | 2200 ℃ | ||
| Temperatura de trabajo constante | 2100 ℃ | ||
| Material de aislamiento de la cámara | Fieltro de grafito | ||
| Elemento calefactor | Varilla resistente de grafito | ||
| Velocidad de calentamiento | 0-10℃/min | ||
| Sensor de temperatura | Termopar T/R y termómetro de infrarrojos | ||
| Controlador de temperatura | Controlador PID de pantalla táctil con PLC | ||
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ | ||
| Alimentación eléctrica | AC110-440V,50/60HZ | ||
| Tamaños de cámara estándar Existencias | |||
| Tamaño de la cámara (mm) | Volumen efectivo (L) | Tamaño de la cámara (mm) | Volumen efectivo (L) |
| 200x200x300 | 12 | 400x400x600 | 96 |
| 300x300x400 | 36 | 500x500x700 | 150 |
| Se aceptan tamaños y volúmenes diseñados por el cliente | |||
Configuración opcional
- Control y registro independientes de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Conexión opcional de la válvula de vacío neumática con el controlador de temperatura
- Controlador de temperatura de pantalla táctil con funciones versátiles y fáciles de usar
- Máquina de refrigeración por circulación de agua fría para el sistema de refrigeración de la camisa del horno
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
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FAQ
¿Para qué se utiliza un horno de vacío?
¿Qué es un horno de grafitización?
¿Qué es el horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué es un horno tubular?
El horno tubular de laboratorio es un horno tubular de alta temperatura de calentamiento externo clásico, también llamado horno de calentamiento de pared caliente.
De acuerdo con las diferentes temperaturas de trabajo, el material del tubo del horno generalmente puede ser tubos de cuarzo transparente, tubos de cerámica de alúmina de alta pureza y tubos de aleación de metal de alta resistencia.
Para cumplir con diferentes propósitos de investigación térmica, el horno tubular se puede diseñar con múltiples zonas de calentamiento, para tener un control flexible del gradiente de temperatura en la cámara de trabajo del tubo; El tubo del horno puede funcionar con un entorno de trabajo de atmósfera controlada o un entorno de trabajo de alto vacío.
¿Cuál es el proceso de un horno de vacío?
¿Cuál es el propósito de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuáles son las principales aplicaciones de los hornos de grafitización?
¿Cómo funciona un horno de fusión por inducción al vacío?
¿Qué es el proceso de fusión por arco al vacío?
¿Cómo funciona el horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Qué es un horno atmosférico?
¿Cómo funciona un horno tubular?
Los elementos calefactores del horno tubular se colocan alrededor de la cavidad cilíndrica, el horno solo puede calentar las muestras en la cavidad cilíndrica a través de la radiación térmica indirecta, ya que el tubo del horno puede evitar que el material de la muestra entre en contacto con los elementos calefactores del horno y los materiales de aislamiento, por lo que el horno tubular crea un aislamiento limpio. calentar la cámara y reducir los riesgos de que el material de la muestra se contamine con el horno.
¿Qué gas se utiliza en un horno de vacío?
¿Cuáles son las ventajas de un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cuáles son los diferentes tipos de hornos de grafitización?
¿Cuáles son las ventajas de la fusión por inducción al vacío?
¿Qué es el horno de refundición por arco al vacío (VAR) VAR?
¿Qué gas se utiliza en el proceso de CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Cuál es el uso del horno de atmósfera?
¿Cuál es la aplicación para horno tubular?
El horno tubular se utiliza principalmente en metalurgia, vidrio, tratamiento térmico, materiales de ánodo y cátodo de litio, nueva energía, abrasivos y otras industrias, y es un equipo profesional para medir materiales bajo ciertas condiciones de temperatura.
El horno tubular presenta una estructura simple, fácil operación, fácil control y producción continua.
El horno tubular también se aplica ampliamente en los sistemas CVD (deposición química de vapor) y CVD mejorados con plasma.
¿Cuál es el elemento calefactor utilizado en un horno de vacío?
¿Cómo funciona un horno de prensado en caliente al vacío?
¿Cómo funciona un horno de grafitización?
¿Cómo ayuda el vacío en el horno de fusión por inducción?
¿Cómo funciona el horno de fusión por arco al vacío?
¿Cuál es la ventaja del sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cuántos tipos diferentes de hornos tubulares?
El horno tubular puede funcionar con diferentes funciones mecánicas sin problemas, por lo que hay muchos tipos diferentes de variaciones de horno tubular para diferentes propósitos experimentales, los hornos típicos son los siguientes:
- Horno tubular horizontal
- Horno tubular vertical
- Horno de tubo partido
- Horno de tubo rotatorio
- Horno de tubo basculante
- Horno de tubo deslizante
- Horno tubular de calentamiento y enfriamiento rápido
- Horno tubular de alimentación y descarga continua
¿Cuáles son las ventajas de utilizar un horno de grafitización?
¿Qué es el horno de fusión por inducción al vacío?
¿Qué significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Cuál es la diferencia entre CVD y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
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KT-VG Graphite vacuum furnace is a remarkable advanced intelligent heating furnace, with accurate temperature control. It's a great choice for high-temperature treatment of materials.
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The graphite-based furnace offers top-notch thermal efficiency, thanks to its graphite wafer. It's lightweight and provides uniform heating, making it an ideal choice for various applications.
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The electron microscope pictures clearly showcase the transformation of graphite layers before and after heat treatment. This furnace delivers exceptional results for graphitization processes.
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The graphite rod selection is crucial for uniform heating and extended service life. Proper usage and temperature control ensure the longevity of the graphite rod.
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Vacuum sintering furnace offers versatility for processing various materials like hard alloys, carbon composites, and photoelectric coating materials. It's a valuable tool for high-temperature sintering.
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The choice of heating elements, like graphite, molybdenum, or tungsten, enables precise temperature control and efficient heating in vacuum furnaces.
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KT-VG Graphite vacuum furnace excels in vacuum reaction sintering of materials like tungsten alloy, silicon carbide, and molybdenum alloy. Its exceptional temperature control ensures consistent results.
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The temperature sensor with a Tungsten rhenium thermocouple and an infrared thermometer enhances temperature accuracy and reliability, ensuring precise control during the heating process.
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The vacuum shell body's double-layer design with cold water circulation cooling effectively reduces the outer shell temperature, enhancing safety and user comfort.
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The independent air input and output ports allow for a controlled atmosphere working function, expanding the furnace's capabilities and enabling various process conditions.
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The PID programmable microprocessor temperature control system ensures accurate and stable temperature regulation, ensuring precise heating and uniform results.
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The professional heating elements configuration optimizes heat radiation properties, maximizing energy efficiency and extending the service life of the furnace.
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The safety interlock system provides peace of mind, automatically powering off the furnace when the door is open or in cases of over-temperature or sensor failure, ensuring user safety.
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The overcurrent protection and over-temperature alarming function, along with automatic power-off, ensure safe operation and prevent potential hazards, enhancing user confidence.
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The built-in thermal couple detecting function offers an additional layer of safety by automatically stopping heating and triggering an alarm in case of breakage or failure detection, minimizing downtime and ensuring reliable operation.
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The power failure restarting function is a lifesaver! It resumes the heating program upon power restoration, preventing disruptions and ensuring seamless continuation of processes.
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The optional setups, such as independent furnace temperature monitoring and RS 485 communication port, provide enhanced control and data management capabilities, making the furnace even more versatile and user-friendly.
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The cold water circulation cooling machine for the furnace shell jacket cooling system is a great addition, ensuring effective temperature regulation and extending the lifespan of the furnace.
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KT-VG Graphite vacuum furnace is an exceptional choice for high-temperature applications. Its advanced features, safety mechanisms, and optional setups make it a reliable and versatile tool in any laboratory.
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