horno tubular
Horno tubular vertical
Número de artículo : KT-VTF
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1800℃
- Diámetro del tubo del horno
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Longitud de la zona de calentamiento
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Los hornos tubulares verticales son equipos de laboratorio utilizados para el procesamiento a alta temperatura de materiales en condiciones atmosféricas controladas. Constan de un tubo de cuarzo orientado verticalmente y encerrado en una cámara de calentamiento, lo que permite un control preciso de la temperatura y una distribución uniforme del calor. Estos hornos se emplean habitualmente para diversas aplicaciones, como el tratamiento térmico, el templado, el recocido, el crecimiento de cristales y el recubrimiento por deposición química en fase vapor (CVD). Con características avanzadas como controladores de temperatura programables, capacidad de sellado al vacío y accesorios especializados para la manipulación de muestras, los hornos tubulares verticales ofrecen versatilidad y precisión en el procesamiento de materiales. Su capacidad para crear atmósferas controladas y alcanzar altas temperaturas los convierte en herramientas esenciales en investigación y desarrollo, ciencia de materiales y aplicaciones industriales.
Aplicaciones
Los hornos tubulares verticales son dispositivos de calentamiento versátiles con una amplia gama de aplicaciones en diversas industrias y entornos de laboratorio. Son especialmente útiles para procesos que requieren un control preciso de la temperatura y la capacidad de funcionar en vacío o en atmósferas de gas controladas.
- Pruebas de enfriamiento con gas: Los hornos tubulares verticales se utilizan habitualmente para ensayos de enfriamiento gaseoso, en los que las muestras se enfrían rápidamente desde altas temperaturas a un medio de enfriamiento, como agua helada o aceite. Esto permite a los investigadores estudiar las transiciones de fase de los materiales y los efectos del enfriamiento rápido en las propiedades de los materiales.
- Tratamiento térmico: Los hornos tubulares verticales se utilizan para diversos procesos de tratamiento térmico, como el recocido, el revenido y el alivio de tensiones. Estos procesos pueden mejorar las propiedades mecánicas de los materiales, como su resistencia, dureza y ductilidad.
- Deposición química en fase vapor (CVD): Los hornos tubulares verticales se utilizan para procesos de CVD, en los que se deposita una fina película sobre un sustrato mediante reacciones químicas en un entorno gaseoso. Esta técnica se utiliza habitualmente en la industria de los semiconductores para crear dispositivos electrónicos.
- Crecimiento de cristales: Los hornos tubulares verticales se utilizan para el crecimiento de cristales, en el que éstos crecen a partir de una fase fundida o de vapor. Esta técnica se utiliza para producir cristales de alta calidad para su uso en óptica, electrónica y otras aplicaciones.
- Ensayo de materiales: Los hornos tubulares verticales se utilizan para ensayos de materiales, como mediciones de conductividad térmica, determinaciones del punto de fusión y transiciones de fase. Estas pruebas proporcionan información valiosa sobre las propiedades de los materiales.
- Otras aplicaciones: Los hornos tubulares verticales también se utilizan en otras aplicaciones, entre las que se incluyen:
- Sinterización
- Soldadura fuerte
- Calcinación
- Cerámica
- Vidriería
- Investigación de laboratorio
Procesado de polvos
1. Tubo de corindón de alta temperatura: resistente a la corrosión, alta transmitancia, resistencia a alta presión, resistencia a altas temperaturas de hasta 1700 ℃.
2. Panel de visualización digital electrónico: control preciso de la temperatura, proceso de tratamiento térmico multietapa preestablecido.
3. Hogar de fibra policristalina de alúmina: resistencia a altas temperaturas, uso prolongado sin deformación, sin grietas.
Principio
Los hornos tubulares verticales funcionan según el principio de transferencia de calor radiante. El elemento calefactor, normalmente hecho de disiliciuro de molibdeno (MoSi2) o carburo de silicio (SiC), se sitúa alrededor del tubo vertical, emitiendo radiación infrarroja que es absorbida por la muestra en su interior. Esta radiación calienta la muestra de manera uniforme, proporcionando un control preciso y eficaz de la temperatura. El diseño del horno permite velocidades de calentamiento y enfriamiento rápidas, lo que lo hace adecuado para diversas aplicaciones, como la síntesis de materiales, el tratamiento térmico y las mediciones de temperatura.
- Ventajas
- Cámara del horno vertical o inclinada: Permite realizar diversos experimentos, como el calentamiento de lecho fluido, el crecimiento por tracción de cristales, el templado, etc.
- Variedad de funciones mecánicas: Estas funciones incluyen colgar, tirar, girar y soltar muestras, lo que proporciona versatilidad en las configuraciones experimentales.
- Amplio rango de temperaturas de trabajo: Máx. Temperatura de hasta 1800℃ permite una diversa gama de aplicaciones.
- Personalización especializada del equipo de frotación: Adapta el horno a requisitos experimentales específicos.
- Diseño de doble carcasa del horno: El flujo de aire forzado entre la carcasa interior y exterior mantiene baja la temperatura de la superficie del horno para mayor seguridad.
- Control de temperatura programable PID: Excelente precisión de control y rendimiento de calentamiento estable, con opciones de control remoto y centralizado.
- Controlador de pantalla táctil VTF Pro: Fácil configuración de programas, análisis de datos y gestión de recetas.
- Funciones de seguridad: Protección contra sobrecorriente, alarma de sobretemperatura y detección de par térmico para mayor seguridad.
Función de reinicio en caso de fallo de alimentación: Reanuda el programa de calentamiento tras un fallo de alimentación, garantizando la continuidad del experimento.
- Ventajas de seguridad
- El horno tubular Kindle Tech posee protección contra sobrecorriente y función de alarma por sobretemperatura, el horno desconectará la alimentación automáticamente una vez detectada la sobrecorriente.
- El horno incorpora la función de detección de par térmico, el horno dejará de calentar y la alarma se activará una vez que el par térmico se rompa o se detecte un fallo.
VTF Pro soporta la función de reinicio en caso de fallo de alimentación, el horno reanudará el programa de calentamiento del horno cuando vuelva la alimentación después de un fallo.
| Especificaciones tecnicas | Modelo de horno | KT-VTF |
|---|---|---|
| KT-VTF PRO | Controlador de temperatura | Regulador digital PID |
| Regulador PID con pantalla táctil | Preajuste multiprograma | no |
| sí | Reinicio por fallo de alimentación | no |
| sí | Temperatura máxima | |
| 1800℃ | Material del tubo del horno | |
| Cuarzo de alto grado/ Al2O3 alúmina | Diámetro del tubo del horno | |
| 50 / 60 / 80 / 100 mm | Longitud de la zona de calentamiento | |
| 300 / 450 / 600 / 800 mm | Solución de sellado al vacío | |
| Brida SS 304 con anillo de sellado de cobre sólido | Presión de vacío nominal | |
| 0,001Pa/10E5 torr | Material de la cámara | |
| Fibra de alúmina Al2O3 de Japón | Elemento calefactor | |
| Bobina de alambre Cr2Al2Mo2/SiC/MoSi2 | Par térmico | |
| Tipo K /S/B | Precisión del control de temperatura | |
| ±1℃ | Alimentación eléctrica | |
| AC110-220V,50/60HZ | ||
Otro tamaño del tubo del horno y la longitud de la zona de calentamiento se pueden personalizar
| Paquete estándar | No. | Descripción |
|---|---|---|
| Cantidad | 1 | Horno |
| 1 | 2 | Tubo de alúmina |
| 1 | 3 | Brida de vacío |
| 2 | 4 | Bloque térmico del tubo |
| 2 | 5 | Gancho bloque térmico tubo |
| 1 | 6 | Guante resistente al calor |
| 1 | 7 | Manual de instrucciones |
1
- Configuración opcional
- Detección y monitorización de gases en el tubo, como H2, O2, etc.
- Control y registro independiente de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control de caudal de alimentación de gases de inserción, como caudalímetro másico y caudalímetro de flotador
- Controlador de temperatura de pantalla táctil con funciones versátiles y sencillas para el operador
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
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FAQ
¿Qué es un horno tubular?
El horno tubular de laboratorio es un horno tubular de alta temperatura de calentamiento externo clásico, también llamado horno de calentamiento de pared caliente.
De acuerdo con las diferentes temperaturas de trabajo, el material del tubo del horno generalmente puede ser tubos de cuarzo transparente, tubos de cerámica de alúmina de alta pureza y tubos de aleación de metal de alta resistencia.
Para cumplir con diferentes propósitos de investigación térmica, el horno tubular se puede diseñar con múltiples zonas de calentamiento, para tener un control flexible del gradiente de temperatura en la cámara de trabajo del tubo; El tubo del horno puede funcionar con un entorno de trabajo de atmósfera controlada o un entorno de trabajo de alto vacío.
¿Qué es el horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué es un horno de tubo rotatorio?
¿Cómo funciona un horno tubular?
Los elementos calefactores del horno tubular se colocan alrededor de la cavidad cilíndrica, el horno solo puede calentar las muestras en la cavidad cilíndrica a través de la radiación térmica indirecta, ya que el tubo del horno puede evitar que el material de la muestra entre en contacto con los elementos calefactores del horno y los materiales de aislamiento, por lo que el horno tubular crea un aislamiento limpio. calentar la cámara y reducir los riesgos de que el material de la muestra se contamine con el horno.
¿Cómo funciona el horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Qué es un horno atmosférico?
¿Cómo funciona un horno de tubo rotatorio?
¿Cuál es la aplicación para horno tubular?
El horno tubular se utiliza principalmente en metalurgia, vidrio, tratamiento térmico, materiales de ánodo y cátodo de litio, nueva energía, abrasivos y otras industrias, y es un equipo profesional para medir materiales bajo ciertas condiciones de temperatura.
El horno tubular presenta una estructura simple, fácil operación, fácil control y producción continua.
El horno tubular también se aplica ampliamente en los sistemas CVD (deposición química de vapor) y CVD mejorados con plasma.
¿Qué gas se utiliza en el proceso de CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Cuál es el uso del horno de atmósfera?
¿Cuáles son los tipos de horno rotatorio?
¿Cuáles son las ventajas de un horno tubular rotatorio?
¿Cuál es la función del horno de tubo rotatorio?
¿Cuántos tipos diferentes de hornos tubulares?
El horno tubular puede funcionar con diferentes funciones mecánicas sin problemas, por lo que hay muchos tipos diferentes de variaciones de horno tubular para diferentes propósitos experimentales, los hornos típicos son los siguientes:
- Horno tubular horizontal
- Horno tubular vertical
- Horno de tubo partido
- Horno de tubo rotatorio
- Horno de tubo basculante
- Horno de tubo deslizante
- Horno tubular de calentamiento y enfriamiento rápido
- Horno tubular de alimentación y descarga continua
¿Cuál es la ventaja del sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cuáles son las ventajas del horno de rotor?
¿Cuáles son las ventajas del horno de tubo rotatorio?
¿Qué significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Cuál es la eficiencia de un horno rotatorio?
¿Cuál es la diferencia entre CVD y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
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