Horno CVD y PECVD
Equipo de sistema de horno de tubo CVD versátil hecho a medida para deposición química de vapor
Número de artículo : KT-CTF16
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1600 ℃
- Temperatura de trabajo constante
- 1550 ℃
- Diámetro del tubo del horno
- 60 mm
- Zona de calentamiento
- 3x300 mm
- Velocidad de calentamiento
- 0-10 ℃/min
Envío:
Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Por Qué Elegirnos
Socio ConfiableProceso de pedido fácil, productos de calidad y soporte dedicado para el éxito de su negocio.
Introducción
El horno de tubo CVD es un horno de alta temperatura utilizado para procesos de deposición química de vapor (CVD). Cuenta con múltiples zonas de calentamiento que permiten un control preciso de la temperatura, una bomba de alto vacío que crea un entorno de vacío para los procesos CVD y una estación de control de gas de flujo másico que mezcla e introduce gases en el tubo del horno. El horno es capaz de alcanzar temperaturas de hasta 1200 °C y tiene una tasa de vacío final de 10^-7 torr. Se utiliza comúnmente en la industria de semiconductores para depositar películas delgadas de diversos materiales, incluidos materiales aislantes, materiales metálicos y materiales de aleaciones metálicas.
Aplicaciones
Los hornos de tubo CVD multizona se utilizan ampliamente en diversas aplicaciones de investigación e industriales, que incluyen:
- Síntesis de nanomateriales: El horno de tubo CVD es ideal para el crecimiento de nanocables y la preparación de nanofilms, que son cruciales para el desarrollo de materiales avanzados con propiedades únicas.
- Tecnologías de recubrimiento: Se utiliza ampliamente para la deposición de películas metálicas, películas cerámicas y películas compuestas, que son esenciales para mejorar las propiedades superficiales de diversos materiales.
- Procesamiento de materiales de baterías: El horno es adecuado para el secado y sinterización de materiales de baterías, lo que es un paso crítico en la producción de dispositivos de almacenamiento de energía de alto rendimiento.
- Sinterización a alta temperatura: Se emplea en procesos de sinterización en atmósfera a alta temperatura y reducción en atmósfera, que son necesarios para la densificación de materiales.
- Recubrimiento al vacío: Las capacidades de alto vacío del horno lo hacen perfecto para aplicaciones de recubrimiento al vacío, donde la pureza y la calidad del recubrimiento son primordiales.
- Investigación y Desarrollo: Las universidades y los institutos de investigación científica utilizan este equipo para una amplia gama de experimentos en el campo de la ciencia de materiales, incluidos estudios de CVD/CVI (infiltración química de vapor).
- Aplicaciones industriales: En entornos industriales, el horno de tubo CVD se utiliza para procesos que requieren un control preciso de la temperatura y la gestión de gases, como en la industria de semiconductores.
- Limpieza y grabado por plasma: La versatilidad del equipo permite la expansión de las funcionalidades para incluir limpieza y grabado por plasma, que son esenciales para preparar sustratos antes de la deposición.
Características
El horno de tubo CVD es un horno versátil y de alto rendimiento que es ideal para una variedad de aplicaciones en investigación e industria. Con sus características y capacidades avanzadas, este horno puede ayudarlo a lograr los mejores resultados posibles en su trabajo.
- Control de temperatura multizona: Este horno cuenta con control de temperatura multizona, lo que le permite controlar con precisión la temperatura en diferentes zonas del horno. Esto es esencial para aplicaciones donde necesita crear un perfil o gradiente de temperatura específico.
- Capacidad de alta temperatura: Este horno puede alcanzar temperaturas de hasta 1200 °C, lo que lo hace ideal para una amplia gama de aplicaciones. Esta capacidad de alta temperatura permite realizar procesos exigentes como CVD, difusión y otros tratamientos térmicos.
- Protección al vacío o en atmósfera: Este horno se puede utilizar bajo vacío o protección en atmósfera, lo que lo hace adecuado para una variedad de aplicaciones. Esta versatilidad permite realizar procesos que requieren una atmósfera o entorno de vacío específico.
- Fácil de usar: Este horno es fácil de usar, con una interfaz intuitiva y controles sencillos. Esto facilita la configuración y el funcionamiento del horno, incluso para usuarios con experiencia limitada.
- Diseño compacto: Este horno es compacto y liviano, lo que facilita su instalación y uso en una variedad de espacios. Este diseño compacto lo hace ideal para usar en laboratorios y otros entornos con espacio limitado.
Principio
La deposición química de vapor (CVD) es una técnica de deposición de películas delgadas en la que un material sólido se deposita sobre un sustrato a partir de una fase gaseosa. El sustrato se calienta a alta temperatura y se introduce en la cámara un gas que contiene el material deseado. El gas reacciona con el sustrato y el material deseado se deposita en la superficie.
Los hornos de tubo CVD se utilizan para procesos CVD. El horno consta de un tubo calentado, que generalmente está hecho de cuarzo o alúmina. El sustrato se coloca dentro del tubo y el gas se introduce en el tubo. El gas fluye a través del tubo y reacciona con el sustrato, depositando el material deseado en la superficie.
Los hornos de tubo CVD se pueden utilizar para depositar una amplia variedad de materiales, incluidos metales, óxidos, nitruros y carburos. El proceso se utiliza en la fabricación de semiconductores, células solares y otros dispositivos electrónicos.
Diferentes temperaturas y configuraciones de sistemas CVD disponibles
Principio
El horno de tubo CVD opera según el principio de deposición química de vapor, utilizando un sistema de alto vacío y controladores de flujo másico precisos para facilitar la deposición de diversas películas en condiciones controladas. Emplea tecnología de brillo de radiofrecuencia para altas tasas de deposición y técnicas de calentamiento avanzadas para una distribución uniforme de la película.
Ventajas
- Alta uniformidad de temperatura: El diseño multizona garantiza que la temperatura se distribuya uniformemente por todo el horno, lo cual es fundamental para los procesos CVD.
- Control preciso de la temperatura: El controlador de temperatura digital permite un control preciso de la temperatura del horno, lo cual es esencial para obtener resultados repetibles y confiables.
- Capacidad de alto vacío: La tasa de vacío final de 10^-7 torr permite la eliminación de contaminantes de la cámara de reacción, lo cual es necesario para películas CVD de alta calidad.
- Fácil de usar: La interfaz fácil de usar hace que el horno sea fácil de operar, incluso para usuarios sin experiencia.
- Versátil: El horno se puede utilizar para una amplia variedad de procesos CVD, incluida la deposición de metales, el procesamiento de semiconductores y la síntesis de nanotubos de carbono.
- Diseño compacto: El diseño compacto del horno lo hace ideal para usar en laboratorios con espacio limitado.
- Asequible: El horno tiene un precio competitivo, lo que lo convierte en una excelente relación calidad-precio.
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Temperatura máxima | 1600℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1550℃ |
| Material del tubo del horno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60mm |
| Zona de calentamiento | 3x300mm |
| Material de la cámara | Fibra de policristal de alúmina |
| Elemento calefactor | Carburo de silicio |
| Velocidad de calentamiento | 0-10℃/min |
| Termopar | Tipo S |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Caudalímetro | Caudalímetro másico MFC |
| Canales de gas | 3 canales |
| Caudal | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0.5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0.2% F.S. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0.45MPa |
| Controlador de caudalímetro | Controlador de perilla digital/Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas |
| Caudal de la bomba | 4L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Manómetro de vacío | Manómetro de vacío Pirani/Resistencia de silicio |
| Presión de vacío nominal | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de paletas rotativas + Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Manómetro de vacío | Manómetro de vacío compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-5Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores se pueden personalizar | |
Paquete estándar
| No. | Descripción | Cantidad |
|---|---|---|
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico del tubo | 2 |
| 5 | Gancho del bloque térmico del tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Control de gas preciso | 1 |
| 8 | Unidad de vacío | 1 |
| 9 | Manual de operación | 1 |
Configuración opcional
- Detección y monitoreo de gases dentro del tubo, como H2, O2 y otros.
- Monitoreo y registro independiente de la temperatura del horno.
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto de PC y exportación de datos.
- Control de caudal de alimentación de gases de inserción, como caudalímetro másico y caudalímetro de flotador.
- Controlador de temperatura de pantalla táctil con funciones versátiles y fáciles de usar.
- Configuraciones de estación de bomba de alto vacío, como bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión.
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.
¿Podría enviarnos sus ideas? ¡Nuestros ingenieros están listos para usted ahora!
4.9
out of
5
KT-CTF16 is a great furnace, it offers high-quality CVD processing with precise temperature control and customizable setups. The customer service is also top-notch, highly recommended!
4.8
out of
5
The furnace is very versatile and can be used for a variety of applications. The temperature control is accurate and the overall performance is excellent. I highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.7
out of
5
The furnace has been a great addition to our lab. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.
4.9
out of
5
The KT-CTF16 is a fantastic furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.8
out of
5
This furnace is an excellent choice for anyone who needs a versatile and reliable CVD system. It's easy to use and maintain, and the results have been consistent and of high quality. I highly recommend this furnace.
4.7
out of
5
The KT-CTF16 is a great furnace for a variety of applications. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.
4.9
out of
5
This furnace is a great investment. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.8
out of
5
The furnace arrived quickly and was easy to set up. It's been working great so far and I'm very happy with it. The customer service has also been excellent.
4.7
out of
5
This furnace is a great value for the price. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.9
out of
5
The KT-CTF16 is a great furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.8
out of
5
This furnace is an excellent choice for anyone who needs a versatile and reliable CVD system. It's easy to use and maintain, and the results have been consistent and of high quality. I highly recommend this furnace.
4.7
out of
5
The KT-CTF16 is a great furnace for a variety of applications. It's easy to use and maintain, and the results have been excellent. We've been able to produce high-quality materials with ease.
4.9
out of
5
This furnace is a great investment. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.8
out of
5
The furnace arrived quickly and was easy to set up. It's been working great so far and I'm very happy with it. The customer service has also been excellent.
4.7
out of
5
This furnace is a great value for the price. It's well-made and has a lot of features that make it easy to use. The customer service is also excellent. I would definitely recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
4.9
out of
5
The KT-CTF16 is a great furnace. It's easy to use and the temperature control is very precise. We've been able to produce high-quality materials with ease. I would highly recommend this furnace to anyone who needs a reliable and versatile CVD system.
SOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Sistema Deslizante KT-PE12 PECVD: Amplio rango de potencia, control de temperatura programable, calentamiento/enfriamiento rápido con sistema deslizante, control de flujo másico MFC y bomba de vacío.
Aprenda sobre la Máquina MPCVD de Resonador Cilíndrico, el método de deposición química de vapor de plasma de microondas utilizado para cultivar gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas rentables sobre los métodos tradicionales HPHT.
Equipo de esterilización VHP Peróxido de Hidrógeno H2O2 Esterilizador de Espacios
Un esterilizador de espacios de peróxido de hidrógeno es un dispositivo que utiliza peróxido de hidrógeno vaporizado para descontaminar espacios cerrados. Mata microorganismos dañando sus componentes celulares y material genético.
Horno de Prensado en Caliente al Vacío Máquina de Prensado al Vacío Calentado
¡Descubra las ventajas del horno de prensado en caliente al vacío! Fabrique metales y compuestos refractarios densos, cerámicas y compuestos a alta temperatura y presión.
Horno de Atmósfera de Hidrógeno y Nitrógeno Controlado
Horno de atmósfera de hidrógeno KT-AH - horno de gas de inducción para sinterización/recocido con características de seguridad integradas, diseño de doble carcasa y eficiencia energética. Ideal para uso en laboratorio e industrial.
Horno de Sinterización por Plasma de Chispa Horno SPS
Descubra los beneficios de los hornos de sinterización por plasma de chispa para la preparación rápida de materiales a baja temperatura. Calentamiento uniforme, bajo costo y ecológico.
Lámina de Carbono Vítreo RVC para Experimentos Electroquímicos
Descubra nuestra Lámina de Carbono Vítreo - RVC. Perfecta para sus experimentos, este material de alta calidad llevará su investigación al siguiente nivel.
Horno de Sinterización por Vacío y Presión para Aplicaciones de Alta Temperatura
Los hornos de sinterización por vacío y presión están diseñados para aplicaciones de prensado en caliente a alta temperatura en la sinterización de metales y cerámicas. Sus características avanzadas garantizan un control preciso de la temperatura, un mantenimiento fiable de la presión y un diseño robusto para un funcionamiento sin problemas.
Artículos relacionados
Cuando la gravedad es tu aliada: la elección estratégica de un horno tubular vertical
Explora la física detrás de los hornos tubulares verticales y por qué su orientación es una elección estratégica para procesos como CVD, temple y síntesis de polvos.
Ventajas de usar el horno tubular CVD para el recubrimiento
Los recubrimientos CVD tienen varias ventajas sobre otros métodos de recubrimiento, como alta pureza, densidad y uniformidad, lo que los hace ideales para muchas aplicaciones en diversas industrias.
Horno CVD para el crecimiento de nanotubos de carbono
La tecnología de horno de deposición química de vapor (CVD) es un método ampliamente utilizado para el cultivo de nanotubos de carbono.
Presentamos los hornos tubulares de vacío de laboratorio
Un horno de tubo de vacío es un tipo de horno que utiliza vacío para aislar la atmósfera del proceso de la atmósfera externa.
Una introducción a la deposición química de vapor (CVD)
La deposición química de vapor, o CVD, es un proceso de recubrimiento que involucra el uso de reactivos gaseosos para producir películas delgadas y recubrimientos de alta calidad.
Ventajas y desventajas del depósito químico en fase vapor (CVD)
La deposición química en fase vapor (CVD) es una técnica versátil de deposición de películas finas ampliamente utilizada en diversas industrias. Explore sus ventajas, desventajas y posibles nuevas aplicaciones.
Horno PECVD Una solución de baja potencia y baja temperatura para materia blanda
Los hornos PECVD (Deposición de vapor químico mejorado con plasma) se han convertido en una solución popular para la deposición de películas delgadas en superficies de materia blanda.
Máquinas CVD para deposición de película delgada
La deposición química de vapor (CVD) es una técnica ampliamente utilizada para la deposición de películas delgadas sobre varios sustratos.
La versatilidad de los hornos tubulares: una guía de sus aplicaciones y beneficios
Un horno tubular de laboratorio es un dispositivo de calentamiento especializado que se utiliza en laboratorios científicos e industriales para una variedad de aplicaciones.
Exploración de las características clave de los hornos de calentamiento tubular
Un horno de calentamiento tubular es un tipo especializado de horno industrial que se utiliza en diversas industrias para calentar sustancias mediante el uso de combustión de combustible.
Explorando los hornos tubulares rotativos: Una guía completa
Descubra el funcionamiento de los hornos tubulares rotativos, sus diversas aplicaciones y sus principales ventajas. Explore el funcionamiento de estos hornos, su idoneidad para diferentes procesos y los factores a tener en cuenta a la hora de seleccionar uno. Descubra por qué los hornos tubulares rotativos son los preferidos en el procesamiento avanzado de materiales.
Deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD): Una guía completa
Aprenda todo lo que necesita saber sobre la deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD), una técnica de deposición de película fina utilizada en la industria de los semiconductores. Explore sus principios, aplicaciones y ventajas.