Horno CVD y PECVD
Equipo de Deposición Química de Vapor CVD Sistema Horno de Tubo PECVD Deslizante con Gasificador Líquido Máquina PECVD
Número de artículo : KT-PE12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1200 ℃
- Temperatura de trabajo constante
- 1100 ℃
- Diámetro del tubo del horno
- 60 mm
- Longitud de la zona de calentamiento
- 1x450 mm
- Velocidad de calentamiento
- 0-20 ℃/min
- Distancia de deslizamiento
- 600mm
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Introducción
La Máquina PECVD con Gasificador Líquido y Horno de Tubo Deslizante PECVD es un sistema versátil y de alto rendimiento diseñado para una amplia gama de aplicaciones de deposición de películas delgadas. Cuenta con una fuente de plasma RF de 500W, horno deslizante, control preciso del flujo de gas y una estación de vacío. El sistema ofrece ventajas como coincidencia automática de plasma, calentamiento y enfriamiento de alta velocidad, control de temperatura programable y una interfaz fácil de usar. Se utiliza ampliamente en entornos de investigación y producción para depositar películas delgadas en diversas industrias, incluyendo electrónica, semiconductores y óptica.
Aplicaciones
La Máquina PECVD con Gasificador Líquido y Horno de Tubo Deslizante PECVD encuentra sus aplicaciones en:
- Deposición Química de Vapor (CVD)
- Deposición Química de Vapor Mejorada por Plasma (PECVD)
- Deposición de películas delgadas
- Fabricación de células solares
- Procesamiento de semiconductores
- Nanotecnología
- Ciencia de materiales
- Investigación y desarrollo
Disponibles diferentes sistemas CVD de temperatura y configuración
Principio
La Máquina PECVD con Gasificador Líquido y Horno de Tubo Deslizante PECVD emplea plasma a baja temperatura para generar una descarga luminiscente en el cátodo de la cámara de proceso (bandeja de muestras). La descarga luminiscente (u otra fuente de calor) eleva la temperatura de la muestra a un nivel predeterminado. Luego, se introducen cantidades controladas de gas de proceso, que sufren reacciones químicas y de plasma para formar una película sólida en la superficie de la muestra.
Características
La Máquina PECVD con Gasificador Líquido y Horno de Tubo Deslizante PECVD ofrece numerosos beneficios a los usuarios:
- Generación de energía mejorada para obleas de células solares: La innovadora estructura de la barquilla de grafito mejora significativamente la potencia de salida de las células solares.
- Eliminación de la diferencia de color en células PECVD tubulares: Este equipo aborda eficazmente el problema de la variación de color en las células PECVD tubulares.
- Amplio rango de potencia de salida (5-500W): La fuente de coincidencia automática de plasma RF proporciona un rango versátil de potencia de salida, asegurando un rendimiento óptimo para diversas aplicaciones.
- Calentamiento y enfriamiento de alta velocidad: El sistema deslizante de la cámara del horno permite un calentamiento y enfriamiento rápidos, reduciendo el tiempo de procesamiento. La circulación de aire forzado auxiliar acelera aún más la velocidad de enfriamiento.
- Movimiento deslizante automatizado: La función opcional de movimiento deslizante permite la operación automática, mejorando la eficiencia y reduciendo la intervención manual.
- Control preciso de la temperatura: El control de temperatura programable PID garantiza una regulación precisa de la temperatura, admitiendo control remoto y centralizado para mayor comodidad.
- Control de caudalímetro másico MFC de alta precisión: El caudalímetro másico MFC controla con precisión los gases fuente, asegurando un suministro de gas estable y consistente.
- Estación de vacío versátil: La brida de vacío de acero inoxidable con múltiples puertos de adaptación admite diversas configuraciones de estación de bomba de vacío, asegurando un alto grado de vacío.
- Interfaz fácil de usar: El controlador de pantalla táctil TFT CTF Pro de 7 pulgadas simplifica la configuración del programa y permite un análisis fácil de los datos históricos.
Ventajas
- Fuente de coincidencia automática de plasma RF, amplio rango de potencia de salida de 5-500W con salida estable
- Sistema deslizante de la cámara del horno para calentamiento a alta velocidad y enfriamiento en poco tiempo, disponibles enfriamiento rápido auxiliar y movimiento deslizante automático
- Control de temperatura programable PID, excelente precisión de control y soporte para control remoto y centralizado
- Control de caudalímetro másico MFC de alta precisión, premezcla de gases fuente y velocidad de suministro de gas estable
- Brida de vacío de acero inoxidable con varios puertos de adaptación para cumplir con diferentes configuraciones de estación de bomba de vacío, buen sellado y alto grado de vacío
- CTF Pro aplica un controlador de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas, configuración de programa más amigable y análisis de datos históricos
Ventaja de Seguridad
- El horno de tubo Kindle Tech tiene protección contra sobrecorriente y función de alarma de sobretemperatura, el horno apagará la energía automáticamente
- El horno tiene función de detección de termopar incorporada, el horno dejará de calentar y se activará la alarma una vez detectada una rotura o falla
- PE Pro admite la función de reinicio después de un corte de energía, el horno reanudará el programa de calentamiento del horno cuando llegue la energía después de una falla
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-PE12-60 |
| Temperatura máx. | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60 mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450 mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina de Japón |
| Elemento calefactor | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20 ℃/min |
| Termopar | Tipo K incorporado |
| Controlador de temperatura | Controlador digital PID / Controlador de pantalla táctil PID |
| Precisión del control de temperatura | ±1 ℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600 mm |
| Unidad de plasma RF | |
| Potencia de salida | 5 -500W ajustable con ± 1% de estabilidad |
| Frecuencia RF | 13.56 MHz ±0.005% de estabilidad |
| Potencia de reflexión | Máx. 350W |
| Coincidencia | Automática |
| Ruido | <50 dB |
| Enfriamiento | Enfriamiento por aire. |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Caudalímetro | Caudalímetro másico MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Tasa de flujo | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0.5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0.2% F.S. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de operación | 0.45 MPa |
| Controlador de caudalímetro | Controlador de perilla digital / Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas |
| Caudal de la bomba | 4 L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Manómetro de vacío | Manómetro de vacío Pirani/Resistencia de silicio |
| Presión de vacío nominal | 10 Pa |
| Unidad de alto vacío (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de paletas rotativas + Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4 L/S + 110 L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Manómetro de vacío | Manómetro de vacío compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-4 Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores se pueden personalizar | |
Paquete Estándar
| No. | Descripción | Cantidad |
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico del tubo | 2 |
| 5 | Gancho para bloque térmico del tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Fuente de plasma RF | 1 |
| 8 | Control preciso de gas | 1 |
| 9 | Unidad de vacío | 1 |
| 10 | Manual de operación | 1 |
Configuración Opcional
- Detección y monitoreo de gases en el tubo, como H2, O2 y otros
- Monitoreo y registro independiente de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control de caudal de alimentación de gases de inserción, como caudalímetro másico y caudalímetro de flotador
- Controlador de temperatura con pantalla táctil con funciones versátiles y amigables para el operador
- Configuraciones de estación de bomba de alto vacío, como bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
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FAQ
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Qué Es Mpcvd?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Qué Es La Máquina Mpcvd?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
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