Horno CVD y PECVD
Sistema Slide PECVD con gasificador líquido
Número de artículo : KT-PE12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- máx. temperatura
- 1200 ℃
- Temperatura de trabajo constante
- 1100 ℃
- Diámetro del tubo del horno
- 60mm
- Longitud de la zona de calentamiento
- 1x450mm
- Velocidad de calentamiento
- 0-20 ℃/minuto
- Distancia de deslizamiento
- 600 mm
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El sistema KT-PE12 Slide PECVD con gasificador líquido consta de una fuente de plasma RF de 500 W, un horno deslizante TF-1200, 4 unidades de control preciso de gas MFC y una estación de vacío estándar. El sistema de deslizamiento del riel de la cámara del horno, que puede realizar el propósito de calentamiento rápido y enfriamiento rápido, se puede instalar un ventilador de circulación de aire forzado auxiliar opcional para acelerar la velocidad de enfriamiento; movimiento deslizante opcional que funciona automáticamente; máx. La temperatura de trabajo es de hasta 1200 ℃, el tubo del horno es un tubo de cuarzo de 60 mm de diámetro; Medidor de flujo másico MFC de 4 canales con fuentes de gas de CH4, H2, O2 y N2; La estación de vacío es una bomba de vacío de paletas rotativas de 4L/S, máx. La presión de vacío es de hasta 10 Pa.
Ventajas
- Fuente de coincidencia automática de plasma RF, salida estable de amplio rango de potencia de salida de 5-500W
- Están disponibles el sistema deslizante de la cámara del horno para calentamiento de alta velocidad y enfriamiento de tiempo corto, enfriamiento rápido auxiliar y movimiento deslizante automático
- Control de temperatura programable PID, excelente precisión de control y soporte de control remoto y control centralizado
- Control de caudalímetro másico MFC de alta precisión, premezcla de gases fuente y velocidad de suministro de gas estable
- Brida de vacío de acero inoxidable con varios puertos de adaptación para adaptarse a diferentes configuraciones de estaciones de bomba de vacío, buen sellado y alto grado de vacío
- CTF Pro aplica un controlador de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas, configuración de programa más amigable y análisis de datos históricos
Diferentes sistemas CVD de configuración y temperatura disponibles
Ventaja de seguridad
- El horno de tubo Kindle Tech posee protección contra sobrecorriente y función de alarma de sobretemperatura, el horno apagará la energía automáticamente
- El horno incorpora la función de detección de pareja térmica, el horno dejará de calentar y la alarma se encenderá una vez que se rompa o se detecte una falla
- PE Pro admite la función de reinicio por falla de energía, el horno reanudará el programa de calentamiento del horno cuando entre energía después de una falla
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-PE12-60 |
| máx. temperatura | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60 mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina de Japón |
| Elemento de calefacción | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20 ℃/minuto |
| Pareja térmica | Construir en tipo K |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600 mm |
| Unidad de plasma RF | |
| Potencia de salida | 5 -500W ajustable con ± 1% de estabilidad |
| frecuencia de radiofrecuencia | 13,56 MHz ±0,005 % de estabilidad |
| Poder de reflexión | 350 W máx. |
| Pareo | Automático |
| Ruido | <50dB |
| Enfriamiento | Aire acondicionado. |
| Unidad de control de precisión de gas | |
| Medidor de corriente | Medidor de flujo másico MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Tasa de flujo | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| linealidad | ±0,5 % fondo de escala |
| Repetibilidad | ±0,2 % fondo de escala |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0.45MPa |
| Controlador de medidor de flujo | Controlador de perilla digital/controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (Opcional) | |
| Bomba aspiradora | Bomba de vacío de paletas rotativas |
| Caudal de la bomba | 4L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Indicador de vacio | Vacuómetro Pirani/Resistencia de silicio |
| Presión de vacío nominal | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (Opcional) | |
| Bomba aspiradora | Bomba rotativa de paletas+bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Indicador de vacio | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-5Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores se pueden personalizar | |
Paquete estándar
| No. | Descripción | Cantidad |
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico de tubo | 2 |
| 5 | Gancho de bloque térmico de tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | fuente de plasma de radiofrecuencia | 1 |
| 8 | Control preciso de gases | 1 |
| 9 | Unidad de vacío | 1 |
| 10 | Operación manual | 1 |
Configuración opcional
- En la detección y monitoreo de gases de tubo, como H2, O2, etc.
- Monitoreo y registro de la temperatura del horno independiente
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto de PC y exportación de datos
- Inserte el control de caudal de alimentación de gases, como caudalímetro másico y caudalímetro de flotador
- Controlador de temperatura de pantalla táctil con funciones versátiles fáciles de usar
- Configuraciones de estaciones de bombeo de alto vacío, como bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
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FAQ
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Qué Es Mpcvd?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Qué Es La Máquina Mpcvd?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
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