Horno CVD y PECVD
Sistema de Equipo de Deposición Química de Vapor CVD Cámara Deslizante Horno de Tubo PECVD con Gasificador de Líquidos Máquina PECVD
Número de artículo : KT-PE12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1200 ℃
- Temperatura de trabajo constante
- 1100 ℃
- Diámetro del tubo del horno
- 60 mm
- Longitud de la zona de calentamiento
- 1x450 mm
- Velocidad de calentamiento
- 0-20 ℃/min
- Distancia de deslizamiento
- 600mm
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Introducción
El Horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos es un sistema versátil y de alto rendimiento diseñado para una amplia gama de aplicaciones de deposición de películas delgadas. Cuenta con una fuente de plasma de RF de 500 W, un horno deslizante, control preciso del flujo de gas y una estación de vacío. El sistema ofrece ventajas como el acoplamiento automático de plasma, calentamiento y enfriamiento de alta velocidad, control de temperatura programable y una interfaz fácil de usar. Se utiliza ampliamente en entornos de investigación y producción para la deposición de películas delgadas en diversas industrias, incluidas la electrónica, los semiconductores y la óptica.
Aplicaciones
El Horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos encuentra sus aplicaciones en:
- Deposición química de vapor (CVD)
- Deposición química de vapor asistida por plasma (PECVD)
- Deposición de películas delgadas
- Fabricación de células solares
- Procesamiento de semiconductores
- Nanotecnología
- Ciencia de materiales
- Investigación y desarrollo
Diferentes sistemas CVD de temperatura y configuración disponibles
Principio
El Horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos emplea plasma de baja temperatura para generar una descarga luminiscente en el cátodo de la cámara de proceso (bandeja de muestras). La descarga luminiscente (u otra fuente de calor) eleva la temperatura de la muestra a un nivel predeterminado. Luego, se introducen cantidades controladas de gas de proceso, que se someten a reacciones químicas y de plasma para formar una película sólida en la superficie de la muestra.
Características
El Horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos ofrece numerosos beneficios a los usuarios:
- Generación de energía mejorada para obleas de células solares: La innovadora estructura de la barquilla de grafito mejora significativamente la potencia de salida de las células solares.
- Eliminación de la diferencia de color en las células PECVD tubulares: Este equipo aborda eficazmente el problema de la variación de color en las células PECVD tubulares.
- Amplio rango de potencia de salida (5-500 W): La fuente de acoplamiento automático de plasma de RF proporciona un rango versátil de potencia de salida, lo que garantiza un rendimiento óptimo para diversas aplicaciones.
- Calentamiento y enfriamiento de alta velocidad: El sistema de deslizamiento de la cámara del horno permite un calentamiento y enfriamiento rápidos, lo que reduce el tiempo de procesamiento. La circulación de aire forzado auxiliar acelera aún más la velocidad de enfriamiento.
- Movimiento deslizante automatizado: La función de movimiento deslizante opcional permite el funcionamiento automático, lo que mejora la eficiencia y reduce la intervención manual.
- Control preciso de la temperatura: El control de temperatura programable PID garantiza una regulación precisa de la temperatura, admitiendo el control remoto y centralizado para mayor comodidad.
- Control de medidor de flujo másico MFC de alta precisión: El medidor de flujo másico MFC controla con precisión los gases de origen, lo que garantiza un suministro de gas estable y constante.
- Estación de vacío versátil: La brida de vacío de acero inoxidable con múltiples puertos de adaptación admite diversas configuraciones de estaciones de bombas de vacío, lo que garantiza un alto grado de vacío.
- Interfaz fácil de usar: El controlador de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas CTF Pro simplifica la configuración del programa y permite un análisis fácil de los datos históricos.
Ventajas
- Fuente de acoplamiento automático de plasma RF, amplio rango de potencia de salida de 5-500 W con salida estable
- Sistema de deslizamiento de la cámara del horno para calentamiento a alta velocidad y enfriamiento en poco tiempo, enfriamiento rápido auxiliar y movimiento deslizante automático disponibles
- Control de temperatura programable PID, excelente precisión de control y soporte para control remoto y control centralizado
- Control de medidor de flujo másico MFC de alta precisión, premezcla de gases de origen y velocidad de suministro de gas estable
- Brida de vacío de acero inoxidable con varios puertos de adaptación para cumplir con diferentes configuraciones de estaciones de bombas de vacío, buen sellado y alto grado de vacío
- CTF Pro aplica un controlador de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas, configuración de programas más amigable y análisis de datos históricos
Ventajas de Seguridad
- El horno de tubo Kindle Tech posee protección contra sobrecorriente y función de alarma por sobretemperatura; el horno apagará la energía automáticamente
- Función de detección de termopar incorporada en el horno; el horno dejará de calentar y la alarma se activará una vez que se detecte una rotura o falla
- PE Pro admite la función de reinicio por falla de energía; el horno reanudará el programa de calentamiento del horno cuando regrese la energía después de una falla
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-PE12-60 |
| Temperatura máx. | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60 mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450 mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina de Japón |
| Elemento calefactor | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20℃/min |
| Termopar | Tipo K incorporado |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital / Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600 mm |
| Unidad de plasma RF | |
| Potencia de salida | 5 - 500 W ajustable con estabilidad de ± 1% |
| Frecuencia de RF | 13,56 MHz ±0,005% de estabilidad |
| Potencia de reflexión | 350 W máx. |
| Acoplamiento | Automático |
| Ruido | <50 dB |
| Enfriamiento | Enfriamiento por aire. |
| Unidad de control de precisión de gas | |
| Medidor de flujo | Medidor de flujo másico MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Caudal | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20 SCM CH4 MFC3: 0- 100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0,2% F.S. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0,45 MPa |
| Controlador del medidor de flujo | Controlador de perilla digital / Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas |
| Caudal de la bomba | 4 L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro Pirani / de resistencia de silicio |
| Presión de vacío nominal | 10 Pa |
| Unidad de alto vacío (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de paletas rotativas + Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4 L/S + 110 L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-4 Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores se pueden personalizar | |
Paquete estándar
| Nº | Descripción | Cantidad |
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico de tubo | 2 |
| 5 | Gancho para bloque térmico de tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Fuente de plasma RF | 1 |
| 8 | Control de gas de precisión | 1 |
| 9 | Unidad de vacío | 1 |
| 10 | Manual de operación | 1 |
Configuración opcional
- Detección y monitoreo de gases en el tubo, como H2, O2, etc.
- Monitoreo y registro independiente de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control del caudal de alimentación de gases de inserción, como medidor de flujo másico y medidor de flujo de flotador
- Controlador de temperatura con pantalla táctil con funciones versátiles y fáciles de usar para el operador
- Configuraciones de estaciones de bombas de alto vacío, como bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
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Confiado por Líderes de la Industria
FAQ
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Qué Es Mpcvd?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Qué Es La Máquina Mpcvd?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
4.9 / 5
The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.
4.8 / 5
Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.
4.9 / 5
The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.
4.7 / 5
A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.
4.9 / 5
The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.
4.8 / 5
Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.
4.7 / 5
Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.
4.9 / 5
The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.
4.8 / 5
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4.9 / 5
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