Horno CVD y PECVD
Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia
Número de artículo : KT-RFPE
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Frecuencia
- Frecuencia RF 13.56MHZ
- Temperatura de calentamiento
- máx. 200°C
- Dimensiones de la cámara de vacío
- Ф420mm × 400 mm
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La deposición química en fase vapor mejorada por plasma de radiofrecuencia (RF PECVD) es una técnica de deposición de películas finas que utiliza plasma para mejorar el proceso de deposición química en fase vapor. Este proceso se utiliza para depositar una amplia variedad de materiales, incluidos metales, dieléctricos y semiconductores. RF PECVD es una técnica versátil que puede utilizarse para depositar películas con una amplia gama de propiedades, incluyendo espesor, composición y morfología.
Aplicaciones
La RF-PECVD, una técnica revolucionaria en el campo de la deposición de películas finas, tiene amplias aplicaciones en diversas industrias, entre las que se incluyen:
- Fabricación de componentes y dispositivos ópticos
- Fabricación de dispositivos semiconductores
- Producción de recubrimientos protectores
- Desarrollo de microelectrónica y MEMS
- Síntesis de nuevos materiales
Componentes y funciones
La deposición química en fase vapor potenciada por plasma y radiofrecuencia (RF PECVD) es una técnica utilizada para depositar películas finas sobre sustratos utilizando un generador de radiofrecuencia para crear un plasma que ioniza los gases precursores. Los gases ionizados reaccionan entre sí y se depositan sobre el sustrato, formando una película fina. El PECVD por RF se utiliza habitualmente para depositar películas de carbono tipo diamante (DLC) sobre sustratos de germanio y silicio para aplicaciones en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.
Compuesto por una cámara de vacío, un sistema de bombeo de vacío, cátodos y ánodos, una fuente de RF, un sistema inflable de mezcla de gases, un sistema de armario de control informático, etc., este aparato permite el recubrimiento sin fisuras con un solo botón, el almacenamiento y recuperación de procesos, funciones de alarma, conmutación de señales y válvulas, así como un registro exhaustivo de las operaciones del proceso.
Detalles y ejemplos
Características
Características del sistema RF-PECVD de deposición química en fase vapor mejorada por plasma de radiofrecuencia:
- Recubrimiento con un solo botón: Simplifica el proceso de recubrimiento, facilitando el manejo a los usuarios.
- Almacenamiento y recuperación de procesos: Permite a los usuarios guardar y recuperar los parámetros del proceso, asegurando resultados consistentes.
- Funciones de alarma: Alerta a los usuarios de cualquier problema o error durante el proceso de recubrimiento, minimizando el tiempo de inactividad.
- Conmutación de señales y válvulas: proporciona un control preciso del proceso de recubrimiento, lo que permite a los usuarios obtener los resultados deseados.
- Registro exhaustivo de las operaciones del proceso: Registra todos los parámetros del proceso, facilitando el seguimiento y el análisis del proceso de recubrimiento.
- Cámara de vacío, sistema de bombeo de vacío, cátodos y ánodos, fuente de RF, sistema inflable de mezcla de gases, sistema de armario de control informático: Garantiza un entorno estable y controlado para el proceso de revestimiento.
Ventajas
- Deposición de película de alta calidad a baja temperatura, adecuada para sustratos sensibles a la temperatura.
- Control preciso del espesor y la composición de la película.
- Deposición uniforme y conforme de la película en geometrías complejas.
- Baja contaminación por partículas y películas de alta pureza.
- Proceso escalable y rentable para la producción de grandes volúmenes.
- Proceso respetuoso con el medio ambiente con mínima generación de residuos peligrosos.
Especificaciones técnicas
Parte principal del equipo
| Forma del equipo |
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| Cámara de vacío |
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| Esqueleto anfitrión |
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| Sistema de refrigeración por agua |
|
| Armario de control |
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Sistema de vacío
| Vacío final |
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| Tiempo de restablecimiento del vacío |
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| Velocidad de aumento de la presión |
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| Configuración del sistema de vacío |
|
| Medición del sistema de vacío |
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| Funcionamiento del sistema de vacío | Hay dos modos de selección de vacío manual y automático;
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| Cuando el vacío es anormal o se corta la energía, la bomba molecular de la válvula de vacío debe volver al estado cerrado. La válvula de vacío está equipada con una función de protección de enclavamiento, y la entrada de aire de cada cilindro está equipado con un dispositivo de ajuste de la válvula de corte, y hay una posición establecer el sensor para mostrar el estado cerrado del cilindro; |
|
De acuerdo con las condiciones técnicas generales de la máquina de recubrimiento al vacío GB11164.
- Sistema de calentamiento
- Método de calentamiento: método de calentamiento con lámpara de tungsteno de yodo;
- Regulador de potencia: regulador de potencia digital;
- Temperatura de calentamiento: temperatura máxima 200°C, potencia 2000W/220V, pantalla controlable y ajustable, control ±2°C;
Método de conexión: rápida inserción y rápida extracción, cubierta metálica de blindaje para antiincrustante, y fuente de alimentación aislada para garantizar la seguridad del personal.
- Fuente de alimentación por radiofrecuencia
- Frecuencia: Frecuencia RF 13,56MHZ;
- Potencia: 0-2000W regulable en continuo;
- Función: ajuste totalmente automático de la función de adaptación de impedancia, ajuste totalmente automático para mantener la función de reflexión muy baja de trabajo, reflexión interna dentro del 0,5% , con función de ajuste de conversión manual y automática;
Visualización: con tensión de polarización, posición del condensador CT, posición del condensador RT, potencia ajustada, visualización de la función de reflexión, con función de comunicación, comunicación con pantalla táctil, ajuste y visualización de parámetros en el software de configuración, visualización de la línea de sintonización, etc.
- Cátodo ánodo objetivo
- Ánodo de destino: φ300mm sustrato de cobre se utiliza como cátodo de destino, la temperatura es baja cuando se trabaja, y no se necesita agua de refrigeración;
Cátodo: φ200mm de cobre refrigerado por agua, la temperatura es alta cuando se trabaja, y el interior es de agua refrigerada, para asegurar una temperatura constante durante el trabajo, la distancia máxima entre el ánodo y el cátodo es de 100-250mm.
- Control de inflado
- Caudalímetro: Se utiliza caudalímetro británico de cuatro vías, el caudal es de 0-200SCCM, con indicación de presión, parámetros de ajuste de comunicación, y se puede ajustar el tipo de gas;
- Válvula de cierre: Qixing Huachuang DJ2C-VUG6 válvula de cierre, trabaja con el medidor de flujo, mezcla el gas, lo llena en la cámara a través del dispositivo de inflado anular, y fluye uniformemente a través de la superficie objetivo;
- Botella de almacenamiento de gas de etapa previa: principalmente una botella de conversión de lavado, que vaporiza el líquido C4H10, y luego entra en la tubería de etapa previa del caudalímetro. La botella de almacenamiento de gas tiene un instrumento DSP de visualización digital de la presión, que realiza avisos de alarma de sobrepresión y baja presión;
- Botella tampón de gas mezclado: La botella tampón se mezcla con cuatro gases en la última etapa. Después de la mezcla, sale de la botella tampón hasta el fondo de la cámara y hasta la parte superior, y una de ellas se puede cerrar de forma independiente;
Dispositivo de inflado: la tubería de gas uniforme en la salida del circuito de gas del cuerpo de la cámara, que se carga de manera uniforme a la superficie objetivo para hacer el recubrimiento uniforme es mejor.
- Sistema de control
- Pantalla táctil: toma la pantalla táctil TPC1570GI como ordenador central + teclado y ratón;
- Software de control: configuración de parámetros de proceso tabular, visualización de parámetros de alarma, visualización de parámetros de vacío y visualización de curvas, configuración y visualización de parámetros de fuente de alimentación RF y fuente de alimentación de corriente continua DC, todos los registros de estado de trabajo de válvulas e interruptores, registros de proceso, registros de alarma, parámetros de registro de vacío , se pueden almacenar durante aproximadamente medio año, y la operación de proceso de todo el equipo se guarda en 1 segundo para guardar los parámetros;
- PLC: El PLC de Omron se utiliza como el ordenador inferior para recopilar datos de varios componentes e interruptores en posición, válvulas de control y varios componentes, y luego realizar la interacción de datos, visualización y control con el software de configuración. Esto es más seguro y fiable;
- Estado de control: recubrimiento con un botón, aspiración automática, vacío constante automático, calentamiento automático, deposición automática de proceso multicapa, finalización automática de recogida y otros trabajos;
5. Ventajas de la pantalla táctil: software de control de pantalla táctil no se puede cambiar, el funcionamiento estable es más conveniente y flexible, pero la cantidad de datos almacenados es limitada, los parámetros se pueden exportar directamente, y cuando hay un problema con el proceso; 6. Alarma: adoptar el modo de alarma de sonido y luz, y registrar la alarma en la biblioteca de parámetros de alarma de configuración. Se puede consultar en cualquier momento en el futuro, y los datos guardados pueden ser consultados y llamados en cualquier momento.
- Vacío constante
- Válvula de mariposa de vacío constante: La válvula de mariposa DN80 coopera con el medidor de película capacitiva Inficon CDG025 para trabajar con vacío constante, la desventaja es que el puerto de la válvula es fácil de ser contaminado y difícil de limpiar;
Modo de posición de la válvula: Ajuste el modo de control de posición.
- Agua, electricidad, gas
- Las tuberías principales de entrada y salida son de acero inoxidable y están equipadas con tomas de agua de emergencia;
- Todos los tubos refrigerados por agua fuera de la cámara de vacío adoptan juntas fijas de cambio rápido de acero inoxidable y plástico de alta presión (tubos de agua de alta calidad, que pueden utilizarse durante mucho tiempo sin fugas ni roturas), y los tubos de agua de alta presión de plástico de entrada y salida de agua deben mostrarse en dos colores diferentes y estar marcados correspondientemente; marca Airtek;
- Todos los tubos refrigerados por agua dentro de la cámara de vacío están hechos de material SUS304 de alta calidad;
- Los circuitos de agua y gas están respectivamente instalados con instrumentos de presión de agua y presión de aire de visualización segura y fiable y de alta precisión .
- Equipada con un enfriador 8P para el flujo de agua de la máquina de película de carbono.
Equipado con un conjunto de 6KW máquina de agua caliente, cuando se abre la puerta, el agua caliente fluirá a través de la habitación.
- Requisitos de protección de seguridad
- La máquina está equipada con un dispositivo de alarma;
- Cuando la presión del agua o del aire no alcanza el caudal especificado, todas las bombas y válvulas de vacío están protegidas y no pueden ponerse en marcha, y se emite un sonido de alarma y una señal luminosa roja;
- Cuando la máquina está en proceso de trabajo normal, cuando la presión del agua o la presión del aire es repentinamente insuficiente, todas las válvulas se cerrarán automáticamente, y aparecerá un sonido de alarma y una luz roja de señalización;
- Cuando el sistema operativo es anormal (alto voltaje, fuente de iones, sistema de control), habrá un sonido de alarma y una señal luminosa roja;
La alta tensión se enciende, y hay un dispositivo de alarma de protección.
- Requisitos del entorno de trabajo
- Temperatura ambiente: 10～35℃;
- Humedad relativa: no superior al 80%;
El entorno alrededor del equipo está limpio y el aire está limpio. No debe haber polvo ni gases que puedan causar la corrosión de los aparatos eléctricos y otras superficies metálicas o provocar la conducción eléctrica entre metales.
- Requisitos de potencia del equipo
- Fuente de agua: agua blanda industrial, presión del agua 0,2~0,3Mpa, volumen de agua~60L/min , temperatura de entrada del agua≤25°C; conexión de la tubería de agua 1,5 pulgadas;
- Fuente de aire: presión de aire 0,6MPa;
- Fuente de alimentación: sistema trifásico de cinco hilos 380V, 50Hz, rango de fluctuación de voltaje: voltaje de línea 342 ~ 399V, voltaje de fase 198 ~ 231V; rango de fluctuación de frecuencia: 49 ~ 51Hz; consumo de energía del equipo: ~ 16KW; resistencia de puesta a tierra ≤ 1Ω;
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.
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FAQ
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
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