Productos Equipo Térmico MPCVD Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio
Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

MPCVD

Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio

Número de artículo : KTWB315

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Potencia de microondas
Frecuencia de microondas 2450±15MHZ
Potencia de salida
1~10 KW regulable en continuo
Fuga de microondas
≤2MW/cm2
Interfaz de la guía de ondas de salida
WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
Soporte de muestras
Diámetro de la mesa de muestras≥72mm, área efectiva de uso≥66 mm
ISO & CE icon

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MPCVD significa deposición química en fase vapor por plasma de microondas. Es un método de crecimiento de películas de diamante de alta calidad en laboratorio mediante el uso de un gas que contiene carbono y un plasma de microondas.

MPCVD KinTek

Sistema MPCVD

El sistema MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) es un proceso utilizado para depositar películas finas sobre la superficie de un sustrato. El sistema consta de una cámara de vacío donde tiene lugar el proceso de deposición, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas. El generador de microondas se utiliza para generar un plasma dentro de la cámara de vacío, que se utiliza para descomponer y depositar las especies gaseosas sobre el sustrato.

El generador de microondas suele ser un magnetrón o un klystron, que genera microondas en el rango de 2,45 GHz. Las microondas se acoplan a la cámara de vacío a través de una ventana de cuarzo.

El sistema de suministro de gas consta de controladores de flujo másico (MFC) que controlan el flujo de gas en la cámara de vacío. Los MFC están calibrados en centímetros cúbicos estándar por minuto (sccm).

La temperatura del sustrato se controla mediante la posición del plasma y se mide con un termopar. El plasma se utiliza para calentar el sustrato, y la temperatura es controlada por el termopar para asegurar que el sustrato está a la temperatura deseada durante el proceso de deposición.

Aplicaciones

La MPCVD es una tecnología prometedora para producir diamantes de gran tamaño a bajo coste y de alta calidad.

Las propiedades únicas del diamante, como su dureza, rigidez, alta conductividad térmica, baja expansión térmica, dureza a la radiación e inercia química, lo convierten en un material valioso.

A pesar de su gran potencial, el elevado coste, el tamaño limitado y la dificultad para controlar las impurezas de los diamantes naturales y sintéticos de alta presión y alta temperatura han limitado sus aplicaciones.

El MPCVD es el principal equipo utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante.

El crecimiento de películas de diamante puede ser monocristalino o policristalino, y se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores para sustratos de diamante de gran tamaño, así como en la industria de herramientas de corte o perforación de diamante.

En comparación con el método HPHT para diamantes cultivados en laboratorio, el método CVD por microondas es ventajoso para el crecimiento de diamantes de gran tamaño a un coste menor, por lo que es una solución ideal para aplicaciones de diamantes semiconductores, crecimiento de diamantes ópticos y las grandes necesidades del mercado de diamantes para joyería.

Máquinas KINTEK MPCVD
Máquinas de diamante KINTEK MPCVD
Nuevo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Nuevo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Nuevo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Nuevo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Diamantes en bruto cultivados por KINTEK MPCVD
Diamantes en bruto cultivados por KINTEK MPCVD
En la máquina KinTek MPCVD crecen diamantes
En la máquina KinTek MPCVD crecen diamantes
En la máquina KinTek MPCVD, los diamantes crecen
En la máquina KinTek MPCVD, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD de KinTek, los diamantes crecen
En la máquina KinTek MPCVD, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD de KinTek, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD de KinTek, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD de KinTek, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD de KinTek, los diamantes crecen
Diamante en bruto cultivado por la máquina KINTEK MPCVD
Diamante en bruto cultivado por la máquina KINTEK MPCVD
Diamante en bruto cultivado por la máquina KINTEK MPCVD
Diamante en bruto cultivado por la máquina KINTEK MPCVD
Diamante en bruto cultivado por la máquina MPCVD KINTEK
Diamante en bruto cultivado por la máquina MPCVD KINTEK
Diamantes cultivados por MPCVD después del pulido
Diamantes cultivados por MPCVD después del pulido
Policristalino por KinTek MPCVD
Policristalino por KinTek MPCVD

Ventajas del MPCVD

MPCVD es un método de síntesis de diamantes que tiene varias ventajas sobre otros métodos, como HFCVD y DC-PJ CVD. Evita la contaminación del diamante por hilos calientes y permite el uso de múltiples gases para satisfacer diferentes necesidades industriales. En comparación con el CVD DC-PJ, permite un ajuste suave y continuo de la potencia de microondas y un control estable de la temperatura de reacción, lo que evita que las semillas de cristal se caigan del sustrato debido a la formación de arcos y al fallo de la llama. Con una gran área de plasma de descarga estable, el método MPCVD se considera el método de síntesis de diamantes más prometedor para aplicaciones industriales.

Los diamantes producidos mediante MPCVD son de mayor pureza en comparación con los producidos mediante el método HPHT, y el proceso de producción consume menos energía. Además, el método MPCVD facilita la producción de diamantes de mayor tamaño.

Ventajas de nuestro sistema MPCVD

Hemos estado profundamente involucrados en la industria durante muchos años, y como resultado, tenemos una amplia base de clientes que confían y utilizan nuestros equipos. Nuestro equipo MPCVD ha estado funcionando de forma constante durante más de 40.000 horas, demostrando una estabilidad, fiabilidad, repetibilidad y rentabilidad excepcionales. Más ventajas de nuestro sistema MPCVD incluyen:

  • Área de crecimiento de sustrato de 3 pulgadas, carga máxima por lote de hasta 45 piezas de diamantes
  • Potencia de microondas de salida ajustable de 1-10Kw para un menor consumo eléctrico
  • Equipo de investigación con amplia experiencia en el cultivo de diamantes.
  • Programa de soporte técnico exclusivo para el equipo de experiencia en el cultivo de diamantes Zero.

Aprovechando nuestra tecnología avanzada acumulada, hemos implementado múltiples rondas de actualizaciones y mejoras a nuestro sistema MPCVD, lo que resulta en una mejora significativa de la eficiencia y la reducción de costes de los equipos. Como resultado, nuestro equipo MPCVD está a la vanguardia de los avances tecnológicos y se ofrece a un precio competitivo. Le invitamos a consultarnos.

Simulación KinTek MPCVD
Simulación MPCVD KinTek

Procesamiento de trabajo

La máquina MPCVD controla el flujo de cada ruta de gas y la presión de la cavidad mientras introduce gases reactantes (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) en la cavidad bajo una presión específica. Tras estabilizar el flujo de aire, el generador de microondas de estado sólido de 6 kW genera microondas que se introducen en la cavidad a través de la guía de ondas.

El gas de reacción se transforma en un estado de plasma bajo el campo de microondas, formando una bola de plasma que se cierne sobre el sustrato de diamante. La elevada temperatura del plasma calienta el sustrato hasta una temperatura determinada. El exceso de calor producido en la cavidad se disipa mediante la unidad de refrigeración por agua.

Para garantizar unas condiciones de crecimiento óptimas durante el proceso de crecimiento del diamante monocristalino MPCVD, ajustamos factores como la potencia, la composición de la fuente de gas y la presión de la cavidad. Además, como la bola de plasma no entra en contacto con la pared de la cavidad, el proceso de crecimiento del diamante está libre de impurezas, lo que mejora la calidad del diamante.

Detalles y piezas

Sistema de microondas

Sistema de microondas

Cámara de reacción

Cámara de reacción

Sistema de flujo de gas

Sistema de flujo de gas

Sistema de vacío y sensores

Sistema de vacío y sensores

Especificaciones técnicas

Sistema de microondas
  • Frecuencia de microondas 2450±15MHZ,
  • Potencia de salida 1~10 KW ajustable continuamente
  • Estabilidad de la potencia de salida de microondas <±1%
  • Fuga de microondas ≤2MW/cm2
  • Interfaz de guía de ondas de salida: WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
  • Flujo de agua de refrigeración: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionaria del sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Microondas manual Ajustador de 3 pines, cavidad de excitación, carga de alta potencia
  • Fuente de alimentación de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásica
Cámara de reacción
  • Tasa de fuga de vacío<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La presión límite es inferior a 0,7 Pa (configuración estándar con vacuómetro Pirani)
  • El aumento de presión de la cámara no superará los 50 Pa tras 12 horas de mantenimiento de la presión
  • Modo de trabajo de la cámara de reacción: Modo TM021 o TM023
  • Tipo de cavidad: Cavidad resonante cilíndrica, con potencia portante máxima de 10KW, hecha de acero inoxidable 304, con capa intermedia refrigerada por agua, y método de sellado de placa de cuarzo de alta pureza.
  • Modo de admisión de aire: Entrada de aire uniforme anular superior
  • Sellado al vacío: La conexión inferior de la cámara principal y la puerta de inyección están selladas con anillos de goma, la bomba de vacío y los fuelles están sellados con KF, la placa de cuarzo está sellada con un anillo metálico en C, y el resto está sellado con CF
  • Ventana de observación y medición de la temperatura 8 puertos de observación
  • Puerto de carga de muestras delante de la cámara
  • Descarga estable dentro del rango de presión de 0,7KPa~30KPa (la presión de alimentación debe ser igualada)
Soporte de muestras
  • Diámetro de la mesa de muestras≥72mm, área efectiva de uso≥66 mm
  • Plataforma de la placa base estructura de sándwich refrigerada por agua
  • El portamuestras puede levantarse y bajarse uniformemente de forma eléctrica en la cavidad
Sistema de flujo de gas
  • Disco de aire de soldadura totalmente metálico
  • Se utilizarán juntas de soldadura o VCR para todos los circuitos de gas internos del equipo.
  • Caudalímetro MFC de 5 canales, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Presión de trabajo 0.05-0.3MPa, precisión ±2%.
  • Control de válvula neumática independiente para cada caudalímetro de canal
Sistema de refrigeración
  • Refrigeración por agua de 3 líneas, control en tiempo real de la temperatura y el caudal.
  • El flujo de agua de refrigeración del sistema es ≤ 50L/min.
  • La presión del agua de refrigeración es<4KG, y la temperatura del agua de entrada es de 20-25 ℃.
Sensor de temperatura
  • El termómetro infrarrojo externo tiene un rango de temperatura de 300-1400 ℃.
  • Precisión del control de temperatura < 2 ℃ o 2%.
Sistema de control
  • Se adopta Siemens smart 200 PLC y control de pantalla táctil.
  • El sistema tiene una variedad de programas, que pueden realizar el equilibrio automático de la temperatura de crecimiento, el control preciso de la presión del aire de crecimiento, el aumento automático de la temperatura, la caída automática de la temperatura y otras funciones.
  • El funcionamiento estable del equipo y la protección integral del equipo se puede lograr a través de la supervisión del flujo de agua, temperatura, presión y otros parámetros, y la fiabilidad y la seguridad de la operación se puede garantizar a través de enclavamiento funcional.
Función opcional
  • Sistema de monitorización del centro
  • Potencia de base del sustrato

Advertencias

¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.

Diseñado para ti

KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.

¿Podría enviarnos sus ideas? ¡Nuestros ingenieros están listos para usted ahora!

FAQ

¿Qué Es Mpcvd?

MPCVD significa Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition y es un proceso de depósito de películas delgadas sobre una superficie. Utiliza una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas para crear un plasma compuesto por productos químicos reactivos y los catalizadores necesarios. MPCVD se usa mucho en la red ANFF para depositar capas de diamante utilizando metano e hidrógeno para hacer crecer nuevo diamante en un sustrato con semilla de diamante. Es una tecnología prometedora para producir diamantes grandes de alta calidad y bajo costo y se usa ampliamente en la industria de corte de diamantes y semiconductores.

¿Qué Es La Máquina Mpcvd?

La máquina MPCVD (deposición química de vapor de plasma por microondas) es un equipo de laboratorio que se utiliza para cultivar películas de diamante de alta calidad. Utiliza un gas que contiene carbono y un plasma de microondas para crear una bola de plasma sobre el sustrato de diamante, que lo calienta a una temperatura específica. La bola de plasma no hace contacto con la pared de la cavidad, lo que hace que el proceso de crecimiento del diamante esté libre de impurezas y mejore la calidad del diamante. El sistema MPCVD consta de una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas que controla el flujo de gas hacia la cámara.

¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?

MPCVD tiene varias ventajas sobre otros métodos de producción de diamantes, como mayor pureza, menor consumo de energía y la capacidad de producir diamantes más grandes.

¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?

Los diamantes CVD son diamantes reales y no falsos. Se cultivan en un laboratorio a través de un proceso llamado Deposición Química de Vapor (CVD). A diferencia de los diamantes naturales que se extraen de debajo de la superficie terrestre, los diamantes CVD se crean usando tecnología avanzada en laboratorios. Estos diamantes son 100% carbono y son la forma más pura de diamantes conocidos como diamantes Tipo IIa. Tienen las mismas propiedades ópticas, térmicas, físicas y químicas que los diamantes naturales. La única diferencia es que los diamantes CVD se crean en un laboratorio y no se extraen de la tierra.
Ver más preguntas frecuentes sobre este producto

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

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