materiales CVD
Diamante dopado con boro CVD
Número de artículo : cvdm-07
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Diámetro
- 100mm
- espesor
- 0,3-2 mm
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El diamante dopado con boro por deposición química de vapor (CVD) es un material único que combina las extraordinarias propiedades del diamante con una conductividad eléctrica controlable. Al introducir con precisión átomos de boro en la red del diamante durante el crecimiento de CVD, se convierte en un material versátil con propiedades eléctricas personalizadas, que van desde aislantes hasta altamente conductoras. Esto permite diversas aplicaciones en electrónica, sensores, gestión del calor, óptica y tecnologías cuánticas.
Aplicaciones
El diamante dopado con boro por deposición química de vapor (CVD) es un material versátil con propiedades excepcionales que ofrece soluciones únicas a desafíos en múltiples industrias, desde la electrónica hasta las tecnologías cuánticas. Su continuo desarrollo e integración en diversas aplicaciones son muy prometedores para el avance de la tecnología y la investigación científica en los años venideros.
- Electrónica: dispositivos electrónicos de alta potencia, transistores de alta frecuencia, diodos, transistores de efecto de campo (FET)
- Sensores: temperatura, presión, radiación, composición del gas.
- Gestión del calor: disipadores de calor, disipadores de calor, soluciones de gestión térmica
- Óptica y Fotónica: Ventanas ópticas, lentes, sustrato para experimentos de óptica cuántica
- Tecnologías cuánticas: computación cuántica, comunicación cuántica, aplicaciones de detección cuántica
Características
Conductividad térmica excepcional: el diamante dopado con boro CVD posee una conductividad térmica excepcional, lo que permite una disipación eficiente del calor en electrónica de alta potencia, sistemas láser y microelectrónica.
Conductividad eléctrica adaptable: mediante un control preciso de la concentración de boro durante el proceso de crecimiento de CVD, la conductividad eléctrica del diamante dopado con boro CVD se puede personalizar en una amplia gama, desde aislante hasta altamente conductora.
Amplia transparencia espectral: el diamante dopado con boro CVD exhibe transparencia en un amplio rango espectral, lo que lo hace adecuado para aplicaciones en óptica y fotónica, como ventanas ópticas y lentes.
Alojamiento de centros de color: el diamante dopado con boro puede albergar centros de color, que son defectos en la red del diamante que exhiben propiedades ópticas únicas. Estos centros de color tienen aplicaciones en experimentos de óptica cuántica y procesamiento de información cuántica.
Alto voltaje de ruptura: el diamante dopado con boro CVD puede soportar altos voltajes de ruptura, lo que lo hace ideal para dispositivos electrónicos de alta potencia que operan en entornos hostiles.
Alta movilidad del portador: el diamante dopado con boro posee una alta movilidad del portador, lo que permite velocidades de conmutación más rápidas y un mejor rendimiento en dispositivos electrónicos.
Amplia ventana de potencial: el diamante dopado con boro tiene una amplia ventana de potencial de aproximadamente 3,5 V, lo que permite la aplicación de "sobrepotenciales" para estimular reacciones químicas de alta energía.
Corrientes de fondo bajas: los electrodos de diamante dopados con boro exhiben corrientes de fondo bajas en escaneos de voltamperometría cíclica debido a la pequeña capa de capacitancia en la interfaz similar a un semiconductor con soluciones electrolíticas.
Inercia química: el diamante dopado con boro CVD es químicamente inerte, lo que lo hace resistente a la corrosión y adecuado para entornos hostiles.
Propiedades cuánticas: El diamante dopado con boro tiene aplicaciones prometedoras en tecnologías cuánticas, como la computación cuántica, la comunicación cuántica y la detección cuántica, debido a sus largos tiempos de coherencia y su capacidad para albergar bits cuánticos individuales (qubits) a temperatura ambiente.
Principio
El diamante dopado con boro por deposición química de vapor (CVD) se crea introduciendo átomos de boro en la red del diamante durante el proceso de crecimiento de CVD. Este proceso de dopaje controla la conductividad eléctrica del material, lo que permite personalizarlo desde aislante hasta altamente conductor.
Ventajas
Comportamiento semiconductor: el dopaje con boro introduce portadores de carga en la red del diamante, lo que permite el control de la conductividad eléctrica, desde aislante hasta altamente conductora, lo que la hace adecuada para diversas aplicaciones electrónicas.
Alta conductividad térmica: el diamante dopado con boro posee una conductividad térmica excepcional, superando a otros semiconductores, lo que permite una disipación de calor eficiente en dispositivos electrónicos de alta potencia, sistemas láser y microelectrónica.
Amplia transparencia espectral: el diamante dopado con boro exhibe transparencia en un amplio rango espectral, desde ultravioleta hasta infrarrojo, lo que lo hace valioso para ventanas ópticas, lentes y aplicaciones en óptica y fotónica.
Centros de color: el diamante dopado con boro puede albergar centros de color, que son defectos de escala atómica con propiedades ópticas y de giro únicas. Estos centros de color encuentran aplicaciones en tecnologías cuánticas, incluida la computación cuántica, la comunicación cuántica y la detección cuántica.
Inercia química: el diamante dopado con boro es químicamente inerte, resistente a entornos hostiles y compatible con diversos productos químicos, lo que lo hace adecuado para aplicaciones en condiciones corrosivas o extremas.
Dureza mecánica: El diamante dopado con boro hereda la excepcional dureza mecánica del diamante, proporcionando durabilidad y resistencia al desgaste, incluso en aplicaciones exigentes.
Propiedades eléctricas personalizadas: la concentración de átomos de boro se puede controlar con precisión durante el proceso de crecimiento de CVD, lo que permite personalizar la conductividad eléctrica del material en un amplio rango, lo que permite la optimización para aplicaciones específicas.
Deposición a baja temperatura: el proceso de deposición química de vapor (CVD) generalmente se lleva a cabo a bajas temperaturas, lo que permite la integración con una amplia gama de sustratos y la compatibilidad con varios procesos de fabricación de dispositivos.
Compatibilidad industrial: el diamante dopado con boro CVD es compatible con los procesos de fabricación industrial, lo que permite una producción escalable y rentable, lo que lo hace adecuado para aplicaciones de gran volumen.
Especificación
Dimensión disponible: | Diámetro 100 mm, espesor 0,3-2 mm |
---|---|
Concentración de boro [B]: | 2 a 6 x 1020 átomos/cm3, con un promedio de 0,16 mm2 |
Resistividad aparente (Rv): | 2 a 1,8 x 10-3 ohmios m, ± 0,25 x 10-3 ohmios m |
Ventana de solvente: | >3.0V |
FAQ
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Materiales De Diamante?
¿Cuáles Son Las Principales Ventajas Y Aplicaciones Del Diamante Dopado Con Boro Por Deposición Química De Vapor (CVD)?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Materiales Diamantados En Aplicaciones Industriales?
¿Qué Es La Máquina De Diamante CVD?
¿Cómo Se Logra El Dopaje Con Boro Durante El Crecimiento De Películas De Diamante?
¿Qué Tipos De Materiales Diamantados Hay Disponibles?
¿Cuál Es La Relación Entre La Concentración De átomos De Boro Y La Conductividad Eléctrica De La Película De Diamante?
¿Cuál Es El Principio En El Que Se Basa El Uso De Materiales Diamantados En Las Herramientas De Corte?
¿Cómo Se Puede Adaptar La Conductividad Eléctrica De La Película De Diamante?
¿Por Qué Se Prefiere El Diamante Sintético Al Natural En Las Aplicaciones Industriales?
¿Cuáles Son Las Limitaciones O Desafíos Asociados Con La Fabricación De Películas De Diamante Dopadas Con Boro?
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