MPCVD
Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado
Número de artículo : MP-CVD-100
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
Envío:
Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Solicita tu cotización personalizada 👋
¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via Chat en líneaSolicitud
El principio de funcionamiento de la deposición química de vapor del diamante HFCVD es: mezclar una atmósfera que contiene carbono con hidrógeno sobresaturado, activarlo de cierta manera y luego pasarlo a través de una determinada composición de la atmósfera, energía de activación, temperatura del sustrato y la distancia entre el sustrato y la fuente de activación, etc. En estas condiciones, se deposita una película de diamante en la superficie inferior. Generalmente se cree que la nucleación y crecimiento de películas de diamante se puede dividir en tres etapas:
- El gas que contiene carbono y el gas radón se descomponen en átomos de carbono, hidrógeno y otros grupos libres activos a una determinada temperatura. Se combinan con la matriz para formar primero una capa de transición de carburo muy delgada.
- Los átomos de carbono depositan núcleos de diamante en la capa de transición formada sobre el sustrato.
- El núcleo de cristal de diamante formado crece hasta convertirse en un microelemento de diamante en un entorno adecuado y luego crece hasta convertirse en una película de diamante.
Detalle y piezas
Especificaciones técnicas
Composición técnica de HFCVD | ||
Parámetros técnicos | Composición del equipo | Configuración del sistema |
Campana de cristal: diámetro. 500 mm, altura 550 mm, cámara de acero inoxidable SUS304; aislamiento interior de piel de acero inoxidable, altura de elevación de 350 mm; | Un conjunto de cuerpo principal de cámara de vacío (campana de cristal) (estructura de refrigeración por agua con camisa) | Cuerpo principal de la cámara de vacío (campana de vidrio); la cavidad está hecha de acero inoxidable 304 de alta calidad; Campana de cristal vertical: la camisa de refrigeración por agua se instala en la periferia general de la campana de cristal. La pared interior de la campana está aislada con una piel de acero inoxidable y la campana está fijada en el lateral. Posicionamiento preciso y estable; Ventana de observación: dispuesta horizontalmente en el medio de la cámara de vacío Ventana de observación de 200 mm, refrigeración por agua, deflector, configuración lateral y superior Ángulo de bisel de 45 grados, ventana de observación de 50° (observe el mismo punto que la ventana de observación horizontal y la plataforma de soporte de la muestra ); las dos ventanas de observación mantienen la posición y el tamaño existentes. El fondo de la campana es 20 mm más alto que el plano del banco, ajuste el enfriamiento; los orificios reservados en el avión, como válvulas grandes, válvulas de liberación de aire, medición de presión de aire, válvulas de derivación, etc., están sellados con malla metálica y reservados para instalar la interfaz de electrodos; |
Mesa de equipo: L1550* W900*H1100mm | Un juego de dispositivo de mesa de muestra de arrastre (que adopta una unidad de doble eje) | Dispositivo portamuestras: Dispositivo portamuestras de acero inoxidable (refrigeración por agua de soldadura) de 6 posiciones; se puede ajustar por separado, solo ajuste hacia arriba y hacia abajo, el rango de ajuste hacia arriba y hacia abajo es de 25 mm, y se requiere que la vibración izquierda y derecha sea inferior al 3% al subir y bajar (es decir, la vibración izquierda y derecha de subir o bajar 1 mm es menos de 0,03 mm) y la etapa de muestra no gira cuando sube o baja. |
Grado de vacío máximo: 2,0×10-1Pa; | Un conjunto de sistema de vacío. | Sistema de vacío: Configuración del sistema de vacío: bomba mecánica + válvula de vacío + válvula de purga física + tubo de escape principal + bypass; (proporcionada por el proveedor de la bomba de vacío), la válvula de vacío utiliza una válvula neumática; Medida del sistema de vacío: Presión de membrana. |
Tasa de aumento de presión: ≤5Pa/h; | Sistema de suministro de gas con medidor de flujo másico de dos canales | Sistema de suministro de gas: el medidor de flujo másico está configurado por la Parte B, entrada de aire de dos vías, el caudal es controlado por el medidor de flujo másico, después de la reunión de dos vías, ingresa a la cámara de vacío desde la parte superior y el interior. del tubo de entrada de aire es de 50 mm |
Movimiento de la mesa de muestra: el rango hacia arriba y hacia abajo es de ± 25 m; es necesario agitar la proporción izquierda y derecha cuando esté arriba y abajo en ± 3%; | Un juego de dispositivo de electrodo (2 canales) | Dispositivo de electrodo: la dirección longitudinal de los cuatro orificios del electrodo es paralela a la dirección longitudinal de la plataforma de soporte, y la dirección longitudinal mira hacia la ventana de observación principal con un diámetro de 200 mm. |
Presión de trabajo: utilice un manómetro de membrana, rango de medición: 0 ~ 10 kPa; Trabaja constante a 1 kPa ~ 5 kPa, el valor de presión constante cambia más o menos 0,1 kPa; | Un conjunto de sistema de agua de refrigeración. | Sistema de agua de refrigeración: la campana, los electrodos y la placa inferior están equipados con tuberías de refrigeración por agua circulante y están equipados con un dispositivo de alarma de flujo de agua insuficiente 3.7: sistema de control. Los interruptores, instrumentos, instrumentos y fuente de alimentación para levantamiento de campana, desinflado, bomba de vacío, vía principal, derivación, alarma, flujo, presión de aire, etc. se encuentran en el costado del soporte y se controlan mediante una pantalla táctil de 14 pulgadas. ; El equipo tiene un programa de control totalmente automático sin intervención manual, y puede almacenar datos y datos de llamadas. |
Posición de entrada de aire: la entrada de aire se encuentra en la parte superior de la campana y la posición del puerto de escape se encuentra directamente debajo del portamuestras; | Sistema de control | |
Sistema de control: Controlador PLC + pantalla táctil de 10 pulgadas | Un conjunto de sistema de control de presión automático (válvula de control de presión original importada de Alemania) | |
Sistema de inflado: medidor de flujo másico de 2 canales, rango de flujo: 0-2000 sccm y 0-200 sccm; válvula de válvula neumática | Vacuómetro de resistencia | |
3.1.10 Bomba de vacío: bomba de vacío D16C |
Ventajas
La matriz de trefilado con recubrimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato y utiliza el método químico en fase de vapor (método CVD para abreviar) para recubrir el recubrimiento compuesto de diamante y nanodiamante convencional en la superficie del interior. agujero del molde. Y un producto nuevo obtenido tras esmerilar y pulir el revestimiento. El recubrimiento compuesto de nanodiamante recubierto en la superficie del orificio interior no solo tiene las características de fuerte adhesión y resistencia al desgaste del recubrimiento de diamante convencional, sino que también tiene las ventajas de una superficie plana y lisa del recubrimiento de nanodiamante, pequeña fricción. Coeficiente y fácil esmerilado y pulido. La tecnología de recubrimiento no solo resuelve el problema técnico de la adhesión del recubrimiento, sino que también supera el cuello de botella que supone que la superficie del recubrimiento de diamante no es fácil de pulir y elimina los obstáculos para la industrialización de la película de diamante CVD.
Indicadores técnicos | Troquel de dibujo tradicional | Troquel de dibujo recubierto de nanodiamante |
Tamaño de grano de la superficie del revestimiento | ninguno | 20~80nm |
Contenido de diamante del recubrimiento | ninguno | ≥99% |
Espesor del revestimiento de diamante | ninguno | 10 ~ 15mm |
Rugosidad de la superficie | Ra≤0,1mm | Clase A: Ra≤0,1 mm Clase B: Ra≤0,05 mm |
Rango de diámetro del orificio interior del troquel de dibujo de recubrimiento | Ф3 ~ Ф70mm | Ф3 ~ Ф70mm |
Vida útil | La esperanza de vida depende de las condiciones de trabajo. | 6-10 veces más |
Coeficiente de fricción superficial | 0,8 | 0.1 |
- Para el paralelismo y la rectitud de la plataforma de elevación del molde del equipo, nuestra empresa ha producido herramientas especiales. El método de elevación biaxial es suficiente para permitir que los dos extremos se eleven y bajen con aproximadamente ±2 cables, de modo que se puedan fabricar moldes más pequeños.
- Para el utillaje de los equipos, nuestra empresa integra la ubicación de cada empresa en el utillaje, apuntando al utillaje y proceso del molde. Buenas herramientas y sujeción, estables y confiables, de alta precisión, fáciles de operar.
- Para la válvula de cierre del equipo, otros fabricantes utilizan válvulas deflectoras, que no se pueden ajustar linealmente (es decir, el espacio aumenta rápidamente tan pronto como se abre). Nuestra empresa lo diseña de acuerdo con el principio de válvula de cierre y control de presión estable, de modo que la separación de cierre se pueda ajustar linealmente para lograr un control de presión estable;
- El sistema de control totalmente automático controla automáticamente la presión según algoritmos informáticos; puede reducir la aleatoriedad del operador y hacer que el proceso sea más confidencial. Ahorra mano de obra y la consistencia de la calidad del molde con las mismas especificaciones es más ideal;
- Para la estabilidad de la campana de elevación, nuestra empresa utiliza cojinetes autolubricantes, que hacen que la rotación sea más flexible y libre de atascos. Proceso básico, el recubrimiento de diamante se puede realizar de acuerdo con el proceso de recubrimiento de diamante de cada cliente.
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.
¿Podría enviarnos sus ideas? ¡Nuestros ingenieros están listos para usted ahora!
FAQ
¿Qué Materiales Puede Cortar Una Máquina De Corte De Diamante?
¿Qué Es El CVD (depósito Químico En Fase Vapor) Y Cuáles Son Sus Principales Ventajas?
¿Qué Es Un Equipo CVD?
¿Qué Es El Horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué Es La Deposición Física De Vapor (PVD)?
¿Qué Es La Máquina De Diamante CVD?
¿Qué Tipos De Máquinas De Crecimiento De Diamantes Están Disponibles?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina De Corte Con Diamante?
¿Cuáles Son Los Métodos Utilizados Para Depositar Películas Delgadas?
¿Cuáles Son Algunas De Las Aplicaciones Más Comunes De Los Materiales CVD?
¿Qué Hace El Equipo CVD?
¿Cómo Funciona El Horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Qué Es Mpcvd?
¿Qué Es RF PECVD?
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Qué Es La Pulverización Catódica Con Magnetrón?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Los Diamantes Cultivados En Laboratorio?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina De Corte Con Diamante?
¿Qué Es Un Equipo De Deposición De Película Delgada?
¿Qué Tipos De Materiales CVD Hay Disponibles?
¿Cuál Es El Principio Básico De La ECV?
¿Qué Gas Se Utiliza En El Proceso De CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Qué Es La Máquina Mpcvd?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Por Qué Pulverizar Con Magnetrón?
¿Cuál Es El Precio De La Máquina De Cultivo CVD?
¿Qué Tipos De Máquinas De Corte De Diamante Hay Disponibles?
¿Qué Es La Tecnología De Deposición De Película Delgada?
¿Cómo Mejora El Diamante CVD El Rendimiento De Las Herramientas De Corte?
¿Cuáles Son Los Diferentes Tipos De Método CVD?
¿Cuál Es La Ventaja Del Sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuáles Son Los Materiales Utilizados En La Deposición De Película Delgada?
La deposición de película delgada comúnmente utiliza metales, óxidos y compuestos como materiales, cada uno con sus ventajas y desventajas únicas. Se prefieren los metales por su durabilidad y facilidad de depósito, pero son relativamente caros. Los óxidos son muy duraderos, pueden soportar altas temperaturas y pueden depositarse a bajas temperaturas, pero pueden ser quebradizos y difíciles de manipular. Los compuestos ofrecen resistencia y durabilidad, pueden depositarse a bajas temperaturas y adaptarse para exhibir propiedades específicas.
La selección del material para un recubrimiento de película delgada depende de los requisitos de la aplicación. Los metales son ideales para la conducción térmica y eléctrica, mientras que los óxidos son efectivos para ofrecer protección. Los compuestos se pueden adaptar para satisfacer necesidades específicas. En última instancia, el mejor material para un proyecto en particular dependerá de las necesidades específicas de la aplicación.
¿Cómo Garantiza Una Máquina De Corte Con Diamante Un Corte De Alta Precisión?
¿Qué Hace Que Las Cúpulas De Diamante CVD Sean Adecuadas Para Altavoces De Alto Rendimiento?
¿Qué Significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Cuáles Son Los Métodos Para Lograr Una Deposición óptima De Película Delgada?
Para lograr películas delgadas con propiedades deseables, son esenciales objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de alta calidad. La calidad de estos materiales puede verse influenciada por varios factores, como la pureza, el tamaño del grano y el estado de la superficie.
La pureza de los objetivos de pulverización catódica o los materiales de evaporación juega un papel crucial, ya que las impurezas pueden causar defectos en la película delgada resultante. El tamaño del grano también afecta la calidad de la película delgada, y los granos más grandes conducen a propiedades deficientes de la película. Además, la condición de la superficie es crucial, ya que las superficies ásperas pueden provocar defectos en la película.
Para lograr objetivos de pulverización catódica y materiales de evaporación de la más alta calidad, es crucial seleccionar materiales que posean alta pureza, tamaño de grano pequeño y superficies lisas.
Usos De La Deposición De Película Delgada
Películas delgadas a base de óxido de zinc
Las películas delgadas de ZnO encuentran aplicaciones en varias industrias, como la térmica, óptica, magnética y eléctrica, pero su uso principal es en recubrimientos y dispositivos semiconductores.
Resistencias de película delgada
Las resistencias de película delgada son cruciales para la tecnología moderna y se utilizan en receptores de radio, placas de circuitos, computadoras, dispositivos de radiofrecuencia, monitores, enrutadores inalámbricos, módulos Bluetooth y receptores de teléfonos celulares.
Películas delgadas magnéticas
Las películas delgadas magnéticas se utilizan en electrónica, almacenamiento de datos, identificación por radiofrecuencia, dispositivos de microondas, pantallas, placas de circuitos y optoelectrónica como componentes clave.
Películas finas ópticas
Los recubrimientos ópticos y la optoelectrónica son aplicaciones estándar de películas delgadas ópticas. La epitaxia de haz molecular puede producir dispositivos optoelectrónicos de película delgada (semiconductores), donde las películas epitaxiales se depositan átomo por átomo sobre el sustrato.
Películas finas de polímero
Las películas delgadas de polímero se utilizan en chips de memoria, células solares y dispositivos electrónicos. Las técnicas de deposición química (CVD) ofrecen un control preciso de los recubrimientos de película de polímero, incluida la conformidad y el espesor del recubrimiento.
Baterías de película delgada
Las baterías de película delgada alimentan dispositivos electrónicos, como dispositivos médicos implantables, y la batería de iones de litio ha avanzado significativamente gracias al uso de películas delgadas.
Recubrimientos de película delgada
Los recubrimientos de película delgada mejoran las características químicas y mecánicas de los materiales objetivo en diversas industrias y campos tecnológicos. Los recubrimientos antirreflectantes, los recubrimientos antiultravioleta o antiinfrarrojos, los recubrimientos antirrayas y la polarización de lentes son algunos ejemplos comunes.
Células solares de película delgada
Las células solares de película delgada son esenciales para la industria de la energía solar, ya que permiten la producción de electricidad relativamente barata y limpia. Los sistemas fotovoltaicos y la energía térmica son las dos principales tecnologías aplicables.
¿Cuál Es El Campo De Aplicación De Una Máquina De Corte De Diamante?
¿Cómo Mejora El Diamante CVD La Gestión Térmica De Los Dispositivos Electrónicos?
¿Cuál Es La Diferencia Entre CVD Y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
Factores Y Parámetros Que Influyen En La Deposición De Películas Delgadas
Tasa de deposición:
La velocidad a la que se produce la película, normalmente medida en espesor dividido por el tiempo, es crucial para seleccionar una tecnología adecuada para la aplicación. Las tasas de deposición moderadas son suficientes para películas delgadas, mientras que las tasas de deposición rápidas son necesarias para películas gruesas. Es importante lograr un equilibrio entre la velocidad y el control preciso del espesor de la película.
Uniformidad:
La consistencia de la película sobre el sustrato se conoce como uniformidad, que generalmente se refiere al espesor de la película, pero también puede relacionarse con otras propiedades, como el índice de refracción. Es importante tener una buena comprensión de la aplicación para evitar la uniformidad de especificación insuficiente o excesiva.
Capacidad de llenado:
La capacidad de relleno o cobertura escalonada se refiere a qué tan bien el proceso de deposición cubre la topografía del sustrato. El método de deposición utilizado (p. ej., CVD, PVD, IBD o ALD) tiene un impacto significativo en la cobertura y el relleno del paso.
Características de la película:
Las características de la película dependen de los requisitos de la aplicación, que pueden categorizarse como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecánicos o químicos. La mayoría de las películas deben cumplir con los requisitos en más de una categoría.
Temperatura de proceso:
Las características de la película se ven significativamente afectadas por la temperatura del proceso, que puede estar limitada por la aplicación.
Daño:
Cada tecnología de deposición tiene el potencial de dañar el material sobre el que se deposita, y las características más pequeñas son más susceptibles al daño del proceso. La contaminación, la radiación ultravioleta y el bombardeo de iones se encuentran entre las posibles fuentes de daño. Es crucial entender las limitaciones de los materiales y herramientas.
4.8
out of
5
The HFCVD Equipment is a game-changer in diamond coating technology. It's efficient, precise, and delivers superior results. Highly recommended!
4.9
out of
5
I'm thoroughly impressed with the quality and performance of the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in exceptional results. A must-have for any lab!
4.7
out of
5
The HFCVD Equipment has exceeded my expectations. It's user-friendly, reliable, and produces high-quality diamond coatings consistently. A valuable addition to our laboratory.
4.9
out of
5
The HFCVD Equipment is a technological marvel. It has revolutionized our diamond coating research, enabling us to achieve remarkable results. Highly recommended for advanced materials research.
4.8
out of
5
The HFCVD Equipment has transformed our laboratory's capabilities. It delivers exceptional diamond coatings with remarkable precision and efficiency. A valuable investment for any research institution.
4.7
out of
5
I'm highly satisfied with the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in enhanced product quality and reduced production time. Highly recommended!
4.9
out of
5
The HFCVD Equipment is a testament to cutting-edge technology. It has enabled us to achieve unprecedented results in diamond coating, opening up new possibilities for research and innovation.
4.8
out of
5
The HFCVD Equipment has proven to be an invaluable asset to our laboratory. It delivers consistent, high-quality diamond coatings, making it an essential tool for our research.
4.7
out of
5
I'm thoroughly impressed with the HFCVD Equipment. It's user-friendly, efficient, and produces exceptional diamond coatings. A must-have for any laboratory involved in materials research.
4.9
out of
5
The HFCVD Equipment is a remarkable piece of technology. It has enabled us to achieve breakthrough results in diamond coating, pushing the boundaries of materials science.
PDF - Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Mpcvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Máquina De Diamante Cvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Máquina De Diamantes Cultivada En Laboratorio
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Cortadora De Diamante
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Equipo De Deposito De Pelicula Delgada
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Materiales Cvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Máquina De Cvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Horno Cvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Máquina Mpcvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Rf Pecvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Máquina Pecvd
disabled = false, 3000)"> Descargarcatalogo de Materiales De Deposición De Película Delgada
disabled = false, 3000)"> DescargarSOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas
Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz
915MHz MPCVD máquina de diamante y su crecimiento efectivo de múltiples cristales, el área máxima puede llegar a 8 pulgadas, el área máxima de crecimiento efectivo de un solo cristal puede llegar a 5 pulgadas. Este equipo se utiliza principalmente para la producción de películas de diamante policristalino de gran tamaño, el crecimiento de diamantes largos de un solo cristal, el crecimiento a baja temperatura de grafeno de alta calidad, y otros materiales que requieren energía proporcionada por plasma de microondas para el crecimiento.
Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia
RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.
Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio
Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD
Eficaz horno CVD de cámara dividida con estación de vacío para un control intuitivo de las muestras y un enfriamiento rápido. Temperatura máxima de hasta 1200℃ con control preciso del caudalímetro másico MFC.
Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Obtenga películas de diamante de alta calidad con nuestra máquina Bell-jar Resonator MPCVD diseñada para laboratorio y crecimiento de diamantes. Descubra cómo funciona la deposición de vapor químico de plasma de microondas para el cultivo de diamantes utilizando gas de carbono y plasma.
Horno tubular CVD multizonas de calentamiento Máquina CVD
KT-CTF14 Horno CVD Multizonas de Calentamiento - Control preciso de temperatura y flujo de gas para aplicaciones avanzadas. Temperatura máxima de hasta 1200℃, caudalímetro másico MFC de 4 canales y controlador con pantalla táctil TFT de 7".
Diamante CVD para gestión térmica.
Diamante CVD para gestión térmica: Diamante de alta calidad con conductividad térmica de hasta 2000 W/mK, ideal para esparcidores de calor, diodos láser y aplicaciones de GaN sobre diamante (GOD).
Máquina cortadora de hilo diamantado de alta precisión
La máquina cortadora de hilo diamantado de alta precisión es una herramienta de corte versátil y precisa diseñada específicamente para investigadores de materiales. Utiliza un mecanismo de corte continuo con hilo de diamante, que permite un corte preciso de materiales frágiles como cerámica, cristales, vidrio, metales, rocas y otros materiales.
Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)
Presentamos nuestro horno PECVD giratorio inclinado para la deposición precisa de películas delgadas. Disfrute de una fuente de coincidencia automática, control de temperatura programable PID y control de caudalímetro másico MFC de alta precisión. Características de seguridad integradas para su tranquilidad.
Diamante CVD para revestir herramientas
Experimente el rendimiento inmejorable de las piezas en bruto de diamante CVD: alta conductividad térmica, resistencia al desgaste excepcional e independencia de orientación.
Piezas en blanco para trefilado de alambre CVD Diamond
Troqueles en bruto para trefilado con diamante CVD: dureza superior, resistencia a la abrasión y aplicabilidad en el trefilado de diversos materiales. Ideal para aplicaciones de mecanizado de desgaste abrasivo como el procesamiento de grafito.
Diamante dopado con boro CVD: un material versátil que permite una conductividad eléctrica, transparencia óptica y propiedades térmicas excepcionales personalizadas para aplicaciones en electrónica, óptica, detección y tecnologías cuánticas.
Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD
Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.
Sistema Slide PECVD con gasificador líquido
Sistema KT-PE12 Slide PECVD: amplio rango de potencia, control de temperatura programable, calentamiento/enfriamiento rápido con sistema deslizante, control de flujo másico MFC y bomba de vacío.
Espacios en blanco para herramientas de corte
Herramientas de corte de diamante CVD: resistencia al desgaste superior, baja fricción, alta conductividad térmica para mecanizado de materiales no ferrosos, cerámica y compuestos
Máquina cortadora automática de alambre de diamante de alta precisión de 12/24 pulgadas
La máquina cortadora automática de hilo de diamante de alta precisión es una herramienta de corte versátil que utiliza un hilo de diamante para cortar una amplia gama de materiales, incluidos materiales conductores y no conductores, cerámica, vidrio, rocas, gemas, jade, meteoritos, silicio monocristalino, carburo de silicio, silicio policristalino, ladrillos refractarios, tableros epoxi y cuerpos de ferrita. Es especialmente adecuado para cortar varios cristales frágiles con alta dureza, alto valor y fáciles de romper.
Horno de vacío con revestimiento de fibra cerámica
Horno de vacío con revestimiento aislante de fibra cerámica policristalina para un excelente aislamiento térmico y un campo de temperatura uniforme. Elija entre 1200℃ o 1700℃ de temperatura máxima de trabajo con alto rendimiento de vacío y control preciso de la temperatura.
Descubra los domos de diamante CVD, la solución definitiva para altavoces de alto rendimiento. Fabricados con tecnología DC Arc Plasma Jet, estos domos ofrecen una calidad de sonido, durabilidad y manejo de potencia excepcionales.
Horno de vacío de tungsteno de 2200 ℃
Experimente lo último en hornos de metal refractario con nuestro horno de vacío de tungsteno. Capaz de alcanzar los 2200 ℃, perfecto para sinterizar cerámica avanzada y metales refractarios. Ordene ahora para obtener resultados de alta calidad.
Mejore sus experimentos con nuestro horno tubular vertical. Su diseño versátil permite el funcionamiento en diversos entornos y aplicaciones de tratamiento térmico. Pídalo ahora para obtener resultados precisos.
Horno CVD versátil hecho por el cliente
Obtenga su horno CVD exclusivo con el horno versátil hecho por el cliente KT-CTF16. Funciones personalizables de deslizamiento, rotación e inclinación para reacciones precisas. ¡Ordenar ahora!
Horno de prensado en caliente de tubos al vacío
Reduzca la presión de conformado y acorte el tiempo de sinterización con el Horno de Prensado en Caliente con Tubo de Vacío para materiales de alta densidad y grano fino. Ideal para metales refractarios.
Descubra la potencia del horno de vacío para grafito KT-VG: con una temperatura máxima de trabajo de 2200℃, es perfecto para la sinterización al vacío de diversos materiales. Obtenga más información ahora.
Banco de trabajo máquina de corte circular pequeña, de un solo hilo, de diamante, 800mm x 800mm
Las máquinas cortadoras de hilo diamantado se utilizan principalmente para el corte de precisión de cerámica, cristales, vidrio, metales, rocas, materiales termoeléctricos, materiales ópticos infrarrojos, materiales compuestos, materiales biomédicos y otras muestras de análisis de materiales. Especialmente indicado para cortes de precisión de placas ultrafinas con espesores de hasta 0,2 mm.
Artículos relacionados
Dominio de los medidores manuales de espesor de revestimiento: Guía completa para aplicaciones industriales y de automoción
Explore las complejidades de los medidores manuales de espesor de revestimientos, sus aplicaciones en galvanoplastia, pintura de automoción y revestimientos en polvo. Aprenda a elegir y utilizar estos instrumentos de forma eficaz para el control de calidad y la rentabilidad.
Una introducción a la deposición química de vapor (CVD)
La deposición química de vapor, o CVD, es un proceso de recubrimiento que involucra el uso de reactivos gaseosos para producir películas delgadas y recubrimientos de alta calidad.
Ventajas y desventajas del depósito químico en fase vapor (CVD)
La deposición química en fase vapor (CVD) es una técnica versátil de deposición de películas finas ampliamente utilizada en diversas industrias. Explore sus ventajas, desventajas y posibles nuevas aplicaciones.
El proceso de fabricación de un diamante CVD por máquina MPCVD
Las máquinas de diamante CVD han adquirido una importancia significativa en diversas industrias e investigaciones científicas.
Medidores manuales de espesor de revestimientos: Medición precisa para galvanoplastia y revestimientos industriales
Descubra las mejores prácticas y tecnologías para medir el espesor de revestimientos con medidores portátiles. Ideal para galvanoplastia, pintura de automoción y revestimientos en polvo.
Horno CVD para el crecimiento de nanotubos de carbono
La tecnología de horno de deposición química de vapor (CVD) es un método ampliamente utilizado para el cultivo de nanotubos de carbono.
Deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD): Una guía completa
Aprenda todo lo que necesita saber sobre la deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD), una técnica de deposición de película fina utilizada en la industria de los semiconductores. Explore sus principios, aplicaciones y ventajas.
Comprensión de PECVD: una guía para la deposición química de vapor mejorada con plasma
PECVD es una técnica útil para crear recubrimientos de película delgada porque permite la deposición de una amplia variedad de materiales, incluidos óxidos, nitruros y carburos.
Comparación del rendimiento de PECVD y HPCVD en aplicaciones de recubrimiento
Aunque tanto PECVD como HFCVD se utilizan para aplicaciones de recubrimiento, difieren en términos de métodos de deposición, rendimiento e idoneidad para aplicaciones específicas.
Máquinas CVD para deposición de película delgada
La deposición química de vapor (CVD) es una técnica ampliamente utilizada para la deposición de películas delgadas sobre varios sustratos.
Deposición de vapor químico (CVD) de grafeno Desafíos y soluciones
La deposición química de vapor (CVD) es un método ampliamente adoptado para la producción de grafeno de alta calidad.
Comprender la máquina de diamante CVD y cómo funciona
El proceso de creación de diamantes CVD (deposición química de vapor) implica la deposición de átomos de carbono sobre un sustrato mediante una reacción química en fase gaseosa. El proceso comienza con la selección de una semilla de diamante de alta calidad, que luego se coloca en una cámara de crecimiento junto con una mezcla de gas rica en carbono.