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Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

MPCVD

Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes

Número de artículo : KTMP315

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Potencia del microondas
Frecuencia de microondas 2450±15MHZ
Potencia de salida
1~10 KW continuamente ajustable
Fuga de microondas
≤2MW/cm2
Interfaz de guía de onda de salida
WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
Portamuestras
Diámetro de la mesa de muestra≥70 mm, área de uso efectivo≥64 mm
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MPCVD significa Deposición de vapor químico de plasma de microondas. Crece películas de diamante de calidad en laboratorios utilizando gas carbónico y plasma de microondas.

Sistema MPCVD

MPCVD es un sistema para depositar películas delgadas sobre un sustrato utilizando una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas. Un plasma es generado dentro de la cámara por un magnetrón o klistrón que genera microondas a 2,45 GHz. El sistema de suministro de gas tiene MFC calibrados en sccm para controlar el flujo de gas. La temperatura del sustrato es controlada por el plasma y medida por un termopar. El plasma calienta el sustrato y la temperatura se controla durante la deposición.

Aplicaciones

MPCVD se muestra prometedor para producir diamantes grandes y de alta calidad a bajo costo.

Las propiedades únicas del diamante, como dureza, rigidez, alta conductividad térmica, baja expansión térmica, dureza por radiación e inercia química, lo convierten en un material valioso. Sin embargo, el alto costo, el tamaño limitado y la dificultad para controlar las impurezas de los diamantes naturales y sintéticos de alta presión y alta temperatura han limitado sus aplicaciones.

MPCVD es el equipo principal para el cultivo de piedras preciosas y películas de diamantes, que pueden ser monocristalinas o policristalinas. La industria de los semiconductores utiliza ampliamente el crecimiento de la película de diamante para sustratos de diamante de gran tamaño, así como la industria de herramientas de perforación o corte de diamante.

En comparación con el método HPHT para diamantes cultivados en laboratorio, el método CVD de microondas es ventajoso para el crecimiento de diamantes de gran tamaño a un costo menor, lo que lo convierte en una solución ideal para diamantes semiconductores, crecimiento de diamantes ópticos y el gran mercado de diamantes de joyería.

Diamantes en bruto cultivados por MPCVD
Diamantes en bruto cultivados por MPCVD
En KinTek MPCVD Machine, los diamantes están creciendo
En KinTek MPCVD Machine, los diamantes están creciendo
En KinTek MPCVD Machine, los diamantes están creciendo
En KinTek MPCVD Machine, los diamantes están creciendo
Diamantes crecidos MPCVD después del pulido
Diamantes crecidos MPCVD después del pulido
Policristalino por KinTek MPCVD
Policristalino por KinTek MPCVD

Ventajas de MPCVD

MPCVD es un método de síntesis de diamantes con ventajas sobre HFCVD y DC-PJ CVD. Evita la contaminación y permite múltiples gases. Ofrece un ajuste de potencia de microondas suave y un control de temperatura estable, evitando la pérdida de cristales de semillas. MPCVD es prometedor para aplicaciones industriales debido a un área de plasma grande y estable.

MPCVD produce diamantes más puros usando menos energía que HPHT. También permite la producción de diamantes más grandes.

Ventajas de Nuestro Sistema MPCVD

Hemos estado profundamente involucrados en la industria durante muchos años y, como resultado, tenemos una amplia base de clientes que confían y utilizan nuestro equipo. Nuestro equipo MPCVD ha estado funcionando de manera constante durante más de 40 000 horas, demostrando una estabilidad, confiabilidad, repetibilidad y rentabilidad excepcionales. Más ventajas de nuestro sistema MPCVD incluyen:

  • Área de cultivo de sustrato de 3 pulgadas, máx. carga por lotes de hasta 45 piezas de diamantes
  • Potencia de microondas de salida ajustable de 1-10 Kw para un menor consumo de electricidad
  • Equipo de investigación rico y experimentado con soporte de recetas de cultivo de diamantes fronterizos
  • Programa de soporte técnico exclusivo para el equipo de experiencia de crecimiento de cero diamantes

Al aprovechar nuestra tecnología avanzada acumulada, hemos implementado varias rondas de actualizaciones y mejoras en nuestro sistema MPCVD, lo que ha dado como resultado una eficiencia significativamente mejorada y costos de equipo reducidos. Como resultado, nuestro equipo MPCVD está a la vanguardia de los avances tecnológicos y se ofrece a un precio competitivo. Bienvenido a consultar con nosotros.

Simulación KinTek MPCVD
Simulación KinTek MPCVD

Procesamiento de trabajo

La máquina MPCVD controla el flujo de cada ruta de gas y la presión de la cavidad mientras introduce gases reactivos (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) en la cavidad bajo una presión específica. Después de estabilizar el flujo de aire, el generador de microondas de estado sólido de 6KW genera microondas que luego se introducen en la cavidad a través de la guía de ondas.

El gas de reacción se transforma en un estado de plasma bajo el campo de microondas, formando una bola de plasma que flota sobre el sustrato de diamante. La alta temperatura del plasma calienta el sustrato a una temperatura específica. El exceso de calor producido en la cavidad es disipado por la unidad de refrigeración por agua.

Para garantizar condiciones de crecimiento óptimas durante el proceso de crecimiento del diamante monocristalino MPCVD, ajustamos factores como la potencia, la composición de la fuente de gas y la presión de la cavidad. Además, dado que la bola de plasma no hace contacto con la pared de la cavidad, el proceso de crecimiento del diamante está libre de impurezas, lo que mejora la calidad del diamante.

Detalle y piezas

Sistema de microondas

Sistema de microondas

cámara de reacción

cámara de reacción

Sistema de flujo de gas

Sistema de flujo de gas

Sistema de vacío y sensor

Sistema de vacío y sensor

Especificaciones técnicas

Sistema de microondas
  • Frecuencia de microondas 2450±15MHz,
  • Potencia de salida 1~10 KW continuamente ajustable
  • Estabilidad de potencia de salida de microondas: <±1%
  • Fuga de microondas ≤2MW/cm2
  • Interfaz de guía de onda de salida: WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
  • Flujo de agua de refrigeración: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionaria del sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Ajustador manual de microondas de 3 pines, cavidad de excitación, carga de alta potencia
  • Fuente de alimentación de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásica
cámara de reacción
  • Tasa de fuga de vacío<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La presión límite es inferior a 0,7 Pa (configuración estándar con vacuómetro Pirani)
  • El aumento de presión de la cámara no debe exceder los 50 Pa después de 12 horas de mantener la presión
  • Modo de funcionamiento de la cámara de reacción: modo TM021 o TM023
  • Tipo de cavidad: cavidad resonante de mariposa, con una potencia de carga máxima de 10 KW, fabricada en acero inoxidable 304, con capa intermedia refrigerada por agua y método de sellado de placa de cuarzo de alta pureza.
  • Modo de admisión de aire: admisión de aire uniforme anular superior
  • Sellado al vacío: la conexión inferior de la cámara principal y la puerta de inyección están selladas con anillos de goma, la bomba de vacío y los fuelles están sellados con KF, la placa de cuarzo está sellada con un anillo en C de metal y el resto está sellado con CF
  • Ventana de observación y medición de temperatura: 4 puertos de observación
  • Puerto de carga de muestra frente a la cámara
  • Descarga estable dentro del rango de presión de 0.7KPa~30KPa (la presión de potencia debe coincidir)
Portamuestras
  • Diámetro de la mesa de muestra≥70 mm, área de uso efectivo≥64 mm
  • Estructura tipo sándwich refrigerada por agua con plataforma de placa base
  • El portamuestras se puede subir y bajar eléctricamente de manera uniforme en la cavidad
Sistema de flujo de gas
  • Todo el disco de aire de soldadura de metal
  • Se utilizarán juntas soldadas o VCR para todos los circuitos internos de gas del equipo.
  • Caudalímetro MFC de 5 canales, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Prensa de trabajo 0.05-0.3MPa, precisión ±2%
  • Control de válvula neumática independiente para cada medidor de flujo de canal
Sistema de refrigeración
  • Refrigeración por agua de 3 líneas, monitoreo en tiempo real de temperatura y flujo.
  • El caudal de agua de refrigeración del sistema es ≤ 50 l/min.
  • La presión del agua de refrigeración es <4 KG y la temperatura del agua de entrada es de 20-25 ℃.
Sensor de temperatura
  • El termómetro infrarrojo externo tiene un rango de temperatura de 300-1400 ℃
  • Precisión de control de temperatura < 2 ℃ o 2%
Sistema de control
  • Se adoptan Siemens smart 200 PLC y control de pantalla táctil.
  • El sistema tiene una variedad de programas que pueden realizar el equilibrio automático de la temperatura de crecimiento, el control preciso de la presión del aire de crecimiento, el aumento automático de la temperatura, la caída automática de la temperatura y otras funciones.
  • El funcionamiento estable del equipo y la protección integral del equipo se pueden lograr mediante el control del flujo de agua, la temperatura, la presión y otros parámetros, y la confiabilidad y seguridad de la operación se pueden garantizar mediante el enclavamiento funcional.
función opcional
  • Sistema de vigilancia del centro
  • Poder de base del sustrato

Advertencias

¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.

Diseñado para ti

KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.

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FAQ

¿Qué Es Mpcvd?

MPCVD significa Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition y es un proceso de depósito de películas delgadas sobre una superficie. Utiliza una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas para crear un plasma compuesto por productos químicos reactivos y los catalizadores necesarios. MPCVD se usa mucho en la red ANFF para depositar capas de diamante utilizando metano e hidrógeno para hacer crecer nuevo diamante en un sustrato con semilla de diamante. Es una tecnología prometedora para producir diamantes grandes de alta calidad y bajo costo y se usa ampliamente en la industria de corte de diamantes y semiconductores.

¿Qué Es La Máquina De Diamante CVD?

Una máquina de diamante CVD es un dispositivo que se utiliza para producir diamantes sintéticos a través de un proceso llamado deposición química de vapor (CVD). Este proceso implica la precipitación de vapores químicos para crear un diamante, que tiene propiedades equivalentes a las de los diamantes naturales. Máquinas de diamante CVD que incluyen CVD térmico asistido por filamento, CVD mejorado por plasma y CVD asistido por llama de combustión, etc. Los diamantes CVD resultantes son útiles en la industria de herramientas de corte debido a su alta dureza y larga vida útil, lo que los convierte en y rentable herramienta para cortar materiales no ferrosos.

¿Qué Es La Máquina Mpcvd?

La máquina MPCVD (deposición química de vapor de plasma por microondas) es un equipo de laboratorio que se utiliza para cultivar películas de diamante de alta calidad. Utiliza un gas que contiene carbono y un plasma de microondas para crear una bola de plasma sobre el sustrato de diamante, que lo calienta a una temperatura específica. La bola de plasma no hace contacto con la pared de la cavidad, lo que hace que el proceso de crecimiento del diamante esté libre de impurezas y mejore la calidad del diamante. El sistema MPCVD consta de una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas que controla el flujo de gas hacia la cámara.

¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?

MPCVD tiene varias ventajas sobre otros métodos de producción de diamantes, como mayor pureza, menor consumo de energía y la capacidad de producir diamantes más grandes.

¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?

Los diamantes CVD son diamantes reales y no falsos. Se cultivan en un laboratorio a través de un proceso llamado Deposición Química de Vapor (CVD). A diferencia de los diamantes naturales que se extraen de debajo de la superficie terrestre, los diamantes CVD se crean usando tecnología avanzada en laboratorios. Estos diamantes son 100% carbono y son la forma más pura de diamantes conocidos como diamantes Tipo IIa. Tienen las mismas propiedades ópticas, térmicas, físicas y químicas que los diamantes naturales. La única diferencia es que los diamantes CVD se crean en un laboratorio y no se extraen de la tierra.
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