MPCVD
Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Número de artículo : KTMP315
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Potencia del microondas
- Frecuencia de microondas 2450±15MHZ
- Potencia de salida
- 1～10 KW continuamente ajustable
- Fuga de microondas
- ≤2MW/cm2
- Interfaz de guía de onda de salida
- WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
- Portamuestras
- Diámetro de la mesa de muestra≥70 mm, área de uso efectivo≥64 mm
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¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via Chat en líneaMPCVD significa Deposición de vapor químico de plasma de microondas. Crece películas de diamante de calidad en laboratorios utilizando gas carbónico y plasma de microondas.
Sistema MPCVD
MPCVD es un sistema para depositar películas delgadas sobre un sustrato utilizando una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas. Un plasma es generado dentro de la cámara por un magnetrón o klistrón que genera microondas a 2,45 GHz. El sistema de suministro de gas tiene MFC calibrados en sccm para controlar el flujo de gas. La temperatura del sustrato es controlada por el plasma y medida por un termopar. El plasma calienta el sustrato y la temperatura se controla durante la deposición.
Aplicaciones
MPCVD se muestra prometedor para producir diamantes grandes y de alta calidad a bajo costo.
Las propiedades únicas del diamante, como dureza, rigidez, alta conductividad térmica, baja expansión térmica, dureza por radiación e inercia química, lo convierten en un material valioso. Sin embargo, el alto costo, el tamaño limitado y la dificultad para controlar las impurezas de los diamantes naturales y sintéticos de alta presión y alta temperatura han limitado sus aplicaciones.
MPCVD es el equipo principal para el cultivo de piedras preciosas y películas de diamantes, que pueden ser monocristalinas o policristalinas. La industria de los semiconductores utiliza ampliamente el crecimiento de la película de diamante para sustratos de diamante de gran tamaño, así como la industria de herramientas de perforación o corte de diamante.
En comparación con el método HPHT para diamantes cultivados en laboratorio, el método CVD de microondas es ventajoso para el crecimiento de diamantes de gran tamaño a un costo menor, lo que lo convierte en una solución ideal para diamantes semiconductores, crecimiento de diamantes ópticos y el gran mercado de diamantes de joyería.
Ventajas de MPCVD
MPCVD es un método de síntesis de diamantes con ventajas sobre HFCVD y DC-PJ CVD. Evita la contaminación y permite múltiples gases. Ofrece un ajuste de potencia de microondas suave y un control de temperatura estable, evitando la pérdida de cristales de semillas. MPCVD es prometedor para aplicaciones industriales debido a un área de plasma grande y estable.
MPCVD produce diamantes más puros usando menos energía que HPHT. También permite la producción de diamantes más grandes.
Ventajas de Nuestro Sistema MPCVD
Hemos estado profundamente involucrados en la industria durante muchos años y, como resultado, tenemos una amplia base de clientes que confían y utilizan nuestro equipo. Nuestro equipo MPCVD ha estado funcionando de manera constante durante más de 40 000 horas, demostrando una estabilidad, confiabilidad, repetibilidad y rentabilidad excepcionales. Más ventajas de nuestro sistema MPCVD incluyen:
- Área de cultivo de sustrato de 3 pulgadas, máx. carga por lotes de hasta 45 piezas de diamantes
- Potencia de microondas de salida ajustable de 1-10 Kw para un menor consumo de electricidad
- Equipo de investigación rico y experimentado con soporte de recetas de cultivo de diamantes fronterizos
- Programa de soporte técnico exclusivo para el equipo de experiencia de crecimiento de cero diamantes
Al aprovechar nuestra tecnología avanzada acumulada, hemos implementado varias rondas de actualizaciones y mejoras en nuestro sistema MPCVD, lo que ha dado como resultado una eficiencia significativamente mejorada y costos de equipo reducidos. Como resultado, nuestro equipo MPCVD está a la vanguardia de los avances tecnológicos y se ofrece a un precio competitivo. Bienvenido a consultar con nosotros.
Procesamiento de trabajo
La máquina MPCVD controla el flujo de cada ruta de gas y la presión de la cavidad mientras introduce gases reactivos (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) en la cavidad bajo una presión específica. Después de estabilizar el flujo de aire, el generador de microondas de estado sólido de 6KW genera microondas que luego se introducen en la cavidad a través de la guía de ondas.
El gas de reacción se transforma en un estado de plasma bajo el campo de microondas, formando una bola de plasma que flota sobre el sustrato de diamante. La alta temperatura del plasma calienta el sustrato a una temperatura específica. El exceso de calor producido en la cavidad es disipado por la unidad de refrigeración por agua.
Para garantizar condiciones de crecimiento óptimas durante el proceso de crecimiento del diamante monocristalino MPCVD, ajustamos factores como la potencia, la composición de la fuente de gas y la presión de la cavidad. Además, dado que la bola de plasma no hace contacto con la pared de la cavidad, el proceso de crecimiento del diamante está libre de impurezas, lo que mejora la calidad del diamante.
Detalle y piezas
Sistema de microondas
cámara de reacción
Sistema de flujo de gas
Sistema de vacío y sensor
Especificaciones técnicas
| Sistema de microondas |
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| cámara de reacción |
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| Portamuestras |
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| Sistema de flujo de gas |
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| Sistema de refrigeración |
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| Sensor de temperatura |
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| Sistema de control |
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| función opcional |
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Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.
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FAQ
¿Qué es un equipo CVD?
¿Qué materiales puede cortar una máquina de corte de diamante?
¿Qué es el horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué es el CVD (depósito químico en fase vapor) y cuáles son sus principales ventajas?
¿Qué es el método PECVD?
¿Qué es la máquina de diamante CVD?
¿Qué tipos de máquinas de crecimiento de diamantes están disponibles?
¿Qué es Mpcvd?
¿Qué hace el equipo CVD?
¿Qué es RF PECVD?
¿Cuál es el principio de una máquina de corte con diamante?
¿Cuáles son los métodos utilizados para depositar películas delgadas?
¿Cómo funciona el horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Cuáles son algunas de las aplicaciones más comunes de los materiales CVD?
¿Para qué se utiliza PECVD?
¿Cuáles son las ventajas de los diamantes cultivados en laboratorio?
¿Qué es la máquina Mpcvd?
¿Cuál es el principio básico de la ECV?
PACVD es PECVD?
¿Cuáles son las ventajas de utilizar una máquina de corte con diamante?
¿Qué es un equipo de deposición de película delgada?
¿Qué gas se utiliza en el proceso de CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Qué tipos de materiales CVD hay disponibles?
¿Cuáles son las ventajas de PECVD?
¿Cuál es el precio de la máquina de cultivo CVD?
¿Cuáles son las ventajas de Mpcvd?
¿Cuáles son los diferentes tipos de método CVD?
¿Qué tipos de máquinas de corte de diamante hay disponibles?
¿Qué es la tecnología de deposición de película delgada?
¿Cuál es la ventaja del sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cómo mejora el diamante CVD el rendimiento de las herramientas de corte?
¿Cuál es la diferencia entre ALD y PECVD?
¿Los diamantes CVD son reales o falsos?
¿Cómo garantiza una máquina de corte con diamante un corte de alta precisión?
¿Qué significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Qué hace que las cúpulas de diamante CVD sean adecuadas para altavoces de alto rendimiento?
¿Cuál es la diferencia entre PECVD y pulverización catódica?
¿Cuál es el campo de aplicación de una máquina de corte de diamante?
¿Cuál es la diferencia entre CVD y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
¿Cómo mejora el diamante CVD la gestión térmica de los dispositivos electrónicos?
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