MPCVD
Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Número de artículo : KTMP315
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Potencia del microondas
- Frecuencia de microondas 2450±15MHZ
- Potencia de salida
- 1～10 KW continuamente ajustable
- Fuga de microondas
- ≤2MW/cm2
- Interfaz de guía de onda de salida
- WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
- Portamuestras
- Diámetro de la mesa de muestra≥70 mm, área de uso efectivo≥64 mm
Envío:
Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Solicita tu cotización personalizada 👋
¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via Chat en líneaMPCVD significa Deposición de vapor químico de plasma de microondas. Crece películas de diamante de calidad en laboratorios utilizando gas carbónico y plasma de microondas.
Sistema MPCVD
MPCVD es un sistema para depositar películas delgadas sobre un sustrato utilizando una cámara de vacío, un generador de microondas y un sistema de suministro de gas. Un plasma es generado dentro de la cámara por un magnetrón o klistrón que genera microondas a 2,45 GHz. El sistema de suministro de gas tiene MFC calibrados en sccm para controlar el flujo de gas. La temperatura del sustrato es controlada por el plasma y medida por un termopar. El plasma calienta el sustrato y la temperatura se controla durante la deposición.
Aplicaciones
MPCVD se muestra prometedor para producir diamantes grandes y de alta calidad a bajo costo.
Las propiedades únicas del diamante, como dureza, rigidez, alta conductividad térmica, baja expansión térmica, dureza por radiación e inercia química, lo convierten en un material valioso. Sin embargo, el alto costo, el tamaño limitado y la dificultad para controlar las impurezas de los diamantes naturales y sintéticos de alta presión y alta temperatura han limitado sus aplicaciones.
MPCVD es el equipo principal para el cultivo de piedras preciosas y películas de diamantes, que pueden ser monocristalinas o policristalinas. La industria de los semiconductores utiliza ampliamente el crecimiento de la película de diamante para sustratos de diamante de gran tamaño, así como la industria de herramientas de perforación o corte de diamante.
En comparación con el método HPHT para diamantes cultivados en laboratorio, el método CVD de microondas es ventajoso para el crecimiento de diamantes de gran tamaño a un costo menor, lo que lo convierte en una solución ideal para diamantes semiconductores, crecimiento de diamantes ópticos y el gran mercado de diamantes de joyería.
Ventajas de MPCVD
MPCVD es un método de síntesis de diamantes con ventajas sobre HFCVD y DC-PJ CVD. Evita la contaminación y permite múltiples gases. Ofrece un ajuste de potencia de microondas suave y un control de temperatura estable, evitando la pérdida de cristales de semillas. MPCVD es prometedor para aplicaciones industriales debido a un área de plasma grande y estable.
MPCVD produce diamantes más puros usando menos energía que HPHT. También permite la producción de diamantes más grandes.
Ventajas de Nuestro Sistema MPCVD
Hemos estado profundamente involucrados en la industria durante muchos años y, como resultado, tenemos una amplia base de clientes que confían y utilizan nuestro equipo. Nuestro equipo MPCVD ha estado funcionando de manera constante durante más de 40 000 horas, demostrando una estabilidad, confiabilidad, repetibilidad y rentabilidad excepcionales. Más ventajas de nuestro sistema MPCVD incluyen:
- Área de cultivo de sustrato de 3 pulgadas, máx. carga por lotes de hasta 45 piezas de diamantes
- Potencia de microondas de salida ajustable de 1-10 Kw para un menor consumo de electricidad
- Equipo de investigación rico y experimentado con soporte de recetas de cultivo de diamantes fronterizos
- Programa de soporte técnico exclusivo para el equipo de experiencia de crecimiento de cero diamantes
Al aprovechar nuestra tecnología avanzada acumulada, hemos implementado varias rondas de actualizaciones y mejoras en nuestro sistema MPCVD, lo que ha dado como resultado una eficiencia significativamente mejorada y costos de equipo reducidos. Como resultado, nuestro equipo MPCVD está a la vanguardia de los avances tecnológicos y se ofrece a un precio competitivo. Bienvenido a consultar con nosotros.
Procesamiento de trabajo
La máquina MPCVD controla el flujo de cada ruta de gas y la presión de la cavidad mientras introduce gases reactivos (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) en la cavidad bajo una presión específica. Después de estabilizar el flujo de aire, el generador de microondas de estado sólido de 6KW genera microondas que luego se introducen en la cavidad a través de la guía de ondas.
El gas de reacción se transforma en un estado de plasma bajo el campo de microondas, formando una bola de plasma que flota sobre el sustrato de diamante. La alta temperatura del plasma calienta el sustrato a una temperatura específica. El exceso de calor producido en la cavidad es disipado por la unidad de refrigeración por agua.
Para garantizar condiciones de crecimiento óptimas durante el proceso de crecimiento del diamante monocristalino MPCVD, ajustamos factores como la potencia, la composición de la fuente de gas y la presión de la cavidad. Además, dado que la bola de plasma no hace contacto con la pared de la cavidad, el proceso de crecimiento del diamante está libre de impurezas, lo que mejora la calidad del diamante.
Detalle y piezas
Sistema de microondas
cámara de reacción
Sistema de flujo de gas
Sistema de vacío y sensor
Especificaciones técnicas
| Sistema de microondas |
|
| cámara de reacción |
|
| Portamuestras |
|
| Sistema de flujo de gas |
|
| Sistema de refrigeración |
|
| Sensor de temperatura |
|
| Sistema de control |
|
| función opcional |
|
Advertencias
¡La seguridad del operador es el tema más importante! Por favor, opere el equipo con precauciones. Trabajar con gases inflamables, explosivos o tóxicos es muy peligroso, los operadores deben tomar todas las precauciones necesarias antes de poner en marcha el equipo. Trabajar con presión positiva dentro de los reactores o cámaras es peligroso, el operador debe respetar estrictamente los procedimientos de seguridad. También se debe tener precaución adicional cuando se opera con materiales que reaccionan con el aire, especialmente bajo vacío. Una fuga puede introducir aire en el aparato y provocar una reacción violenta.
Diseñado para ti
KinTek brinda un profundo servicio y equipo personalizado a clientes de todo el mundo, nuestro trabajo en equipo especializado y nuestros ingenieros ricos y experimentados son capaces de llevar a cabo los requisitos de equipos de hardware y software personalizados, y ayudar a nuestros clientes a construir el equipo y la solución exclusivos y personalizados.
¿Podría enviarnos sus ideas? ¡Nuestros ingenieros están listos para usted ahora!
FAQ
¿Qué Es Un Equipo CVD?
¿Qué Materiales Puede Cortar Una Máquina De Corte De Diamante?
¿Qué Es El Horno CVD?
La deposición química de vapor (CVD) es una tecnología que utiliza diversas fuentes de energía, como calentamiento, excitación de plasma o radiación de luz para hacer reaccionar químicamente sustancias químicas gaseosas o de vapor en la fase gaseosa o la interfaz gas-sólido para formar depósitos sólidos en el reactor por medio de reacción química. En pocas palabras, dos o más materias primas gaseosas se introducen en una cámara de reacción y luego reaccionan entre sí para formar un nuevo material y depositarlo en la superficie del sustrato.
El horno CVD es un sistema de horno combinado con unidad de horno tubular de alta temperatura, unidad de control de gases y unidad de vacío, es ampliamente utilizado para experimentar y producir preparación de materiales compuestos, proceso de microelectrónica, optoelectrónica de semiconductores, utilización de energía solar, comunicación de fibra óptica, superconductor tecnología, campo de recubrimiento protector.
¿Qué Es El CVD (depósito Químico En Fase Vapor) Y Cuáles Son Sus Principales Ventajas?
¿Qué Es El Método PECVD?
¿Qué Es La Máquina De Diamante CVD?
¿Qué Tipos De Máquinas De Crecimiento De Diamantes Están Disponibles?
¿Qué Es Mpcvd?
¿Qué Hace El Equipo CVD?
¿Qué Es RF PECVD?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina De Corte Con Diamante?
¿Cuáles Son Los Métodos Utilizados Para Depositar Películas Delgadas?
¿Cómo Funciona El Horno CVD?
El sistema de horno CVD consta de una unidad de horno tubular de alta temperatura, una unidad de control preciso de la fuente de gas reaccionante, una estación de bomba de vacío y las piezas de montaje correspondientes.
La bomba de vacío es para eliminar el aire del tubo de reacción y asegurarse de que no haya gases no deseados dentro del tubo de reacción, después de eso, el horno tubular calentará el tubo de reacción a una temperatura objetivo, luego la unidad de control precisa de la fuente de gas de reacción puede introducir diferentes gases con una relación establecida en el tubo del horno para la reacción química, la deposición de vapor químico se formará en el horno CVD.
¿Cuáles Son Algunas De Las Aplicaciones Más Comunes De Los Materiales CVD?
¿Para Qué Se Utiliza PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Los Diamantes Cultivados En Laboratorio?
¿Qué Es La Máquina Mpcvd?
¿Cuál Es El Principio Básico De La ECV?
PACVD Es PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina De Corte Con Diamante?
¿Qué Es Un Equipo De Deposición De Película Delgada?
¿Qué Gas Se Utiliza En El Proceso De CVD?
Hay enormes fuentes de gas que se pueden usar en el proceso de CVD, las reacciones químicas comunes de CVD incluyen pirólisis, fotólisis, reducción, oxidación, redox, por lo que los gases involucrados en estas reacciones químicas se pueden usar en el proceso de CVD.
Tomamos el crecimiento de CVD Graphene como ejemplo, los gases utilizados en el proceso de CVD serán CH4, H2, O2 y N2.
¿Qué Tipos De Materiales CVD Hay Disponibles?
¿Cuáles Son Las Ventajas De PECVD?
¿Cuál Es El Precio De La Máquina De Cultivo CVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Mpcvd?
¿Cuáles Son Los Diferentes Tipos De Método CVD?
¿Qué Tipos De Máquinas De Corte De Diamante Hay Disponibles?
¿Qué Es La Tecnología De Deposición De Película Delgada?
¿Cuál Es La Ventaja Del Sistema CVD?
- Se puede producir una amplia gama de películas, películas metálicas, películas no metálicas y películas de aleación multicomponente, según se requiera. Al mismo tiempo, puede preparar cristales de alta calidad que son difíciles de obtener por otros métodos, como GaN, BP, etc.
- La velocidad de formación de la película es rápida, normalmente varias micras por minuto o incluso cientos de micras por minuto. Es posible depositar simultáneamente grandes cantidades de recubrimientos con una composición uniforme, lo que es incomparable con otros métodos de preparación de películas, como la epitaxia en fase líquida (LPE) y la epitaxia de haz molecular (MBE).
- Las condiciones de trabajo se llevan a cabo en condiciones de presión normal o bajo vacío, por lo que el recubrimiento tiene una buena difracción y las piezas de trabajo con formas complejas se pueden recubrir uniformemente, lo cual es muy superior al PVD.
- Debido a la difusión mutua del gas de reacción, el producto de reacción y el sustrato, se puede obtener un recubrimiento con buena fuerza de adhesión, lo cual es crucial para preparar películas con superficie reforzada, como películas resistentes al desgaste y anticorrosión.
- Algunas películas crecen a una temperatura mucho más baja que el punto de fusión del material de la película. En condiciones de crecimiento a baja temperatura, el gas de reacción y la pared del reactor y las impurezas contenidas en ellos casi no reaccionan, por lo que se puede obtener una película con alta pureza y buena cristalinidad.
- La deposición de vapor químico puede obtener una superficie de deposición suave. Esto se debe a que, en comparación con LPE, la deposición química de vapor (CVD) se lleva a cabo en alta saturación, con alta tasa de nucleación, alta densidad de nucleación y distribución uniforme en todo el plano, lo que da como resultado una superficie lisa macroscópica. Al mismo tiempo, en la deposición química de vapor, el camino libre promedio de las moléculas (átomos) es mucho mayor que el LPE, por lo que la distribución espacial de las moléculas es más uniforme, lo que conduce a la formación de una superficie de deposición uniforme.
- Bajo daño por radiación, que es una condición necesaria para la fabricación de semiconductores de óxido metálico (MOS) y otros dispositivos
¿Cómo Mejora El Diamante CVD El Rendimiento De Las Herramientas De Corte?
¿Cuál Es La Diferencia Entre ALD Y PECVD?
¿Los Diamantes CVD Son Reales O Falsos?
¿Cómo Garantiza Una Máquina De Corte Con Diamante Un Corte De Alta Precisión?
¿Qué Significa PECVD?
PECVD es una tecnología que utiliza plasma para activar el gas de reacción, promover la reacción química en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie y generar una película sólida. El principio básico de la tecnología de deposición de vapor químico de plasma es que, bajo la acción de un campo eléctrico de RF o CC, el gas de origen se ioniza para formar un plasma, el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas de reacción. introducido, y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas de reacción y realizar la deposición de vapor químico.
Según el método de generación de plasma, se puede dividir en plasma de RF, plasma de CC y plasma de microondas CVD, etc...
¿Qué Hace Que Las Cúpulas De Diamante CVD Sean Adecuadas Para Altavoces De Alto Rendimiento?
¿Cuál Es La Diferencia Entre PECVD Y Pulverización Catódica?
¿Cuál Es El Campo De Aplicación De Una Máquina De Corte De Diamante?
¿Cuál Es La Diferencia Entre CVD Y PECVD?
La diferencia entre PECVD y la tecnología CVD tradicional es que el plasma contiene una gran cantidad de electrones de alta energía, que pueden proporcionar la energía de activación requerida en el proceso de deposición química de vapor, cambiando así el modo de suministro de energía del sistema de reacción. Dado que la temperatura de los electrones en el plasma es tan alta como 10000K, la colisión entre los electrones y las moléculas de gas puede promover la ruptura del enlace químico y la recombinación de las moléculas de gas de reacción para generar grupos químicos más activos, mientras que todo el sistema de reacción mantiene una temperatura más baja.
Entonces, en comparación con el proceso de CVD, PECVD puede llevar a cabo el mismo proceso de deposición de vapor químico con una temperatura más baja.
¿Cómo Mejora El Diamante CVD La Gestión Térmica De Los Dispositivos Electrónicos?
4.7
out of
5
The speed of delivery was great, and the equipment arrived in perfect condition. It's been a pleasure working with KINTEK SOLUTION.
4.8
out of
5
The value for money is unbeatable. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price.
4.9
out of
5
The quality of the equipment is top-notch. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods.
4.9
out of
5
The durability of the equipment is exceptional. It's built to last and withstand the rigors of daily use in a lab setting.
4.8
out of
5
The technological advancement of the equipment is impressive. KINTEK SOLUTION is always at the forefront of innovation, providing cutting-edge solutions.
4.7
out of
5
The speed of delivery was exceptional. The equipment arrived well before the estimated delivery date.
4.9
out of
5
The value for money is outstanding. The equipment is worth every penny, and it's clear that KINTEK SOLUTION cares about providing customers with a great deal.
4.8
out of
5
The quality of the equipment is superb. It's evident that KINTEK SOLUTION uses only the highest quality materials and construction methods.
4.7
out of
5
The durability of the equipment is remarkable. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting and shows no signs of wear or tear.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is groundbreaking. KINTEK SOLUTION is always pushing the boundaries of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
4.8
out of
5
The speed of delivery was lightning fast. The equipment arrived within days of placing the order, which was incredibly convenient.
4.9
out of
5
The value for money is exceptional. The equipment is incredibly affordable, especially considering the high quality and advanced features it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is impeccable. It's clear that KINTEK SOLUTION takes pride in their craftsmanship, and the equipment is built to the highest standards.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is outstanding. It's built to last, and I'm confident that it will provide years of reliable service.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is awe-inspiring. KINTEK SOLUTION is at the forefront of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to pushing the boundaries of technology.
4.8
out of
5
The speed of delivery was commendable. The equipment arrived within the promised timeframe, which allowed us to start using it right away.
4.9
out of
5
The value for money is unbeatable. The equipment is incredibly affordable, especially considering the advanced features and high quality it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is exceptional. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods, resulting in a durable and reliable product.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is impressive. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting, and I'm confident that it will last for many years to come.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is remarkable. KINTEK SOLUTION is constantly innovating and pushing the boundaries of technology, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
PDF - Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Descargarcatalogo de Mpcvd
Descargarcatalogo de Máquina Pecvd
Descargarcatalogo de Máquina De Diamante Cvd
Descargarcatalogo de Máquina De Diamantes Cultivada En Laboratorio
Descargarcatalogo de Máquina Mpcvd
Descargarcatalogo de Máquina De Cvd
Descargarcatalogo de Rf Pecvd
Descargarcatalogo de Pavd
Descargarcatalogo de Cortadora De Diamante
Descargarcatalogo de Equipo De Deposito De Pelicula Delgada
Descargarcatalogo de Horno Cvd
Descargarcatalogo de Materiales Cvd
DescargarSOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz
915MHz MPCVD máquina de diamante y su crecimiento efectivo de múltiples cristales, el área máxima puede llegar a 8 pulgadas, el área máxima de crecimiento efectivo de un solo cristal puede llegar a 5 pulgadas. Este equipo se utiliza principalmente para la producción de películas de diamante policristalino de gran tamaño, el crecimiento de diamantes largos de un solo cristal, el crecimiento a baja temperatura de grafeno de alta calidad, y otros materiales que requieren energía proporcionada por plasma de microondas para el crecimiento.
Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio
Conozca la máquina MPCVD de resonador cilíndrico, el método de deposición química en fase vapor por plasma de microondas utilizado para el crecimiento de gemas y películas de diamante en las industrias de joyería y semiconductores. Descubra sus ventajas económicas frente a los métodos HPHT tradicionales.
Diamante dopado con boro CVD: un material versátil que permite una conductividad eléctrica, transparencia óptica y propiedades térmicas excepcionales personalizadas para aplicaciones en electrónica, óptica, detección y tecnologías cuánticas.
Equipo HFCVD con revestimiento de nanodiamante y troquel de trefilado
La matriz de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, y emplea el método de fase de vapor químico (método CVD para abreviar) para recubrir el diamante convencional y el revestimiento compuesto de nanodiamante en la superficie del orificio interior del molde.
Máquina cortadora de hilo diamantado de alta precisión
La máquina cortadora de hilo diamantado de alta precisión es una herramienta de corte versátil y precisa diseñada específicamente para investigadores de materiales. Utiliza un mecanismo de corte continuo con hilo de diamante, que permite un corte preciso de materiales frágiles como cerámica, cristales, vidrio, metales, rocas y otros materiales.
Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD
Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.
Descubra los domos de diamante CVD, la solución definitiva para altavoces de alto rendimiento. Fabricados con tecnología DC Arc Plasma Jet, estos domos ofrecen una calidad de sonido, durabilidad y manejo de potencia excepcionales.
Diamante CVD para gestión térmica.
Diamante CVD para gestión térmica: Diamante de alta calidad con conductividad térmica de hasta 2000 W/mK, ideal para esparcidores de calor, diodos láser y aplicaciones de GaN sobre diamante (GOD).
Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas
Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia
RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.
Máquina cortadora automática de alambre de diamante de alta precisión de 12/24 pulgadas
La máquina cortadora automática de hilo de diamante de alta precisión es una herramienta de corte versátil que utiliza un hilo de diamante para cortar una amplia gama de materiales, incluidos materiales conductores y no conductores, cerámica, vidrio, rocas, gemas, jade, meteoritos, silicio monocristalino, carburo de silicio, silicio policristalino, ladrillos refractarios, tableros epoxi y cuerpos de ferrita. Es especialmente adecuado para cortar varios cristales frágiles con alta dureza, alto valor y fáciles de romper.
Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)
Presentamos nuestro horno PECVD giratorio inclinado para la deposición precisa de películas delgadas. Disfrute de una fuente de coincidencia automática, control de temperatura programable PID y control de caudalímetro másico MFC de alta precisión. Características de seguridad integradas para su tranquilidad.
Molino vibratorio de disco/taza
El molino de discos vibratorios es adecuado para la trituración no destructiva y la molienda fina de muestras con partículas de gran tamaño, y puede preparar rápidamente muestras con finura y pureza analíticas.
Diamante CVD para revestir herramientas
Experimente el rendimiento inmejorable de las piezas en bruto de diamante CVD: alta conductividad térmica, resistencia al desgaste excepcional e independencia de orientación.
Espacios en blanco para herramientas de corte
Herramientas de corte de diamante CVD: resistencia al desgaste superior, baja fricción, alta conductividad térmica para mecanizado de materiales no ferrosos, cerámica y compuestos
Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno
Cuando se utilizan técnicas de evaporación por haz de electrones, el uso de crisoles de cobre sin oxígeno minimiza el riesgo de contaminación por oxígeno durante el proceso de evaporación.
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD
Eficaz horno CVD de cámara dividida con estación de vacío para un control intuitivo de las muestras y un enfriamiento rápido. Temperatura máxima de hasta 1200℃ con control preciso del caudalímetro másico MFC.
Piezas en blanco para trefilado de alambre CVD Diamond
Troqueles en bruto para trefilado con diamante CVD: dureza superior, resistencia a la abrasión y aplicabilidad en el trefilado de diversos materiales. Ideal para aplicaciones de mecanizado de desgaste abrasivo como el procesamiento de grafito.
Horno tubular CVD multizonas de calentamiento Máquina CVD
KT-CTF14 Horno CVD Multizonas de Calentamiento - Control preciso de temperatura y flujo de gas para aplicaciones avanzadas. Temperatura máxima de hasta 1200℃, caudalímetro másico MFC de 4 canales y controlador con pantalla táctil TFT de 7".
Ventanas ópticas de diamante: excepcional transparencia infrarroja de banda ancha, excelente conductividad térmica y baja dispersión en infrarrojos, para aplicaciones de ventanas de microondas y láser IR de alta potencia.
Sistema Slide PECVD con gasificador líquido
Sistema KT-PE12 Slide PECVD: amplio rango de potencia, control de temperatura programable, calentamiento/enfriamiento rápido con sistema deslizante, control de flujo másico MFC y bomba de vacío.
Horno CVD versátil hecho por el cliente
Obtenga su horno CVD exclusivo con el horno versátil hecho por el cliente KT-CTF16. Funciones personalizables de deslizamiento, rotación e inclinación para reacciones precisas. ¡Ordenar ahora!
Artículos relacionados
Cómo lograr un diamante monocristalino de alta calidad con MPCVD
La deposición química de vapor por plasma de microondas (MPCVD) es una técnica popular para producir diamantes monocristalinos de alta calidad.
El proceso de fabricación de un diamante CVD por máquina MPCVD
Las máquinas de diamante CVD han adquirido una importancia significativa en diversas industrias e investigaciones científicas.
Los avances en los sistemas MPCVD para diamantes monocristalinos de gran tamaño
Los avances en los sistemas MPCVD han permitido la producción de diamantes monocristalinos más grandes y de mayor calidad, lo que ofrece un potencial prometedor para futuras aplicaciones.
Horno CVD para el crecimiento de nanotubos de carbono
La tecnología de horno de deposición química de vapor (CVD) es un método ampliamente utilizado para el cultivo de nanotubos de carbono.
Deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD): Una guía completa
Aprenda todo lo que necesita saber sobre la deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD), una técnica de deposición de película fina utilizada en la industria de los semiconductores. Explore sus principios, aplicaciones y ventajas.
Comprensión de PECVD: una guía para la deposición química de vapor mejorada con plasma
PECVD es una técnica útil para crear recubrimientos de película delgada porque permite la deposición de una amplia variedad de materiales, incluidos óxidos, nitruros y carburos.
Una introducción a la deposición química de vapor (CVD)
La deposición química de vapor, o CVD, es un proceso de recubrimiento que involucra el uso de reactivos gaseosos para producir películas delgadas y recubrimientos de alta calidad.
Máquinas CVD para deposición de película delgada
La deposición química de vapor (CVD) es una técnica ampliamente utilizada para la deposición de películas delgadas sobre varios sustratos.
Una guía completa de MPCVD: síntesis y aplicaciones de diamantes
Explore los fundamentos, las ventajas y las aplicaciones de la deposición química de vapor por plasma por microondas (MPCVD) en la síntesis de diamantes. Conozca sus capacidades únicas y cómo se compara con otros métodos de crecimiento de diamantes.
Una guía para principiantes sobre las máquinas MPCVD
MPCVD (deposición química de vapor de plasma por microondas) es un proceso utilizado para depositar películas delgadas de material sobre un sustrato utilizando plasma generado por microondas.
Ventajas y desventajas del depósito químico en fase vapor (CVD)
La deposición química en fase vapor (CVD) es una técnica versátil de deposición de películas finas ampliamente utilizada en diversas industrias. Explore sus ventajas, desventajas y posibles nuevas aplicaciones.
Horno PECVD Una solución de baja potencia y baja temperatura para materia blanda
Los hornos PECVD (Deposición de vapor químico mejorado con plasma) se han convertido en una solución popular para la deposición de películas delgadas en superficies de materia blanda.