Temáticas Equipo De Deposito De Pelicula Delgada

equipo de deposito de pelicula delgada

El equipo de deposición de película delgada se utiliza en la industria manufacturera para crear recubrimientos de película delgada sobre sustratos. Estos recubrimientos se utilizan en muchos dispositivos optoelectrónicos de estado sólido y productos médicos. El equipo de deposición de película delgada generalmente utiliza técnicas de deposición física de vapor (PVD) o deposición química de vapor (CVD). Los métodos de PVD incluyen la evaporación térmica y la pulverización catódica, mientras que los métodos de CVD incluyen la deposición de vapor químico a baja presión y mejorada con plasma. El equipo de deposición de película delgada se puede utilizar para crear recubrimientos duraderos, resistentes a los arañazos y que pueden aumentar o disminuir la conductividad de la electricidad o la transmisión de señales.

Máquina de fundición

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Número de artículo : RPM-02

Espesor de revestimiento manual

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Número de artículo : XRF-980

Recubrimiento de diamante CVD

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Número de artículo : cvdm-05

Sistema Slide PECVD con gasificador líquido

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Número de artículo : KT-PE12

Horno CVD versátil hecho por el cliente

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Número de artículo : KT-CTF16

Crisol de haz de pistola de electrones

Crisol de haz de pistola de electrones

Número de artículo : KES01

Diamante dopado con boro CVD

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Número de artículo : cvdm-07


Tenemos las mejores soluciones de equipos de deposición de película delgada que superarán sus expectativas. Nuestra amplia cartera ofrece una gama de soluciones estándar para satisfacer sus necesidades, y nuestro servicio de diseño a medida nos permite satisfacer casi cualquier requisito del cliente. Nuestros sistemas de pulverización catódica de deposición de película fina se pueden configurar con varias opciones de hardware o software, incluido el grabado por pulverización catódica o la capacidad de fuente de iones para la limpieza in situ de superficies de sustratos o estaciones de precalentamiento de sustratos. Elíjanos para sus necesidades de equipos de deposición de película delgada.

Aplicaciones del equipo de deposición de película delgada

  • Industria de fabricación de semiconductores para la producción de circuitos integrados y microprocesadores.
  • Producción de dispositivos ópticos, como lentes, espejos y filtros.
  • Fabricación de paneles solares para la producción de células solares de película delgada.
  • Fabricación de dispositivos médicos, incluidos instrumentos quirúrgicos e implantes.
  • Baterías de película delgada para uso en productos médicos, tarjetas inteligentes y bancos de almacenamiento de energía verde.
  • Producción de láseres de fibra, que requieren películas delgadas para recubrimientos de alta reflectividad y antirreflectantes.
  • Transistores de película delgada para uso en pantallas de cristal líquido.
  • Fabricación de pantallas LED utilizadas en electrónica de consumo.
  • Producción de dispositivos de almacenamiento magnético, como unidades de disco duro y cintas magnéticas.
  • Recubrimientos de película delgada para mejorar la resistencia al desgaste y la resistencia a la corrosión de los materiales utilizados en las industrias aeroespacial y automotriz.

Ventajas del equipo de deposición de película delgada

  • Mejora de la adhesión, la corrosión y la resistencia al desgaste de los materiales objetivo
  • Mayor durabilidad y longevidad del sustrato.
  • Permite la producción de electricidad relativamente barata y limpia a través de células solares de película delgada
  • Ofrece ventajas estéticas, como mejorar la apariencia de un sustrato o hacerlo más reflectante.
  • Puede depositar una variedad de películas delgadas metálicas, cerámicas y semiconductoras
  • Capaz de recubrir uniformemente componentes con formas complejas debido a su naturaleza sin visibilidad directa
  • Los recubrimientos PVD pueden ser más duraderos y resistentes a la corrosión que los recubrimientos aplicados mediante el procedimiento de galvanoplastia
  • La mayoría de los recubrimientos tienen una excepcional resistencia a la abrasión, alta temperatura y buena resistencia al impacto, y son tan duraderos que prácticamente nunca se requieren capas protectoras.
  • Las baterías de película delgada son más eficientes, se cargan más rápido y duran más en comparación con las baterías de iones de litio convencionales, lo que mejora el rendimiento de los productos médicos, los implantes, las tarjetas inteligentes y los bancos de almacenamiento de energía verde.
  • Los transistores de película delgada son económicos, ahorran energía y ofrecen un mejor tiempo de respuesta, lo que los convierte en un componente vital de las pantallas de cristal líquido.
  • La tecnología de película delgada tiene innumerables aplicaciones, incluidos semiconductores, dispositivos médicos, láseres de fibra, pantallas LED y otros productos electrónicos de consumo, entre otros.

Nuestro equipo de deposición de película delgada ofrece una solución rentable para las necesidades de su laboratorio. Nuestra línea de equipos es completa y está diseñada para adaptarse a todos sus requisitos estándar. Para aplicaciones más exclusivas, nuestro servicio de diseño personalizado garantiza que atenderemos sus necesidades específicas.

FAQ

¿Cuáles son los métodos utilizados para depositar películas delgadas?

Los dos métodos principales utilizados para depositar películas delgadas son la deposición química de vapor (CVD) y la deposición física de vapor (PVD). CVD implica la introducción de gases reactivos en una cámara, donde reaccionan en la superficie de la oblea para formar una película sólida. PVD no implica reacciones químicas; en cambio, los vapores de los materiales constituyentes se crean dentro de la cámara, que luego se condensan en la superficie de la oblea para formar una película sólida. Los tipos comunes de PVD incluyen la deposición por evaporación y la deposición por pulverización catódica. Los tres tipos de técnicas de deposición por evaporación son la evaporación térmica, la evaporación por haz de electrones y el calentamiento inductivo.

¿Qué es un equipo de deposición de película delgada?

El equipo de deposición de película delgada se refiere a las herramientas y los métodos utilizados para crear y depositar recubrimientos de película delgada sobre un material de sustrato. Estos recubrimientos pueden estar hechos de varios materiales y tener diferentes características que pueden mejorar o alterar el desempeño del sustrato. La deposición física de vapor (PVD) es una técnica popular que consiste en vaporizar un material sólido en el vacío y luego depositarlo sobre un sustrato. Otros métodos incluyen la evaporación y la pulverización catódica. El equipo de deposición de película delgada se utiliza en la producción de dispositivos optoelectrónicos, implantes médicos y óptica de precisión, entre otros.

¿Qué es la tecnología de deposición de película delgada?

La tecnología de deposición de película delgada es el proceso de aplicar una película muy delgada de material, con un grosor que varía desde unos pocos nanómetros hasta 100 micrómetros, sobre la superficie de un sustrato o sobre recubrimientos previamente depositados. Esta tecnología se utiliza en la producción de productos electrónicos modernos, incluidos semiconductores, dispositivos ópticos, paneles solares, CD y unidades de disco. Las dos amplias categorías de deposición de película delgada son la deposición química, donde un cambio químico produce un revestimiento depositado químicamente, y la deposición física de vapor, donde un material se libera de una fuente y se deposita sobre un sustrato mediante procesos mecánicos, electromecánicos o termodinámicos.

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