La máquina de deposición de vapor químico asistida por plasma (PACVD) es una herramienta de fabricación de semiconductores que ayuda a depositar películas delgadas de múltiples materiales en un sustrato a bajas temperaturas en comparación con la deposición de vapor químico estándar. Funciona introduciendo gases reactivos entre electrodos paralelos donde el gas se convierte en plasma, lo que da lugar a una reacción química que deposita los productos de reacción en el sustrato. Estas máquinas son esenciales en la fabricación moderna de semiconductores y ofrecen una excelente uniformidad de película, procesamiento a baja temperatura y alto rendimiento. A medida que crece la demanda de dispositivos electrónicos avanzados, la máquina PACVD desempeñará un papel cada vez más importante en la industria de los semiconductores.
Alternar categorías
Atajo
Chatea con nosotros para una comunicación rápida y directa.
Respuesta inmediata en días laborables (dentro de las 8 horas en días festivos)
pavd
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD
Número de artículo : KT-CTF12
Horno tubular CVD multizonas de calentamiento Máquina CVD
Número de artículo : KT-CTF14
Horno CVD versátil hecho por el cliente
Número de artículo : KT-CTF16
Sistema Slide PECVD con gasificador líquido
Número de artículo : KT-PE12
Horno de deposición química mejorada con plasma rotativo inclinado (PECVD)
Número de artículo : KT-PE16
Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD
Número de artículo : KT-PED
Máquina de diamante MPCVD con resonador cilíndrico para crecimiento de diamante en laboratorio
Número de artículo : KTWB315
Bell-jar Resonator MPCVD Máquina para laboratorio y crecimiento de diamantes
Número de artículo : KTMP315
Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia
Número de artículo : KT-RFPE
Máquina de diamante MPCVD de 915 MHz
Número de artículo : MP-CVD-101
Número de artículo : cvdm-05
celda de electrólisis de difusión de gas celda de reacción de flujo líquido
Número de artículo : ELCG
Solicita tu cotización personalizada 👋
¡Obtenga su cotización ahora! Dejar un mensaje Cotización Rápida Via WhatsappOfrecemos las mejores soluciones de máquinas de deposición química de vapor asistida por plasma (PACVD) para la producción de películas delgadas de alta calidad. Nuestras máquinas utilizan deposición de vapor químico asistida por plasma (PACVD) para crear películas delgadas con excelente uniformidad y adhesión. Nuestras máquinas están disponibles en una variedad de formatos, que incluyen CVD de baja presión y mejorado con plasma remoto. También ofrecemos un servicio de diseño a medida para satisfacer las necesidades específicas de nuestros clientes. Con nuestra amplia cartera de soluciones, garantizamos que tenemos la solución estándar adecuada que satisfará sus necesidades.
Aplicaciones de la máquina PACVD
- Deposición de películas delgadas para dispositivos electrónicos
- Recubrimiento de células solares y dispositivos fotovoltaicos
- Fabricación de recubrimientos antirreflectantes para dispositivos ópticos.
- Producción de recubrimientos resistentes al desgaste para herramientas de corte y piezas de máquinas
- Desarrollo de recubrimientos de barrera para envases de alimentos para evitar la contaminación.
- Creación de recubrimientos biocompatibles para dispositivos médicos
- Producción de recubrimientos protectores para piezas de automóviles.
- Fabricación de recubrimientos para componentes aeroespaciales
- Desarrollo de recubrimientos para sistemas microelectromecánicos (MEMS)
- Creación de recubrimientos para aplicaciones de nanotecnología
Ventajas de la máquina PACVD
- Baja temperatura de deposición
- Alta eficiencia de deposición
- Parámetros controlables
- Buenas propiedades dieléctricas de películas delgadas depositadas
- Bajo estrés mecánico en películas delgadas depositadas
- Buena cobertura de paso conforme y uniformidad en películas delgadas depositadas
Nuestra máquina PACVD es la solución perfecta para aquellos que buscan una deposición de película delgada asequible y de alta calidad. Nuestra máquina utiliza el método de deposición de vapor químico mejorado con plasma (PACVD), que permite la deposición a temperaturas de sustrato más bajas que otros procesos de deposición. Nuestra máquina PACVD no solo es rentable, sino que también ofrecemos servicios completos de personalización para satisfacer sus requisitos específicos.
FAQ
PACVD es PECVD?
SOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Artículos relacionados
Retos y soluciones para el depósito de películas de TiN con corriente alterna
Analiza las dificultades del crecimiento de la película de TiN con corriente alterna y propone soluciones como el sputtering de corriente continua y la corriente continua pulsada.
Visión general de los procesos de revestimiento PVD
Una mirada en profundidad a los principios, tipos, aplicaciones de gas y usos prácticos de los procesos de recubrimiento PVD.
Diseño de sistemas de capa fina: Principios, consideraciones y aplicaciones prácticas
Exploración en profundidad de los principios de diseño de sistemas de película fina, consideraciones tecnológicas y aplicaciones prácticas en diversos campos.
Problemas del sputtering con magnetrón: Por qué se produce un resplandor pero no se deposita ninguna película
Análisis de los factores que provocan la no deposición de la película a pesar del resplandor en el sputtering por magnetrón.
Factores que afectan a la uniformidad del sputtering de magnetrón
Analiza los factores clave que influyen en la uniformidad de la deposición de películas finas en el sputtering por magnetrón, incluidos los parámetros del equipo, la potencia del sputtering, la presión del gas, la configuración del campo magnético, las propiedades del sustrato, etc.
Selección de materiales de revestimiento al vacío: Factores clave y consideraciones
Directrices para elegir los materiales de revestimiento al vacío adecuados en función de la aplicación, las propiedades del material, los métodos de deposición, la economía, la compatibilidad del sustrato y la seguridad.
Desafíos en el logro de la descarga luminiscente con cátodos de renio en el sputtering con magnetrón
Explora las razones por las que a los cátodos de renio les cuesta brillar durante el sputtering por magnetrón y ofrece sugerencias de optimización.
Parámetros que afectan al efecto de sputtering en el proceso de sputtering por magnetrón
Parámetros clave que influyen en el efecto de sputtering en el sputtering por magnetrón, como la presión del aire, la potencia, la distancia al objetivo, el tipo de sustrato, etc.
Control del color y aplicaciones de las películas de óxido de silicio evaporado
Exploración de la variación del color, métodos de control y aplicaciones prácticas de las películas finas de óxido de silicio.
Precauciones para la preparación de capas de película de titanato de circonato de plomo (PZT) mediante sputtering de magnetrón
Directrices y precauciones para la preparación de capas de película de PZT mediante pulverización catódica por magnetrón.
Consideraciones para el revestimiento evaporativo sobre sustratos flexibles
Factores clave para el éxito del revestimiento evaporativo sobre materiales flexibles, garantizando la calidad y el rendimiento.
Tipos de fuentes de alimentación de polarización en el sputtering con magnetrón y su finalidad
Visión general de los tipos de fuentes de alimentación de polarización en el sputtering por magnetrón y su papel en la mejora de la adherencia y densidad de la película.
Diferencias y usos del sputtering de CC, MF y RF en la preparación de películas finas
Este artículo explica las diferencias y aplicaciones de las técnicas de sputtering de CC, MF y RF en la preparación de películas finas.
Chispas en el material objetivo durante el recubrimiento por magnetrón: Causas y soluciones
Explica por qué el material objetivo produce chispas durante el sputtering por magnetrón y ofrece soluciones para evitarlo.
Tecnología de deposición por pulverización catódica
Una mirada en profundidad a la tecnología de deposición por pulverización catódica, sus mecanismos, tipos y aplicaciones.
Tecnología de deposición química en fase vapor (CVD) de películas finas
Visión general de la tecnología CVD, sus principios, tipos, aplicaciones, características del proceso y ventajas.
Procesos de deposición de capas finas en la fabricación de semiconductores
Una visión general de las técnicas de deposición de películas finas, centrándose en los procesos de deposición química en fase vapor (CVD) y deposición física en fase vapor (PVD) en la fabricación de semiconductores.
Panorama general de las tecnologías de depósito químico en fase vapor (CVD)
Este artículo detalla varias tecnologías CVD utilizadas en las industrias de semiconductores y de deposición de películas finas.
El diamante cultivado MPCVD revoluciona el sector
Explora el impacto de los diamantes cultivados MPCVD en diversas industrias y las estrategias para la reducción de costes y la mejora de la eficiencia.
Elección de un dispositivo MPCVD de alto rendimiento
Consideraciones clave para la selección de un dispositivo MPCVD para el crecimiento del diamante.