objetivos de pulverización catódica

Ofrecemos las mejores soluciones para objetivos de pulverización catódica, con una amplia cartera de tamaños y purezas estándar para satisfacer sus requisitos específicos. Nuestro servicio de diseño personalizado nos permite cumplir con casi cualquier requisito del cliente, asegurando que le brindamos una solución de calidad que supera sus expectativas. Nuestros procesos de fabricación son críticos para lograr las características deseadas en una película delgada depositada por pulverización catódica. Para evitar que el objetivo se agriete o se sobrecaliente, recomendamos encarecidamente unir cualquier objetivo de material a una placa de respaldo.

Aplicaciones de los objetivos de pulverización catódica

• Microelectrónica: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar películas delgadas de materiales como aluminio, cobre y titanio en obleas de silicio para crear dispositivos electrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados.
• Células solares de película delgada: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar películas delgadas de materiales como telururo de cadmio, seleniuro de cobre, indio y galio y silicio amorfo sobre un sustrato para crear células solares de alta eficiencia.
• Optoelectrónica: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar películas delgadas de materiales como el óxido de indio y estaño y el óxido de aluminio y zinc sobre un sustrato para crear recubrimientos conductores transparentes para pantallas LCD y pantallas táctiles.
• Recubrimientos decorativos: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar películas delgadas de materiales como oro, plata y cromo en una variedad de sustratos para crear recubrimientos decorativos para piezas de automóviles, joyas y otros productos.
• Aeroespacial y defensa: los objetivos de pulverización catódica se utilizan en la fabricación de componentes electrónicos y ópticos para satélites, misiles y otras aplicaciones relacionadas con la defensa.
• Dispositivos médicos: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar películas delgadas de materiales en dispositivos médicos como stents, marcapasos y sensores implantables para mejorar su biocompatibilidad y rendimiento.
• Recubrimientos resistentes al desgaste: los objetivos de pulverización catódica se utilizan para depositar recubrimientos resistentes al desgaste en herramientas de corte, moldes y otros componentes industriales para mejorar su durabilidad y rendimiento.

Ventajas de los objetivos de pulverización catódica

• La pulverización catódica es una tecnología comprobada capaz de depositar películas delgadas de una amplia variedad de materiales en diversas formas y tamaños de sustrato.
• La mayoría de los materiales de destino de pulverización catódica se pueden fabricar en una amplia gama de formas y tamaños, incluidos diseños circulares, rectangulares, cuadrados y triangulares.
• El proceso de fabricación para fabricar el objetivo de pulverización catódica es fundamental para lograr las características deseadas en una película delgada depositada por pulverización catódica.
• Los objetivos de pulverización catódica de metal se ofrecen en varios niveles de pureza para adaptarse a requisitos específicos, con una pureza mínima del 99,5 % hasta el 99,9999 % para algunos metales.
• Los objetivos de pulverización catódica compuestos ofrecen una amplia selección de compuestos, incluidos óxidos, nitruros, boruros, sulfuros, seleniuros, teluros, carburos, mezclas cristalinas y compuestas.
• Para evitar que el objetivo de pulverización se agriete o se sobrecaliente, se recomienda encarecidamente adherir cualquier objetivo de material a una placa de respaldo.
• En comparación con los objetivos planos, los objetivos giratorios generalmente tienen más área de superficie por longitud dada, lo que resulta en un menor costo de propiedad y más material disponible para la pulverización catódica.
• Los objetivos giratorios tienen mucha más área de superficie, lo que ayuda a mantener el objetivo funcionando más frío, disminuyendo la formación de nódulos y reduciendo la aparición de arcos.
• La pulverización rotatoria reduce la formación de nódulos, lo que permite tiempos de ejecución continuos más prolongados y aumenta la utilización del objetivo a ~80 %.
• Los objetivos giratorios son muy adecuados para procesos de pulverización catódica continua, lo que aumenta el rendimiento y reduce los desechos.

Nuestros objetivos de pulverización catódica no solo son asequibles sino también increíblemente personalizables, lo que garantiza que reciba el producto exacto que necesita para su aplicación específica. Nuestros productos se fabrican utilizando varios métodos de fabricación que son adecuados para cualquier material de destino y su aplicación. Además, ofrecemos una amplia gama de tamaños, formas y niveles de pureza estándar para satisfacer sus necesidades. También damos la bienvenida a las solicitudes de diseño personalizado, lo que garantiza que tenga un control completo sobre las especificaciones de sus objetivos de pulverización catódica.

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