El depósito por baño químico también se conoce comoCBD (Chemical Bath Deposition) o a veces denominadadeposición química en solución (CSD).
Este método consiste en sumergir un sustrato en una solución química donde la deposición de una película fina se produce a través de reacciones químicas en la solución.
CBD se caracteriza por su sencillez y rentabilidad, ya que no requiere costosos sistemas de vacío ni altas temperaturas.
El proceso consiste en sumergir el sustrato en un baño que contiene precursores que reaccionan para formar la película deseada en la superficie del sustrato.
Este método es especialmente útil para depositar películas finas de materiales difíciles de obtener por métodos físicos debido a su capacidad para recubrir formas complejas de manera uniforme.
Deposición química en solución (CSD)aunque similar al CBD, suele implicar el uso de un disolvente orgánico y polvos organometálicos, que se disuelven o suspenden en el disolvente.
El sustrato se sumerge en esta solución y, mediante reacciones químicas, se deposita una fina película.
La CSD se compara a menudo con la galvanoplastia, pero suele ser más sencilla y menos costosa, y ofrece resultados comparables en cuanto a calidad y uniformidad de la película.
Tanto el CBD como el CSD forman parte de la categoría más amplia deMétodos de deposición químicaque contrasta conMétodos de deposición física como la evaporación y el sputtering.
Los métodos de deposición química son los preferidos por su menor coste y facilidad de uso, especialmente para aplicaciones en las que se requiere un alto rendimiento y un recubrimiento uniforme.
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