El argón es una opción popular para el sputtering debido a varias razones clave.
4 razones principales por las que se utiliza argón en el sputtering
Alta tasa de sputtering
El argón tiene una elevada tasa de sputtering.
Esto se debe a que es un gas raro con una masa atómica elevada.
Una masa atómica elevada significa que, cuando se ioniza y acelera hacia el objetivo, el argón transfiere un impulso significativo al impactar.
Esto provoca una expulsión eficaz de los átomos del blanco.
Naturaleza inerte
El argón es químicamente inerte.
Esto significa que no reacciona fácilmente con otros elementos.
Su naturaleza inerte minimiza el riesgo de reacciones químicas no deseadas entre el gas de sputtering y el material objetivo o la película en crecimiento.
Esto garantiza que la película depositada mantenga la composición química y las propiedades deseadas.
Bajo precio y disponibilidad
El argón es relativamente barato en comparación con otros gases raros como el criptón y el xenón.
Su amplia disponibilidad y bajo coste lo convierten en una opción práctica para aplicaciones industriales y de laboratorio.
Este factor económico es significativo, especialmente en procesos de fabricación a gran escala en los que el coste de los materiales puede afectar significativamente al coste total de producción.
Disponibilidad de gas puro
El argón está disponible en alta pureza.
La alta pureza es esencial para evitar que las impurezas afecten a la calidad de la película depositada.
Las impurezas pueden degradar las propiedades de la película, como su conductividad eléctrica o su transparencia óptica.
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