Accesorios y Consumibles para Equipos de Ensayo
Purificador de gas de laboratorio de alta pureza para atmósfera inerte y gases de proceso ultralimpios
Número de artículo : KT-JH
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Niveles de impurezas en la salida
- O2 ≤ 0,05 ppm, H2O ≤ 0,1 ppm
- Caudal nominal
- 10 – 100 L/min
- Presión de operación del gas
- 0,3 – 0,8 MPa
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Descripción general del producto
Este sistema de purificación de gas de alta pureza está diseñado para eliminar trazas de impurezas de gases inertes y de proceso, ofreciendo entornos ultralimpios esenciales para la investigación de laboratorio sensible y la fabricación a escala piloto. Mediante el uso de avanzadas columnas de desoxigenación catalítica multietapa y adsorción por tamiz molecular, el equipo reduce de manera constante los niveles de contaminación de humedad (H2O) y oxígeno (O2) a menos de 0,1 partes por millón (ppm). Su diseño robusto proporciona una solución sin concesiones para instalaciones que requieren una generación de gas puro bajo demanda fiable, estable y rentable, sin depender de cilindros especiales embotellados de alto grado.
Diseñada específicamente para entornos exigentes de investigación y producción, la unidad se integra sin problemas con hornos tubulares de alta temperatura, hornos de mufla con atmósfera controlada, reactores de deposición química de vapor (CVD/PECVD), sistemas de contención en caja de guantes y sistemas de fabricación aditiva. Los sectores objetivo incluyen la fabricación de semiconductores, la investigación de baterías de iones de litio, la optoelectrónica avanzada, la metalurgia de precisión y los laboratorios de caracterización de catalizadores. En todos estos campos, prevenir la oxidación no deseada, la nitruración o la degradación por humedad atmosférica es fundamental para la reproducibilidad experimental y el rendimiento de producción.
Diseñado con énfasis en la resiliencia operativa continua, el sistema incorpora capacidades de regeneración de doble columna totalmente automatizadas, matrices de válvulas neumáticas de grado industrial e instrumentación de monitoreo de alta precisión. La arquitectura de manipulación de fluidos en acero inoxidable de gran resistencia garantiza una hermeticidad total incluso bajo presiones de trabajo elevadas. Al mantener una filtración y regeneración continuas sin interrumpir el suministro de gas aguas abajo, este equipo brinda a los investigadores e ingenieros de procesos total confianza en el control atmosférico a largo plazo durante tratamientos térmicos prolongados y evaluaciones analíticas.
Características principales
- Purificación profunda de gas a nivel Sub-PPM: Incorpora tecnología de captador (getter) catalítico y tamices moleculares sintéticos para lograr una desoxigenación y deshidratación simultáneas, reduciendo de manera confiable los niveles de oxígeno y humedad a menos de 0,1 ppm (<100 ppb) en ciclos operativos continuos.
- Operación cíclica continua de doble columna: Cuenta con dos columnas de adsorción configuradas para modos alternados de purificación y regeneración, lo que garantiza el suministro ininterrumpido aguas abajo de gas ultra puro durante procesos térmicos de alta temperatura prolongados.
- Regeneración térmica automatizada: Equipado con camisas calefactoras integradas de alta eficiencia y controles de micropurga programables que regeneran por completo los lechos adsorbentes saturados de forma automática, sin necesidad de desmontaje ni sustitución manual del catalizador.
- Tuberías completamente metálicas de ultra alto vacío (UHV): Construido con tubos de acero inoxidable 316L electropolimentado, uniones soldadas orbitalmente y accesorios de sellado frontal con junta metálica (VCR/compresión) para garantizar tasas de fuga de helio inferiores a 1×10⁻⁹ mbar·L/s.
- Monitoreo de punto de rocío y oxígeno en tiempo real: Integra sensores electroquímicos de precisión para trazas de oxígeno y transmisores cerámicos de punto de rocío, proporcionando verificación digital continua de la calidad del gas directamente en la pantalla táctil central.
- Control PLC inteligente con HMI intuitiva: Emplea un controlador lógico programable industrial acoplado a una interfaz hombre-máquina a todo color, que ofrece regulación automatizada de presión, rutinas de inicio/paro de un solo toque, diagnóstico de fallas e interbloqueos de seguridad automatizados.
- Interbloqueos de seguridad de sobrepresión y flujo: Diseñado con mecanismos de seguridad de múltiples niveles que incluyen válvulas de cierre neumático automáticas, válvulas mecánicas de alivio de sobrepresión y alarmas umbral audibles y visuales para evitar la contaminación aguas abajo o la sobrepresurización del sistema.
- Compatibilidad versátil con gases de alimentación: Capaz de purificar un amplio espectro de gases técnicos y portadores, incluidos argón puro, nitrógeno, helio y gases de conformación, transformando cilindros estándar de grado industrial en líneas de suministro de grado de investigación.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio clave |
|---|---|---|
| Epitaxia de semiconductores y películas delgadas | Suministra gas portador de argón o nitrógeno ultra puro directamente a las cámaras de CVD, PECVD y ALD durante el procesamiento de obleas. | Previene la oxidación del sustrato, minimiza los defectos de poros (pinholes) y garantiza una alta uniformidad de la película a lo largo de delicadas capas atómicas. |
| Procesamiento térmico en atmósfera inerte | Purifica las corrientes de gas de protección para hornos tubulares, hornos de atmósfera de vacío y unidades de sinterizado dental que procesan aleaciones reactivas. | Elimina la descamación superficial y la descarburación en titanio, circonio y superaleaciones refractarias durante procesos de alta temperatura. |
| I+D de baterías de litio y estado sólido | Acondiciona atmósferas protectoras en cajas de guantes, líneas de ensamblaje de celdas tipo pouch y estaciones de formulación de electrolitos. | Protege los ánodos de litio metálico y las composiciones de electrolito sólido sensibles a la humedad frente a la degradación catastrófica por humedad. |
| Fabricación de fibra óptica y fotovoltaica | Purifica la atmósfera de proceso durante el estirado de preformas, el lingotado de silicio y la deposición de capas de contacto pasivadas en obleas. | Previene las bandas de absorción de hidroxilo (OH) en el vidrio de sílice y preserva la vida útil de los portadores en células solares de alta eficiencia. |
| Fabricación aditiva e impresión 3D | Recircula y refina gases inertes de protección dentro de las cámaras de construcción de fusión selectiva por láser (SLM) y fusión por haz de electrones (EBM). | Mantiene niveles de oxígeno excepcionalmente bajos para evitar salpicaduras, porosidad y fragilidad en la impresión de metales reactivos. |
| Suministro de gas portador para instrumental analítico | Proporciona corrientes portadoras ultraestables y libres de humedad para cromatografía de gases (GC-MS), espectrometría de emisión óptica (OES) y TGA. | Reduce el ruido de fondo, previene el sangrado de la columna, prolonga la vida útil de los detectores analíticos y mejora la reproducibilidad cuantitativa. |
| Catálisis y síntesis de nanomateriales | Suministra atmósferas de reacción limpias durante la reducción de catalizadores, calcinación y síntesis a alta presión de nanotubos de carbono (CNT). | Elimina el envenenamiento competitivo de los sitios activos del catalizador causado por oxígeno residual e impurezas de humedad orgánica. |
Especificaciones técnicas
| Parámetro de especificación | KT-JH-10 | KT-JH-30 | KT-JH-60 | KT-JH-100 |
|---|---|---|---|---|
| Número de artículo | KT-JH-10 | KT-JH-30 | KT-JH-60 | KT-JH-100 |
| Compatibilidad de gas purificado | Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 | Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 | Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 | Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 |
| Caudal nominal | 10 L/min (0,6 m³/h) | 30 L/min (1,8 m³/h) | 60 L/min (3,6 m³/h) | 100 L/min (6,0 m³/h) |
| Requisito de pureza del gas de entrada | ≥ 99,99% (Grado técnico) | ≥ 99,99% (Grado técnico) | ≥ 99,99% (Grado técnico) | ≥ 99,99% (Grado técnico) |
| Nivel de impureza de salida (O2) | ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) | ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) | ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) | ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) |
| Nivel de impureza de salida (H2O) | ≤ 0,1 ppm (Punto de rocío ≤ -90 °C) | ≤ 0,1 ppm (Punto de rocío ≤ -90 °C) | ≤ 0,1 ppm (Punto de rocío ≤ -90 °C) | ≤ 0,1 ppm (Punto de rocío ≤ -90 °C) |
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