Sí, se puede pulverizar carbono sobre una muestra. Sin embargo, las películas resultantes suelen tener altas proporciones de hidrógeno, lo que hace que la pulverización catódica de carbono no sea deseable para las operaciones de SEM. Esto se debe a que el alto contenido de hidrógeno puede interferir con la claridad y precisión de la imagen en microscopía electrónica.
La pulverización catódica del carbono consiste en un proceso en el que iones energéticos o átomos neutros inciden en la superficie de un blanco de carbono, provocando la expulsión de algunos de los átomos de carbono debido a la energía transferida. Estos átomos expulsados se depositan sobre la muestra, formando una fina película. El proceso es impulsado por un voltaje aplicado que acelera los electrones hacia un ánodo positivo, atrayendo iones cargados positivamente hacia el blanco de carbono polarizado negativamente, iniciando así el proceso de pulverización catódica.
A pesar de su viabilidad, el uso del sputtering de carbono para aplicaciones SEM está limitado debido a las altas concentraciones de hidrógeno en las películas sputtered. Esta limitación es importante porque el hidrógeno puede interactuar con el haz de electrones de forma que distorsione la imagen o interfiera en el análisis de la muestra.
Un método alternativo para conseguir recubrimientos de carbono de alta calidad para aplicaciones SEM y TEM es la evaporación térmica del carbono en el vacío. Este método evita los problemas asociados al alto contenido de hidrógeno y puede realizarse utilizando fibra de carbono o una varilla de carbono, siendo esta última una técnica conocida como método Brandley.
En resumen, aunque técnicamente se puede pulverizar carbono sobre una muestra, su aplicación práctica en SEM es limitada debido al alto contenido de hidrógeno en las películas pulverizadas. Se prefieren otros métodos, como la evaporación térmica, para obtener recubrimientos de carbono de alta calidad en microscopía electrónica.
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