La calidad de la película de pulverización catódica viene determinada por varios factores.
En primer lugar, la capa metálica de la película de pulverización catódica es extremadamente fina, lo que contribuye a su gran eficacia para bloquear determinadas bandas de radiación de la luz solar directa. Esta propiedad hace que la película de pulverización catódica sea ideal para aplicaciones en las que el control de la radiación es importante.
La película de pulverización catódica también presenta un efecto espejo, un cambio de color y una absorción de calor mínimos, al tiempo que conserva una alta reflectividad de la radiación. Esto significa que proporciona excelentes propiedades ópticas, manteniendo una alta reflectividad y minimizando al mismo tiempo los efectos visuales no deseados, como la distorsión del color o la acumulación de calor.
La calidad de la película de pulverización catódica también se ve influida por la elección de los metales y óxidos utilizados en su producción. El color, la reflectancia externa y el rendimiento de bloqueo del calor solar pueden adaptarse seleccionando combinaciones específicas de metales y óxidos metálicos. Al juntar varias capas de distintos metales y óxidos metálicos, las películas para pulverización catódica pueden conseguir colores únicos y una transmisión selectiva muy eficaz.
El propio proceso de sputtering desempeña un papel crucial a la hora de determinar la calidad de la película. El sputtering es una tecnología probada que permite depositar películas finas de una amplia variedad de materiales sobre sustratos de formas y tamaños diversos. Se trata de un proceso repetible que puede ampliarse para lotes de producción con superficies de sustrato medianas o grandes. El entorno de alta energía del sputtering crea una fuerte unión entre la película y su sustrato a nivel atómico, lo que da como resultado una de las películas más finas, uniformes y rentables posibles.
Las características del proceso de recubrimiento por pulverización catódica también influyen en la calidad de la película. El sputtering permite utilizar metales, aleaciones o aislantes como materiales de la película. Pueden utilizarse cátodos multicomponente para producir películas con la misma composición. La adición de oxígeno u otros gases activos a la atmósfera de descarga permite la producción de mezclas o compuestos. Los parámetros de pulverización catódica, como la corriente de entrada al blanco y el tiempo de pulverización catódica, pueden controlarse para conseguir una gran precisión en el espesor de la película. El recubrimiento por pulverización catódica es ventajoso para producir grandes áreas de película uniforme y permite una disposición flexible de las posiciones del blanco y del sustrato. En comparación con la evaporación en vacío, el recubrimiento por pulverización catódica ofrece ventajas como una mayor fuerza de adhesión entre la película y el sustrato, la formación de películas duras y densas, y la capacidad de obtener películas cristalinas a temperaturas más bajas. El recubrimiento por pulverización catódica también permite producir películas continuas extremadamente finas.
La calidad de la película de pulverización catódica depende también de la elección y preparación del blanco de pulverización catódica. El material del blanco, ya sea un solo elemento, una mezcla de elementos, una aleación o un compuesto, debe seleccionarse cuidadosamente para conseguir las características deseadas en la película. El proceso de preparación del blanco para sputtering es fundamental para garantizar la calidad constante de las películas finas producidas.
En resumen, la calidad de la película para sputtering viene determinada por factores como la fina capa de metal, el mínimo efecto espejo, el cambio de color y la absorción de calor, la elección de metales y óxidos, el proceso de sputtering y las características del proceso de recubrimiento por sputtering. Estos factores permiten controlar el crecimiento y la microestructura de la película, posibilitando la producción de películas finas con propiedades a medida y calidad constante.
