Los materiales de deposición utilizados habitualmente en la deposición de películas finas incluyen metales, óxidos y compuestos. Cada uno de estos materiales tiene ventajas específicas y se elige en función de los requisitos de la aplicación.
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Metales: Los metales se utilizan con frecuencia en la deposición de películas finas debido a sus excelentes propiedades de conductividad térmica y eléctrica. Esto los hace ideales para aplicaciones en las que es necesario transferir o gestionar eficazmente el calor o la electricidad. Algunos ejemplos de metales utilizados son el oro, la plata, el cobre y el aluminio, cada uno de ellos elegido por propiedades específicas como la resistencia a la corrosión o una conductividad superior.
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Óxidos: Los óxidos son otra clase común de materiales utilizados en los procesos de deposición. Se valoran por sus cualidades protectoras, como la resistencia al desgaste y la corrosión. Entre los óxidos más utilizados en la deposición se encuentran el dióxido de silicio (SiO2), el óxido de aluminio (Al2O3) y el dióxido de titanio (TiO2). Estos materiales se utilizan a menudo en aplicaciones que requieren una barrera o capa protectora, como la microelectrónica o los revestimientos ópticos.
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Compuestos: Los compuestos se utilizan cuando se requieren propiedades específicas que no pueden conseguirse con metales u óxidos por sí solos. Pueden diseñarse para que tengan propiedades a medida, como características ópticas, eléctricas o mecánicas específicas. Algunos ejemplos son diversos nitruros (como el nitruro de titanio, TiN) y carburos, que pueden utilizarse por su dureza y resistencia al desgaste, lo que los hace adecuados para aplicaciones en herramientas de corte y revestimientos resistentes al desgaste.
La elección del material para la deposición de películas finas depende en gran medida de la aplicación, teniendo en cuenta factores como las propiedades físicas, químicas y mecánicas deseadas del revestimiento, así como la compatibilidad con el material del sustrato y el propio proceso de deposición. Las técnicas de deposición, como la deposición por haz de iones, el sputtering por magnetrón y la evaporación térmica o por haz de electrones, se seleccionan en función de las propiedades del material y de la uniformidad y espesor de la película deseada.
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