El grosor típico del recubrimiento de oro para aplicaciones SEM (microscopía electrónica de barrido) oscila entre 2 y 20 nm. Esta capa ultrafina de oro se aplica mediante un proceso denominado recubrimiento por pulverización catódica, que consiste en depositar un metal conductor sobre muestras no conductoras o poco conductoras. El objetivo principal de este recubrimiento es evitar la carga de la muestra debido a la acumulación de campos eléctricos estáticos y mejorar la detección de electrones secundarios, mejorando así la relación señal/ruido y la calidad general de la imagen en el SEM.
El oro es el material más utilizado para este tipo de recubrimiento debido a su baja función de trabajo, lo que lo hace muy eficaz para el recubrimiento. Cuando se utilizan recubridores de pulverización catódica en frío, el proceso de pulverización catódica de capas finas de oro produce un calentamiento mínimo de la superficie de la muestra. El tamaño de grano del revestimiento de oro, que es visible con grandes aumentos en los SEM modernos, suele oscilar entre 5 y 10 nm. Esto es especialmente importante para mantener la integridad y visibilidad de la muestra examinada.
En aplicaciones específicas, como el recubrimiento de una oblea de 6" con oro/paladio (Au/Pd), se utilizó un espesor de 3 nm. Esto se consiguió utilizando el SC7640 Sputter Coater con ajustes de 800 V y 12 mA, utilizando gas argón y un vacío de 0,004 bar. Las pruebas posteriores confirmaron la distribución uniforme de este fino revestimiento por toda la oblea.
En general, el grosor del recubrimiento de oro en las aplicaciones de SEM se controla meticulosamente para garantizar un rendimiento óptimo sin alterar significativamente las características de la muestra. La elección del oro como material de recubrimiento es estratégica, teniendo en cuenta sus propiedades conductoras y su mínima interferencia con el análisis de la muestra, especialmente cuando se utilizan técnicas como la espectroscopia de rayos X de energía dispersiva (EDX).
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