Conocimiento ¿Cuáles son las desventajas de la ITO? Explicación de los 4 principales retos
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 mes

¿Cuáles son las desventajas de la ITO? Explicación de los 4 principales retos

El óxido de indio y estaño (ITO) es un material muy utilizado en diversas aplicaciones de alta tecnología por su combinación única de conductividad y transparencia. Sin embargo, presenta varios inconvenientes que están impulsando la búsqueda de alternativas más sostenibles y rentables.

¿Cuáles son las desventajas del ITO? Explicación de los 4 principales retos

¿Cuáles son las desventajas de la ITO? Explicación de los 4 principales retos

1. 1. Coste y limitaciones de suministro

El ITO es caro debido principalmente al elevado coste del indio, un metal raro.

La rareza del indio y la creciente demanda de ITO en aplicaciones como pantallas táctiles, pantallas y células solares han suscitado preocupación por la sostenibilidad de su suministro.

Esto ha llevado a investigar materiales alternativos que puedan ofrecer propiedades similares a un coste menor.

2. Bajos índices de utilización de los cátodos planares

El tipo más común de cátodo de ITO utilizado en sputtering es el cátodo planar.

Sin embargo, estos cátodos tienen una tasa de utilización relativamente baja, lo que significa que una parte significativa del material del cátodo se desperdicia durante el proceso de sputtering.

Esta ineficacia no sólo aumenta el coste de las películas ITO, sino que también contribuye al desperdicio de material.

Los fabricantes están explorando nuevos tipos de cátodos para sputtering, como los rotatorios, para mejorar los índices de utilización y reducir los residuos.

3. Necesidad de materiales alternativos

Dados los problemas de coste y suministro del ITO, cada vez es más necesario encontrar óxidos conductores transparentes (TCO) alternativos que puedan igualar la conductividad y transparencia del ITO sin depender del indio.

Esta investigación es crucial para la sostenibilidad a largo plazo de las industrias que dependen en gran medida de los TCO, como los sectores de la electrónica y las energías renovables.

4. Retos tecnológicos con los sustratos

Aunque el ITO puede depositarse a bajas temperaturas, lo que lo hace adecuado para una gran variedad de sustratos, sigue habiendo problemas cuando se trata de sustratos con puntos de fusión bajos o hechos de polímeros.

Se están estudiando nuevas tecnologías de fabricación de semiconductores, como la deposición de aerosoles a temperatura ambiente, para resolver estos problemas y ampliar la aplicabilidad de las películas conductoras transparentes más allá de los sustratos tradicionales.

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