Para cultivar diamantes de laboratorio, se utilizan dos métodos principales: Alta presión y alta temperatura (HPHT) y deposición química de vapor (CVD). Ambos métodos implican la creación de condiciones que imitan la formación natural de diamantes en las profundidades de la Tierra.
Método de alta presión y alta temperatura (HPHT):
Este método consiste en someter una pequeña semilla de diamante a una presión y temperatura extremas. La semilla se coloca en un aparato de alta presión y se somete a temperaturas que oscilan entre 1300 y 1600 grados centígrados y a presiones que superan las 870.000 libras por pulgada cuadrada. La semilla está rodeada de una fuente de carbono, normalmente grafito muy refinado, que se funde y forma capas alrededor de la semilla debido a la alta temperatura y presión. Cuando el aparato se enfría, el carbono se solidifica, formando un diamante. Este proceso requiere un control preciso y suele llevarse a cabo mediante una prensa cúbica o una prensa de cinta. La prensa cúbica utiliza pistones para aplicar presión desde varias direcciones, mientras que la prensa de cinta utiliza dos fuertes pistones que aplican igual presión en direcciones opuestas.Método de deposición química en fase vapor (CVD):
A diferencia del HPHT, el método CVD funciona a presiones más bajas, pero sigue requiriendo altas temperaturas. Se coloca una semilla de diamante en una cámara llena de un gas rico en carbono, como el metano. El gas se ioniza mediante microondas o láser, lo que rompe las moléculas de gas y permite que los átomos de carbono se adhieran a la semilla de diamante. El proceso consiste en hacer crecer el diamante capa por capa a temperaturas comprendidas entre 700°C y 1300°C. Este método suele llevar más tiempo, entre 4 y 6 semanas, y requiere la eliminación periódica de la capa de grafito para facilitar el crecimiento de un diamante más grande.