El sputtering es un proceso físico en el que partículas microscópicas de un material sólido son expulsadas de su superficie cuando es bombardeado por partículas energéticas, normalmente iones gaseosos, aceleradas desde un plasma. Se trata de un proceso de vaporización no térmico, lo que significa que no implica el calentamiento del material a altas temperaturas.
El proceso de pulverización catódica comienza con un sustrato a recubrir, que se coloca en una cámara de vacío que contiene un gas inerte, normalmente argón. Se aplica una carga negativa a un material fuente que se depositará sobre el sustrato. Esto hace que el plasma brille.
Los electrones libres fluyen desde el material fuente cargado negativamente en el entorno del plasma y colisionan con la capa electrónica exterior de los átomos de gas Argón. Esta colisión expulsa estos electrones debido a su carga similar. Los átomos de gas argón se convierten en iones cargados positivamente y son atraídos por el material objetivo cargado negativamente a una velocidad muy alta. El resultado es la "pulverización" de partículas de tamaño atómico del material fuente debido al impulso de las colisiones.
A continuación, estas partículas atraviesan la cámara de deposición en vacío del equipo de recubrimiento por pulverización catódica y se depositan como una fina película de material sobre la superficie del sustrato que se va a recubrir. Esta fina película puede utilizarse para diversas aplicaciones en óptica, electrónica y nanotecnología.
Además de su aplicación en la deposición de películas finas, el sputtering también se utiliza para el grabado preciso y las técnicas analíticas. Puede utilizarse para eliminar material de una superficie o alterar sus propiedades físicas. El sputtering es una técnica muy utilizada en la fabricación de revestimientos ópticos, dispositivos semiconductores y productos nanotecnológicos.
En general, el sputtering es un proceso versátil e importante en diversos campos, que permite depositar, grabar y modificar películas finas con gran precisión.
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