Productos Materiales y consumibles de laboratorio Materiales de laboratorio Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio de alta pureza (V2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo
Alternar categorías
Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio de alta pureza (V2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Materiales de laboratorio

Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio de alta pureza (V2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Número de artículo : LM-V2O3

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Fórmula química
V2O3
Pureza
4N
Forma
ISO & CE icon

Envío:

Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.

A precios razonables, ofrecemos materiales de óxido de vanadio (V2O3) para uso en laboratorio. Nuestra experiencia consiste en producir y personalizar materiales de óxido de vanadio (V2O3) de diferentes purezas, formas y tamaños para satisfacer sus necesidades específicas.

Ofrecemos una diversa selección de especificaciones y tamaños para varios tipos de objetivos de pulverización catódica (circular, cuadrado, tubular, irregular), materiales de revestimiento, cilindros, conos, partículas, láminas, polvos, polvos para impresión 3D, polvos nanométricos, alambrón, lingotes, y bloques, entre otros.

Detalles

Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio (V2O3)
Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio (V2O3)

Acerca del Óxido de Vanadio (V2O3)

El óxido de vanadio (III) (sesquióxido de vanadio) es una forma de óxido de vanadio que es adecuada para diversas aplicaciones en vidrio, óptica y cerámica. Si bien los compuestos de óxido generalmente no conducen la electricidad, ciertos óxidos estructurados de perovskita son conductores electrónicos y se utilizan en el cátodo de las celdas de combustible de óxido sólido y en los sistemas de generación de oxígeno.

Los compuestos de óxido normalmente contienen al menos un anión de oxígeno y un catión metálico. Son insolubles en soluciones acuosas y muy estables, lo que los hace útiles en una variedad de aplicaciones, desde la producción de tazones de arcilla hasta la electrónica avanzada y componentes estructurales livianos en sistemas aeroespaciales y electroquímicos, como las celdas de combustible, en las que exhiben conductividad iónica.

Los compuestos de óxidos metálicos son anhídridos básicos y pueden reaccionar con ácidos y agentes reductores fuertes en reacciones redox. El óxido de vanadio generalmente está disponible en la mayoría de los volúmenes, y también se pueden considerar formas de alta pureza, submicrométricas y nanopolvo.

Control de calidad de ingredientes

Análisis de composición de materias primas
Mediante el uso de equipos como ICP y GDMS, el contenido de impurezas metálicas se detecta y analiza para garantizar que cumpla con el estándar de pureza;

Las impurezas no metálicas son detectadas por equipos tales como analizadores de carbono y azufre, analizadores de nitrógeno y oxígeno.
Análisis de detección de fallas metalográficas.
El material de destino se inspecciona utilizando un equipo de detección de fallas para garantizar que no haya defectos ni agujeros de contracción dentro del producto;

A través de pruebas metalográficas, se analiza la estructura interna del grano del material objetivo para garantizar que los granos sean finos y densos.
Inspección de apariencia y dimensión.
Las dimensiones del producto se miden con micrómetros y calibradores de precisión para garantizar el cumplimiento de los dibujos;

El acabado superficial y la limpieza del producto se miden con un medidor de limpieza superficial.

Tamaños de objetivos de pulverización convencional

Proceso de preparación
Prensado isostático en caliente, fusión al vacío, etc.
Forma del objetivo de pulverización catódica
objetivo de pulverización catódica plano, objetivo de pulverización catódica multiarco, objetivo de pulverización catódica escalonada, objetivo de pulverización catódica de forma especial
Tamaño del objetivo de pulverización catódica redonda
Diámetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espesor: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
El tamaño se puede personalizar.
Tamaño del objetivo de pulverización catódica cuadrada
50 × 50 × 3 mm / 100 × 100 × 4 mm / 300 × 300 × 5 mm, el tamaño se puede personalizar

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

Ver más preguntas frecuentes sobre este producto

4.9

out of

5

KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is a lifesaver. It's so pure and consistent that it's made our thin film deposition process so much easier.

Aiden Murphy

4.8

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for years, and they've never let me down. The quality is always top-notch, and the prices are unbeatable.

Elena Petrova

4.7

out of

5

KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is the best I've ever used. It's so easy to work with, and the results are always amazing.

Lucas Silva

4.9

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Sophia Patel

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Ethan Cohen

4.7

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Liam Jones

4.8

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Mia Rodriguez

4.7

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Noah Brown

4.9

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Olivia Smith

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Alexander Johnson

4.7

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Emma White

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Oliver Green

4.8

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Ava Williams

4.7

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Elijah Wilson

4.9

out of

5

I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.

Liam Jones

4.7

out of

5

I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.

Mia Rodriguez

4.9

out of

5

KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.

Noah Brown

PDF - Objetivo de pulverización catódica de óxido de vanadio de alta pureza (V2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Descargar

catalogo de Materiales De Laboratorio

Descargar

SOLICITAR PRESUPUESTO

Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!

Productos relacionados

Blanco de pulverización catódica de vanadio (V) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de vanadio (V) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de vanadio (V) de alta calidad para su laboratorio? Ofrecemos una amplia gama de opciones personalizables para satisfacer sus necesidades únicas, incluidos objetivos de pulverización catódica, polvos y más. Contáctenos hoy para precios competitivos.

Objetivo de pulverización catódica de óxido de tungsteno de alta pureza (WO3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de tungsteno de alta pureza (WO3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de óxido de tungsteno (WO3) de alta calidad? Nuestros productos de laboratorio se adaptan a sus necesidades específicas, con una variedad de purezas, formas y tamaños disponibles. Compre objetivos de pulverización catódica, materiales de revestimiento y más.

Objetivo de pulverización catódica de óxido de cromo de alta pureza (Cr2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de cromo de alta pureza (Cr2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de óxido de cromo de alta calidad para su laboratorio? Nuestra gama incluye objetivos de pulverización catódica, polvos, láminas y más, personalizados según sus necesidades. Compre ahora a precios razonables.

Blanco de pulverización catódica de óxido de molibdeno (MoO3) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de óxido de molibdeno (MoO3) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de óxido de molibdeno (MoO3) de alta calidad para sus necesidades de laboratorio? Nuestra empresa ofrece soluciones a medida a precios razonables. Ofrecemos una amplia gama de objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más. ¡Póngase en contacto con nosotros hoy!

Blanco de pulverización catódica de óxido de tantalio de alta pureza (Ta2O5)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de óxido de tantalio de alta pureza (Ta2O5)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Encuentre materiales de óxido de tantalio (Ta2O5) de alta calidad para sus necesidades de laboratorio a precios asequibles. Nuestros expertos pueden adaptar materiales de varias purezas, formas y tamaños para cumplir con sus requisitos específicos. Consulte nuestra gama de objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más.

Blanco de pulverización catódica de óxido de zinc (ZnO) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de óxido de zinc (ZnO) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Encuentre materiales de óxido de zinc (ZnO) de alta calidad para sus necesidades de laboratorio a excelentes precios. Nuestro equipo de expertos produce materiales personalizados en varias purezas, formas y tamaños, incluidos objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más. ¡Compra ahora!

Objetivo de pulverización catódica de óxido de aluminio de alta pureza (Al2O3) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de aluminio de alta pureza (Al2O3) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

¿Busca materiales de óxido de aluminio para su laboratorio? Ofrecemos productos de Al2O3 de alta calidad a precios asequibles con formas y tamaños personalizables para satisfacer sus necesidades específicas. Encuentre objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más.

Objetivo de pulverización catódica de óxido de hierro de alta pureza (Fe3O4) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de hierro de alta pureza (Fe3O4) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Obtenga materiales de óxido de hierro (Fe3O4) de diferentes purezas, formas y tamaños para uso en laboratorio. Nuestra gama incluye objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos, alambrón y más. Contáctanos ahora.

Blanco de pulverización catódica de óxido de bismuto de alta pureza (Bi2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de óxido de bismuto de alta pureza (Bi2O3)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Obtenga materiales de óxido de bismuto (Bi2O3) de alta calidad para uso en laboratorio a precios razonables. Elija entre una amplia gama de tamaños y formas para satisfacer sus necesidades únicas. ¡Ordenar ahora!

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD

Diamante dopado con boro CVD: un material versátil que permite una conductividad eléctrica, transparencia óptica y propiedades térmicas excepcionales personalizadas para aplicaciones en electrónica, óptica, detección y tecnologías cuánticas.

Blanco de pulverización catódica de óxido de circonio de alta pureza (ZrO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de óxido de circonio de alta pureza (ZrO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Obtenga materiales de óxido de circonio (ZrO2) de alta calidad adaptados a sus necesidades. Ofrecemos una variedad de formas y tamaños, incluidos objetivos de pulverización catódica, polvos y más, a precios asequibles.

Dióxido de iridio IrO2 para electrólisis de agua

Dióxido de iridio IrO2 para electrólisis de agua

Dióxido de iridio, cuya estructura cristalina es de rutilo. El dióxido de iridio y otros óxidos de metales raros se pueden usar en electrodos de ánodo para electrólisis industrial y microelectrodos para investigación electrofisiológica.

Blanco de pulverización catódica de dióxido de silicio de alta pureza (SiO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de dióxido de silicio de alta pureza (SiO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de dióxido de silicio para su laboratorio? Nuestros materiales de SiO2 diseñados por expertos vienen en varias purezas, formas y tamaños. ¡Explore nuestra amplia gama de especificaciones hoy!

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD

Recubrimiento de diamante CVD: conductividad térmica, calidad del cristal y adherencia superiores para herramientas de corte, fricción y aplicaciones acústicas

Placa de grafito de carbono - isostático

Placa de grafito de carbono - isostático

El grafito de carbono isostático se prensa a partir de grafito de alta pureza. Es un material excelente para la fabricación de toberas de cohetes, materiales de desaceleración y materiales reflectantes para reactores de grafito.