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Blanco de pulverización catódica de óxido de circonio de alta pureza (ZrO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Materiales de laboratorio

Blanco de pulverización catódica de óxido de circonio de alta pureza (ZrO2)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Número de artículo : LM-ZrO2

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Fórmula química
ZrO2
Pureza
4N
Forma
discos / alambre / bloque / polvo / placas / objetivos de columna / objetivo de paso / hecho a medida
ISO & CE icon

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A precios razonables, ofrecemos materiales de óxido de circonio (ZrO2) para uso en laboratorio. Nuestra experiencia radica en producir y adaptar materiales de óxido de circonio (ZrO2) de varias purezas, formas y tamaños para satisfacer sus requisitos únicos.

Ofrecemos una amplia gama de especificaciones y tamaños para diversas formas de materiales de óxido de circonio (ZrO2), como objetivos de pulverización (circulares, cuadrados, tubulares, irregulares), materiales de revestimiento, cilindros, conos, partículas, láminas, polvos, polvos de impresión 3D , polvos nanométricos, alambrón, lingotes y bloques, entre otros.

Detalles

Objetivo de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2)
Objetivo de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2)
Objetivo de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2)
Objetivo de pulverización catódica de óxido de circonio (ZrO2)
Bloque redondo de óxido de circonio (ZrO2)
Bloque redondo de óxido de circonio (ZrO2)
Bloque redondo de óxido de circonio (ZrO2)
Bloque redondo de óxido de circonio (ZrO2)
Partículas de óxido de circonio (ZrO2)
Partículas de óxido de circonio (ZrO2)
Polvo de óxido de circonio (ZrO2)
Polvo de óxido de circonio (ZrO2)

Acerca del óxido de circonio (ZrO2)

El óxido de circonio, también conocido como zirconia, es un compuesto químico con una fórmula química de ZrO2. Este sólido cristalino blanco tiene un alto punto de fusión de ~2700 °C, una densidad de 5,89 g/cc y una presión de vapor de 10-4 Torr a ~2200 °C. Debido a sus excepcionales propiedades mecánicas, el óxido de circonio se utiliza mucho en la producción de cerámica.

La zirconia cúbica, una piedra preciosa popular que se asemeja a un diamante, es en realidad óxido de circonio en forma cristalina cúbica. Los joyeros de todo el mundo lo venden como una alternativa económica a los diamantes.

Además de su uso en cerámica y piedras preciosas, el óxido de circonio tiene importantes aplicaciones en varios campos. Se evapora al vacío para recubrimientos ópticos, semiconductores y celdas de combustible, entre otras cosas. Como resultado, este material se utiliza con frecuencia en industrias de alta tecnología, lo que lo convierte en un material muy valorado por investigadores e ingenieros.

Control de calidad de ingredientes

Análisis de composición de materias primas
Mediante el uso de equipos como ICP y GDMS, el contenido de impurezas metálicas se detecta y analiza para garantizar que cumpla con el estándar de pureza;

Las impurezas no metálicas son detectadas por equipos tales como analizadores de carbono y azufre, analizadores de nitrógeno y oxígeno.
Análisis de detección de fallas metalográficas.
El material de destino se inspecciona utilizando un equipo de detección de fallas para garantizar que no haya defectos ni agujeros de contracción dentro del producto;

A través de pruebas metalográficas, se analiza la estructura interna del grano del material objetivo para garantizar que los granos sean finos y densos.
Inspección de apariencia y dimensión.
Las dimensiones del producto se miden con micrómetros y calibradores de precisión para garantizar el cumplimiento de los dibujos;

El acabado superficial y la limpieza del producto se miden con un medidor de limpieza superficial.

Tamaños de objetivos de pulverización convencional

Proceso de preparación
Prensado isostático en caliente, fusión al vacío, etc.
Forma del objetivo de pulverización catódica
objetivo de pulverización catódica plano, objetivo de pulverización catódica multiarco, objetivo de pulverización catódica escalonada, objetivo de pulverización catódica de forma especial
Tamaño del objetivo de pulverización catódica redonda
Diámetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espesor: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
El tamaño se puede personalizar.
Tamaño del objetivo de pulverización catódica cuadrada
50 × 50 × 3 mm / 100 × 100 × 4 mm / 300 × 300 × 5 mm, el tamaño se puede personalizar

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

¿Qué son los metales de alta pureza?

Los metales de alta pureza son materiales de un solo elemento con un mínimo de impurezas, lo que los hace ideales para su uso en investigación, desarrollo y producción de tecnologías avanzadas. Estos metales se utilizan en la creación de cerámicas avanzadas, sensores electrónicos, lentes y ópticas de alta precisión, LED, láseres, recubrimientos de barrera térmica, pantallas de plasma y más. KINTEK ofrece una amplia gama de metales de alta pureza y compuestos metálicos binarios y ternarios en diversas formas, composiciones, dispersiones, tamaños de partículas y pesos para aplicaciones comerciales y de investigación. Los metales especiales estratégicos se utilizan en aplicaciones de alta tecnología y pueden ser costosos debido a su elaborado procesamiento.

¿Qué es el objetivo de pulverización catódica?

Un objetivo de pulverización catódica es un material utilizado en el proceso de deposición por pulverización catódica, que consiste en romper el material objetivo en partículas diminutas que forman un rocío y recubren un sustrato, como una oblea de silicio. Los objetivos de pulverización catódica suelen ser elementos metálicos o aleaciones, aunque hay algunos objetivos cerámicos disponibles. Vienen en una variedad de tamaños y formas, y algunos fabricantes crean objetivos segmentados para equipos de pulverización catódica más grandes. Los objetivos de pulverización tienen una amplia gama de aplicaciones en campos como la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos debido a su capacidad para depositar películas delgadas con alta precisión y uniformidad.

¿Para qué se utilizan los metales de alta pureza?

Los metales de alta pureza se utilizan en diversas tecnologías avanzadas que requieren propiedades, rendimiento y calidad específicos. Se utilizan para crear iluminación fluorescente, pantallas de plasma, LED, lentes y ópticas de alta precisión, sensores electrónicos, cerámica avanzada, recubrimientos de barrera térmica, láser y más. Estos metales también se utilizan en la producción de materiales magnéticos, termoeléctricos, de fósforo y semiconductores de alta calidad. KINTEK ofrece una cartera diversa de metales de alta pureza, compuestos metálicos binarios y ternarios, aleaciones magnéticas, óxidos metálicos, nanomateriales y precursores organometálicos en diversas formas, composiciones, dispersiones, tamaños de partículas y pesos para todas las aplicaciones comerciales y de investigación.

¿Cómo se fabrican los blancos de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se fabrican utilizando una variedad de procesos de fabricación según las propiedades del material objetivo y su aplicación. Estos incluyen fusión y laminado al vacío, prensado en caliente, proceso especial de sinterización a presión, prensado en caliente al vacío y métodos forjados. La mayoría de los materiales de destino de pulverización catódica se pueden fabricar en una amplia gama de formas y tamaños, siendo las formas circulares o rectangulares las más comunes. Los objetivos generalmente están hechos de elementos metálicos o aleaciones, pero también se pueden usar objetivos de cerámica. También hay disponibles objetivos de pulverización catódica compuestos, hechos de una variedad de compuestos que incluyen óxidos, nitruros, boruros, sulfuros, seleniuros, telururos, carburos, mezclas cristalinas y compuestas.

¿Para qué se utiliza el objetivo de pulverización catódica?

Los objetivos de pulverización catódica se utilizan en un proceso llamado pulverización catódica para depositar películas delgadas de un material sobre un sustrato utilizando iones para bombardear el objetivo. Estos objetivos tienen una amplia gama de aplicaciones en varios campos, incluida la microelectrónica, las células solares de película delgada, la optoelectrónica y los revestimientos decorativos. Permiten la deposición de películas delgadas de materiales sobre una variedad de sustratos con alta precisión y uniformidad, lo que los convierte en una herramienta ideal para producir productos de precisión. Los objetivos de bombardeo iónico vienen en varias formas y tamaños y pueden especializarse para cumplir con los requisitos específicos de la aplicación.

¿Qué son los objetivos de pulverización catódica para la electrónica?

Los objetivos de pulverización para la electrónica son discos delgados o láminas de materiales como aluminio, cobre y titanio que se utilizan para depositar películas delgadas en obleas de silicio para crear dispositivos electrónicos como transistores, diodos y circuitos integrados. Estos objetivos se utilizan en un proceso denominado pulverización catódica, en el que los átomos del material objetivo se expulsan físicamente de la superficie y se depositan en un sustrato bombardeando el objetivo con iones. Los objetivos de pulverización catódica para la electrónica son esenciales en la producción de microelectrónica y, por lo general, requieren alta precisión y uniformidad para garantizar dispositivos de calidad.

¿Cuál es la vida útil de un objetivo de pulverización catódica?

La vida útil de un objetivo de pulverización catódica depende de factores como la composición del material, la pureza y la aplicación específica para la que se utiliza. En general, los objetivos pueden durar de varios cientos a miles de horas de pulverización catódica, pero esto puede variar ampliamente según las condiciones específicas de cada ejecución. La manipulación y el mantenimiento adecuados también pueden prolongar la vida útil de un objetivo. Además, el uso de objetivos de pulverización catódica rotativa puede aumentar los tiempos de ejecución y reducir la aparición de defectos, lo que los convierte en una opción más rentable para procesos de gran volumen.
Ver más preguntas frecuentes sobre este producto

4.9

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5

The KINTEK ZrO2 sputtering targets arrived promptly and in excellent condition. The quality is outstanding, and they have significantly enhanced our thin-film deposition process.

Dr. Ezequiel Johnston

4.8

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5

KINTEK's ZrO2 products are truly impressive. Their purity and consistency have enabled us to achieve exceptional results in our research. Highly recommended!

Dr. Saeeda Khan

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The ZrO2 sputtering targets from KINTEK are a game-changer for our lab. The deposition rates are remarkable, and the films exhibit superior properties. We're very pleased with this purchase.

Dr. Nicola Dubois

4.9

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KINTEK's ZrO2 powders are of exceptional quality. The particle size distribution is narrow, and the purity is outstanding. They have become our go-to source for ZrO2 materials.

Dr. Yash Patel

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We're thrilled with the KINTEK ZrO2 wires. They're incredibly durable and have significantly extended the lifespan of our sputtering system. Highly recommend!

Dr. Maria Garcia

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The ZrO2 blocks from KINTEK are top-notch. They're precisely machined and exhibit exceptional uniformity. Our team is very impressed with the quality.

Dr. Liam Murphy

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5

KINTEK's ZrO2 granules are a lifesaver. They're perfect for our fluidized bed reactor, and the results have been phenomenal. Thank you, KINTEK!

Dr. Haruka Yoshida

4.8

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5

The purity of KINTEK's ZrO2 materials is unmatched. They've enabled us to achieve groundbreaking results in our research on transparent conducting oxides.

Dr. Lucas Silva

4.7

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5

KINTEK's ZrO2 sputtering targets are a testament to their technological prowess. The films we've deposited using these targets exhibit exceptional properties.

Dr. Amina Hussein

4.9

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5

We're very satisfied with the KINTEK ZrO2 powders. They're highly consistent, and the particle size distribution is perfect for our application. Highly recommended!

Dr. David Cohen

4.8

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5

The ZrO2 wires from KINTEK are a game-changer for our arc spray system. They've significantly improved the coating quality and adhesion.

Dr. Isabella Rossi

4.7

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5

The ZrO2 blocks from KINTEK are a great value for money. They're durable, easy to machine, and provide excellent results in our sputtering process.

Dr. Samuel Kim

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