Comprender la diferencia entre el CVD (depósito químico en fase vapor) y el recubrimiento por pulverización catódica puede ser crucial para diversas aplicaciones.
Explicación de 4 diferencias clave entre CVD y sputter coating
Diferencias de proceso
El CVD es un proceso que implica una reacción química en la superficie del material del sustrato.
Utiliza un estado gaseoso en flujo para depositar el revestimiento.
Esto permite una deposición multidireccional difusa.
El revestimiento por pulverización catódica, también conocido como PVD (deposición física de vapor), consiste en vaporizar partículas físicas sólidas en un plasma.
A continuación, este plasma se dirige hacia el material del sustrato en una deposición en línea recta.
Materiales depositados
Los recubrimientos CVD pueden ser recubrimientos cerámicos que se consideran recubrimientos duros.
Estos recubrimientos tienen una excelente durabilidad mecánica y química.
Los recubrimientos por pulverización catódica pueden utilizarse para una amplia gama de aplicaciones.
Pueden incluir metales, aleaciones y otros materiales.
Propiedades de los revestimientos
Los recubrimientos CVD son conocidos por su incomparable durabilidad mecánica y química.
Son ideales para aplicaciones que requieren una alta resistencia al desgaste y protección contra la corrosión.
Los revestimientos por pulverización catódica pueden no tener el mismo nivel de durabilidad.
Pueden ser más propensos a sufrir daños.
Comparación general
El CVD implica una reacción química y produce revestimientos duros.
El revestimiento por pulverización catódica es un proceso físico de deposición de vapor que puede depositar una amplia gama de materiales.
Sin embargo, puede dar lugar a revestimientos más blandos.
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