La limpieza de un cátodo para sputtering es crucial para lograr una deposición de película fina de alta calidad.
A continuación le ofrecemos una guía paso a paso para asegurarse de que su cátodo para sputtering está limpio y listo para su uso.
¿Cómo se limpia un cátodo para sputtering? 4 pasos esenciales y precauciones
Paso 1: Limpie con un paño suave y sin pelusa empapado en acetona.
Esto ayudará a eliminar el polvo o la suciedad que pueda haber en la superficie del cátodo.
Paso 2: Limpiar con alcohol
Este paso ayuda a eliminar cualquier contaminante o residuo en el objetivo.
Paso 3: Limpieza con agua desionizada
Se utiliza agua desionizada para asegurarse de que cualquier impureza o residuo restante se elimina completamente del blanco.
Paso 4: Secar el blanco en un horno
Tras la limpieza con agua desionizada, coloque el blanco en el horno y séquelo a 100 ℃ durante 30 minutos.
Este paso es importante para asegurar que el objetivo está completamente seco antes de su uso posterior.
Precauciones durante el proceso de pulverización catódica
1. Preparación del sputtering
Es importante mantener la cámara de vacío y el sistema de sputtering limpios.
Cualquier residuo o contaminante puede aumentar la posibilidad de fallos en la película o cortocircuitos en el sistema.
2. 2. Instalación del blanco
Asegúrese de que existe una buena conexión térmica entre el blanco y la pared estabilizadora de la pistola de sputtering.
Si la duela de refrigeración o la placa de apoyo están deformadas, pueden afectar a la conductividad térmica y provocar grietas o dobleces en el blanco.
3. Mantenga limpio el gas de pulverización catódica
El gas de sputtering, como el argón o el oxígeno, debe estar limpio y seco para mantener las características de composición del revestimiento.
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