Para limpiar un cátodo para sputtering, siga estos pasos:
Paso 1: Limpie con un paño suave y sin pelusa empapado en acetona. Esto ayudará a eliminar el polvo o la suciedad que pueda haber en la superficie del objetivo.
Paso 2: Limpieza con alcohol. Este paso ayuda a eliminar cualquier contaminante o residuo en el objetivo.
Paso 3: Limpieza con agua desionizada. El agua desionizada se utiliza para garantizar que cualquier impureza o residuo restante se elimine completamente del objetivo.
Paso 4: Tras la limpieza con agua desionizada, coloque el objetivo en el horno y séquelo a 100 ℃ durante 30 minutos. Este paso es importante para garantizar que el objetivo esté completamente seco antes de seguir utilizándolo.
Además de limpiar el cátodo para sputtering, también hay que tomar algunas precauciones durante el proceso de sputtering:
1. Preparación de la pulverización catódica: Es importante mantener la cámara de vacío y el sistema de sputtering limpios. Cualquier residuo o contaminante puede aumentar la posibilidad de fallos en la película o cortocircuitos en el sistema.
2. Instalación del blanco: Asegúrese de que existe una buena conexión térmica entre el blanco y la pared estabilizadora de la pistola de pulverización catódica. Si la duela de refrigeración o la placa de apoyo están deformadas, pueden afectar a la conductividad térmica y provocar grietas o dobleces en el blanco.
3. Mantener limpio el gas de sputtering: El gas de sputtering, como argón u oxígeno, debe estar limpio y seco para mantener las características de composición del revestimiento.
En general, la limpieza y el mantenimiento del cátodo para sputtering son cruciales para lograr una deposición de película fina de alta calidad y evitar posibles problemas durante el proceso de sputtering.
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