El sputtering de oro es un proceso utilizado para depositar una fina capa de oro sobre diversas superficies, como placas de circuitos, joyas metálicas e implantes médicos. Esto se consigue mediante deposición física de vapor (PVD) en una cámara de vacío. El proceso consiste en bombardear un objetivo o material fuente de oro con iones de alta energía, lo que hace que los átomos de oro salgan despedidos en forma de vapor fino. Este vapor de oro cae sobre la superficie del objetivo o sustrato y forma una fina capa de oro.
El proceso de sputtering de oro comienza con una fuente de oro puro en estado sólido, normalmente en forma de discos. Esta fuente se energiza mediante calor o bombardeo de electrones. Cuando se energiza, algunos de los átomos de oro de la fuente sólida se desprenden y se suspenden uniformemente alrededor de la superficie de la pieza en un gas inerte, a menudo argón. Este método de deposición de películas finas es especialmente útil para ver características finas en piezas pequeñas cuando se observan a través de un microscopio electrónico.
El oro se elige para el sputtering debido a las excepcionales propiedades de las películas de oro sputtered. Estas películas son duras, resistentes a la corrosión y al deslustre. Mantienen su brillo durante mucho tiempo y no se borran fácilmente, lo que las hace ideales para aplicaciones en la industria relojera y joyera. Además, el sputtering de oro permite un control preciso del proceso de deposición, lo que posibilita la creación de revestimientos uniformes o patrones y tonos personalizados, como el oro rosa, que requiere una mezcla específica de oro y cobre junto con una oxidación controlada de los átomos de metal libres durante el proceso de sputtering.
En general, el sputtering de oro es un método versátil y preciso para aplicar revestimientos de oro, que ofrece durabilidad y ventajas estéticas, además de ser aplicable en diversos sectores, como la electrónica y la ciencia.
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