En el depósito físico en fase vapor (PVD), los gases desempeñan un papel crucial en la formación de diversos compuestos que mejoran las propiedades del material del sustrato.
Los 3 gases más utilizados en PVD: Oxígeno, nitrógeno y metano
Oxígeno
El oxígeno se utiliza habitualmente en el proceso de PVD.
Reacciona con los átomos de metal para formar óxidos metálicos.
Esta reacción se produce durante la fase de transporte.
La formación de óxidos metálicos es esencial para las aplicaciones que requieren resistencia a la oxidación y una mayor dureza.
Nitrógeno
El nitrógeno es otro gas clave utilizado en PVD.
Es especialmente importante en procesos como el sputtering.
El material objetivo suele ser un metal como el titanio.
La reacción entre el nitrógeno y el titanio da lugar a la formación de nitruro de titanio (TiN).
El TiN es un compuesto duro y resistente al desgaste.
Esta reacción se ve favorecida por la presencia de gas nitrógeno en el entorno del plasma.
Metano
El metano se utiliza en los procesos de PVD para formar carburos.
Es particularmente eficaz cuando el material objetivo es un metal que puede formar carburos estables.
La reacción entre el metano y los átomos de metal da lugar a la deposición de carburos metálicos.
Los carburos metálicos son conocidos por su dureza y resistencia al desgaste.
Este gas se suele utilizar en aplicaciones específicas en las que la formación de carburos es beneficiosa.
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