El grosor del recubrimiento por pulverización catódica de oro suele oscilar entre 2 y 20 nm para aplicaciones de SEM. Este recubrimiento ultrafino se aplica a muestras no conductoras o poco conductoras para evitar la carga y mejorar la relación señal/ruido aumentando la emisión de electrones secundarios.
Explicación detallada:
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Finalidad y aplicación:
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El recubrimiento por pulverización catódica de oro se utiliza principalmente en microscopía electrónica de barrido (SEM) para recubrir muestras no conductoras o poco conductoras. Este recubrimiento es esencial porque evita la acumulación de campos eléctricos estáticos en la muestra, que de otro modo podrían interferir en el proceso de obtención de imágenes. Además, el revestimiento metálico aumenta la emisión de electrones secundarios desde la superficie de la muestra, mejorando la visibilidad y claridad de las imágenes captadas por el SEM.Gama de espesores:
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- Los materiales de referencia indican que el grosor típico de las películas de oro bombardeadas para SEM oscila entre 2 y 20 nm. Este intervalo se elige para garantizar que el recubrimiento sea lo suficientemente fino como para no ocultar los detalles finos de la muestra, pero lo suficientemente grueso como para proporcionar una conductividad eléctrica y una emisión de electrones secundarios adecuadas.
- Ejemplos y técnicas específicas:
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En un ejemplo, se recubrió una oblea de 6" con 3 nm de oro/paladio (Au/Pd) utilizando un recubridor por pulverización catódica SC7640. Los ajustes utilizados fueron 800V y 12mA con gas argón y un vacío de 0,004 bar. Se comprobó que el revestimiento era uniforme en toda la oblea.Otro ejemplo se refiere a la deposición de una película de platino de 2 nm sobre una película de Formvar recubierta de carbono, utilizando también el recubridor por pulverización catódica SC7640. Los ajustes fueron 800 V y 10 mA con gas argón y un vacío de 0,004 bares.
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Detalles técnicos y fórmulas:
El espesor del revestimiento de Au/Pd puede calcularse mediante la fórmula:
[ Th = 7,5 I t ]
