Conocimiento ¿Cuáles son los distintos tipos de sputtering?
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Cuáles son los distintos tipos de sputtering?

Los diferentes tipos de sputtering incluyen sputtering de diodo DC, sputtering de diodo RF, sputtering de diodo magnetrón y sputtering de haz de iones.

1. 1. Diodo DC: En el sputtering por diodos de corriente continua, se enciende un plasma de baja presión de gas argón entre un blanco y un sustrato utilizando un voltaje de corriente continua de 500-1000 V. Los iones de argón positivos precipitan los átomos del blanco, que migran al sustrato y se condensan allí. Sin embargo, en este proceso sólo pueden bombardearse conductores eléctricos y se consiguen bajas velocidades de bombardeo.

2. Pulverización catódica por RF: El sputtering por diodos de radiofrecuencia (RF) utiliza energía de radiofrecuencia (RF) para generar un plasma entre el blanco y el sustrato. La potencia de RF se utiliza para ionizar el gas argón y acelerar los iones hacia el blanco, provocando el sputtering. Este método permite mayores velocidades de sputtering en comparación con el sputtering por diodos de corriente continua y puede utilizarse tanto para materiales conductores como aislantes.

3. Diodo magnetrón: El sputtering por diodo magnetrón es una variación del sputtering por diodo RF en el que se aplica un campo magnético cerca de la superficie del blanco. El campo magnético atrapa electrones cerca del blanco, aumentando la densidad del plasma y la velocidad de sputtering. Este método se utiliza habitualmente para depositar películas metálicas con alta adherencia y densidad.

4. Pulverización catódica por haz de iones: El bombardeo por haz de iones implica el uso de un haz de iones de alta energía para bombardear átomos del material objetivo. El haz de iones se genera ionizando un gas como el argón y acelerando los iones hacia el objetivo. Este método permite un control preciso del proceso de pulverización catódica y suele utilizarse para depositar películas finas de alta calidad con bajos niveles de contaminación.

Cada tipo de sputtering tiene sus propias ventajas y limitaciones, y la elección del método depende de los requisitos específicos de la aplicación de revestimiento.

¿Busca equipos de laboratorio de alta calidad para aplicaciones de sputtering? KINTEK es su mejor opción. Ofrecemos una amplia gama de sistemas de sputtering, incluyendo sputtering por diodos DC, sputtering por diodos RF, sputtering por diodos magnetrón y sputtering por haz de iones. Tanto si necesita depositar películas finas sobre conductores eléctricos como producir recubrimientos compuestos, nuestros fiables equipos satisfarán sus necesidades. Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información sobre nuestras soluciones de sputtering y llevar su investigación al siguiente nivel.

Productos relacionados

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Horno de sinterización por plasma de chispa Horno SPS

Descubra las ventajas de los hornos de sinterización por plasma de chispa para la preparación rápida de materiales a baja temperatura. Calentamiento uniforme, bajo coste y respetuoso con el medio ambiente.

Objetivo de pulverización catódica de aluminio (Al) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de aluminio (Al) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Obtenga materiales de aluminio (Al) de alta calidad para uso en laboratorio a precios asequibles. Ofrecemos soluciones personalizadas que incluyen objetivos de pulverización catódica, polvos, láminas, lingotes y más para satisfacer sus necesidades únicas. ¡Ordenar ahora!

Objetivo de pulverización catódica de hierro (Fe) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de hierro (Fe) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Está buscando materiales de hierro (Fe) asequibles para uso en laboratorio? Nuestra gama de productos incluye objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más en varias especificaciones y tamaños, adaptados para satisfacer sus necesidades específicas. ¡Póngase en contacto con nosotros hoy!

Blanco de pulverización catódica de aleación de titanio y tungsteno (WTi) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Blanco de pulverización catódica de aleación de titanio y tungsteno (WTi) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Descubra nuestros materiales de aleación de titanio y tungsteno (WTi) para uso en laboratorio a precios asequibles. Nuestra experiencia nos permite producir materiales personalizados de diferentes purezas, formas y tamaños. Elija entre una amplia gama de objetivos de pulverización catódica, polvos y más.

Aleación de cobre y circonio (CuZr) Objetivo de pulverización catódica / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Aleación de cobre y circonio (CuZr) Objetivo de pulverización catódica / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Descubra nuestra gama de materiales de aleación de cobre y circonio a precios asequibles, adaptados a sus requisitos únicos. Explore nuestra selección de objetivos de pulverización catódica, recubrimientos, polvos y más.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.

Blanco de pulverización catódica de carbono de alta pureza (C)/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de carbono de alta pureza (C)/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Está buscando materiales de carbono (C) asequibles para sus necesidades de laboratorio? ¡No busque más! Nuestros materiales fabricados y adaptados por expertos vienen en una variedad de formas, tamaños y purezas. Elija entre objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más.

Objetivo de pulverización catódica de plomo (Pb) de alta pureza / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Objetivo de pulverización catódica de plomo (Pb) de alta pureza / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

¿Está buscando materiales de plomo (Pb) de alta calidad para sus necesidades de laboratorio? No busque más allá de nuestra selección especializada de opciones personalizables, que incluyen objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento y más. ¡Contáctenos hoy para precios competitivos!

Blanco de pulverización catódica de titanio (Ti) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de titanio (Ti) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Compre materiales de titanio (Ti) de alta calidad a precios razonables para uso en laboratorio. Encuentre una amplia gama de productos personalizados para satisfacer sus necesidades únicas, incluidos objetivos de pulverización catódica, recubrimientos, polvos y más.

Objetivo de pulverización catódica de óxido de aluminio de alta pureza (Al2O3) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de aluminio de alta pureza (Al2O3) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

¿Busca materiales de óxido de aluminio para su laboratorio? Ofrecemos productos de Al2O3 de alta calidad a precios asequibles con formas y tamaños personalizables para satisfacer sus necesidades específicas. Encuentre objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos y más.

Objetivo de pulverización catódica de óxido de hierro de alta pureza (Fe3O4) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Objetivo de pulverización catódica de óxido de hierro de alta pureza (Fe3O4) / Polvo / Alambre / Bloque / Gránulo

Obtenga materiales de óxido de hierro (Fe3O4) de diferentes purezas, formas y tamaños para uso en laboratorio. Nuestra gama incluye objetivos de pulverización catódica, materiales de recubrimiento, polvos, alambrón y más. Contáctanos ahora.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Objetivo de pulverización catódica de iridio (Ir) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Objetivo de pulverización catódica de iridio (Ir) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de iridio (Ir) de alta calidad para uso en laboratorio? ¡No busque más! Nuestros materiales fabricados y adaptados por expertos vienen en varias purezas, formas y tamaños para adaptarse a sus necesidades únicas. Consulte nuestra gama de objetivos de pulverización catódica, recubrimientos, polvos y más. ¡Obtenga una cotización hoy!

Crisol de haz de pistola de electrones

Crisol de haz de pistola de electrones

En el contexto de la evaporación por haz de cañón de electrones, un crisol es un contenedor o soporte de fuente que se utiliza para contener y evaporar el material que se depositará sobre un sustrato.

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.

Blanco de pulverización catódica de estaño (Sn) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

Blanco de pulverización catódica de estaño (Sn) de alta pureza/polvo/alambre/bloque/gránulo

¿Busca materiales de estaño (Sn) de alta calidad para uso en laboratorio? Nuestros expertos ofrecen materiales de estaño (Sn) personalizables a precios razonables. ¡Vea nuestra gama de especificaciones y tamaños hoy!


Deja tu mensaje