El depósito físico en fase vapor (PVD) es un proceso crucial en diversas industrias, que ofrece dos tipos principales: oclusivo y funcional.
¿Cuáles son los dos tipos de PVD? (Explicado en 4 puntos clave)
1. PVD oclusivo
El PVD oclusivo consiste en crear una capa muy fina de material mediante el proceso de deposición física de vapor.
Esta técnica es amplia y abarca varios métodos específicos.
El objetivo principal del PVD oclusivo es crear una barrera o sellado en la superficie de un material.
Este tipo de recubrimiento PVD se utiliza comúnmente para aplicaciones que requieren resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste o resistencia química.
2. PVD funcional
El PVD funcional también implica la creación de una fina capa de material mediante deposición física de vapor.
Sin embargo, el objetivo del PVD funcional es mejorar la funcionalidad o el rendimiento del material.
Esto puede incluir la mejora de su dureza, lubricidad o propiedades ópticas.
Los recubrimientos PVD funcionales se utilizan habitualmente en industrias como la automoción, la aeroespacial y la electrónica.
3. PVD frente a CVD
Es importante tener en cuenta que PVD y CVD (deposición química de vapor) son dos métodos diferentes de aplicar recubrimientos a la superficie de un material.
El PVD se basa en la deposición física de vapor, mientras que el CVD se basa en la deposición química de vapor.
Los materiales que pueden depositar, las condiciones en las que se aplican y las propiedades de los recubrimientos que producen pueden diferir.
4. Aplicaciones y ventajas
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