Cuando se trata de depositar películas finas, dos métodos comunes son la evaporación térmica y la evaporación por haz de electrones.
5 puntos clave a tener en cuenta
1. Método de vaporización
La evaporación térmica utiliza una corriente eléctrica para calentar un crisol que contiene el material.
Esto hace que el material se funda y se evapore.
La evaporación por haz de electrones, por el contrario, emplea un haz de electrones de alta energía para calentar directamente el material.
2. Idoneidad de los materiales
La evaporación térmica es adecuada para materiales con puntos de fusión más bajos.
Da lugar a recubrimientos de película fina menos densos con un mayor riesgo de impurezas.
La evaporación por haz de electrones es especialmente eficaz para materiales con puntos de fusión altos.
3. Tasas de deposición y pureza
La evaporación térmica ofrece tasas de deposición más bajas y puede dar lugar a recubrimientos menos densos.
La evaporación por haz de electrones ofrece tasas de deposición más altas y una mayor pureza en las películas finas resultantes.
4. Aplicaciones comunes
La evaporación térmica se utiliza habitualmente para depositar películas finas de metales y aleaciones.
Puede producir películas con buena pureza y adherencia al sustrato.
La evaporación por haz de electrones es preferible para depositar películas finas de metales refractarios y películas finas ópticas.
5. Control y versatilidad
La evaporación térmica es más sencilla y potencialmente menos costosa.
Es más limitada en cuanto a los tipos de materiales que puede procesar eficazmente.
La evaporación por haz de electrones ofrece generalmente un mejor control, una mayor pureza y puede tratar una gama más amplia de materiales.
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