La fórmula de la velocidad de deposición de una película fina viene dada por C = T/t.
En esta fórmula
- C es la velocidad de deposición.
- T es el espesor de la película.
- t es el tiempo de deposición.
La velocidad de deposición mide la rapidez con la que crece la película.
Suele expresarse en unidades como
- A/s (angstroms por segundo)
- nm/min (nanómetros por minuto)
- um/hora (micrómetros por hora)
5 factores clave a tener en cuenta al utilizar un equipo de deposición
1. Aplicación de la película fina
La elección de la velocidad de deposición depende de la aplicación de la película fina.
En el caso de las películas finas, es preferible una velocidad de deposición relativamente lenta para mantener el control y la precisión del espesor de la película.
Para películas gruesas, puede ser deseable una tasa de deposición rápida.
2. Compromisos entre las propiedades de la película y las condiciones del proceso
Los procesos de mayor velocidad suelen requerir mayores potencias, temperaturas o flujos de gas.
Esto puede afectar o limitar otras características de la película, como la uniformidad, la tensión o la densidad.
3. Variación de las velocidades de deposición
Las velocidades de deposición pueden variar mucho, desde unas pocas decenas de A/min (angstroms por minuto) hasta 10.000 A/min.
Técnicas como la monitorización del cristal de cuarzo y la interferencia óptica pueden utilizarse para monitorizar el crecimiento del espesor de la película en tiempo real.
4. Cálculo del sputtering por magnetrón
En el sputtering por magnetrón, la velocidad de deposición puede calcularse mediante la fórmula Rdep = A x Rsputter.
Aquí
- Rdep es la velocidad de deposición.
- A es el área de deposición.
- Rsputter es la velocidad de sputtering.
Los parámetros de sputtering por magnetrón y las técnicas de optimización pueden ajustarse para conseguir la calidad y las propiedades deseadas de la película.
5. Uniformidad en la deposición
La uniformidad se refiere a la consistencia de la película a través de un sustrato, normalmente en términos de espesor de la película.
También puede referirse a otras propiedades de la película, como el índice de refracción.
La uniformidad de la deposición se mide normalmente promediando los datos recogidos en una oblea, con una desviación estándar que representa la desviación de la media.
El área de deposición y la velocidad de sputtering también pueden afectar a la uniformidad de la película fina depositada.
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