Los revestimientos por deposición física de vapor (PVD) son una parte crucial de muchos procesos industriales.
El grosor de estos revestimientos suele oscilar entre 1 y 10 µm.
Este intervalo es el mismo para las distintas técnicas de PVD.
Entre ellas se encuentran la evaporación térmica, el sputtering y el metalizado iónico.
Estos métodos implican la deposición física de átomos, iones o moléculas sobre un sustrato.
El proceso suele tener lugar dentro de una cámara a presión reducida y temperatura controlada.
Las temperaturas pueden oscilar entre 50 y 600 grados Celsius.
El proceso de deposición es "line-of-sight".
Esto significa que los átomos se desplazan por la cámara y se incrustan en los objetos que encuentran a su paso.
Es necesario colocar el objeto con precisión para conseguir un revestimiento uniforme.
Los revestimientos PVD pueden ser tan finos como capas atómicas.
Estas capas son inferiores a 10 angstroms (Å) o 0,1 nanómetros (nm).
Los revestimientos también pueden tener varias micras de grosor, comparable al grosor de una fibra capilar.
La elección del grosor depende de la aplicación específica y del material depositado.
Por ejemplo, en aplicaciones ópticas y de semiconductores se suelen utilizar revestimientos más finos.
Esto garantiza un control preciso de las propiedades de la superficie recubierta.
En aplicaciones que requieren una protección robusta o propiedades mecánicas mejoradas, pueden preferirse revestimientos más gruesos.
Los materiales utilizados en PVD pueden ser elementos atómicos puros.
Estos incluyen tanto metales como no metales.
También pueden utilizarse moléculas complejas como óxidos y nitruros.
El sustrato, o el objeto que se recubre, puede variar mucho.
Algunos ejemplos son las obleas semiconductoras, las células solares, los componentes ópticos y otros artículos especializados.
El proceso de deposición implica la transformación del material objetivo en partículas atómicas en un estado de plasma gaseoso.
A continuación, estas partículas se dirigen a los sustratos a través de una atmósfera de vacío.
El resultado es un recubrimiento físico por condensación de los átomos proyectados.
En general, el grosor de los revestimientos PVD es un parámetro crítico.
Se controla cuidadosamente para cumplir los requisitos específicos de las distintas aplicaciones.
Esto garantiza un rendimiento y una funcionalidad óptimos de los materiales recubiertos.
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