Conocimiento ¿Cómo se transfiere el grafeno del cobre?
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Cómo se transfiere el grafeno del cobre?

Para transferir grafeno del cobre, se pueden utilizar varios métodos:

1. Grabado químico: Un método consiste en aplicar una capa de polímero de soporte, como el polimetacrilato de metilo (PMMA), sobre el grafeno. A continuación, el grafeno recubierto de PMMA se hornea a una temperatura específica para la evaporación del disolvente. A continuación, se utiliza un decapante de cobre (u otro metal catalítico) para eliminar el sustrato de cobre, dejando tras de sí la película de grafeno/PMMA. A continuación, la película se limpia con agua desionizada y se transfiere al sustrato deseado. Por último, se utiliza acetona para eliminar el PMMA después de que se evapore el vapor de agua, dejando sólo la película de grafeno sobre el sustrato deseado.

2. Delaminación electroquímica: Otro método consiste en deslaminar electroquímicamente la película de grafeno del sustrato de cobre. Esto puede hacerse intercalando una capa de óxido de cobre entre el grafeno y el sustrato de cobre durante el proceso de deposición química en fase vapor (CVD). La capa de óxido de cobre actúa como una barrera débil que reduce la compresión hidrostática entre el grafeno y el sustrato de cobre, lo que permite desprender más fácilmente la película de grafeno.

3. Transferencia de sustrato disuelto: Este método de transferencia consiste en disolver el sustrato con un agente grabador para separar la película de grafeno. Esto puede hacerse utilizando un sustrato metálico catalítico, como el cobre, y disolviéndolo con un agente grabador adecuado, dejando atrás la película de grafeno. El método de transferencia de sustrato disuelto es rentable porque el sustrato puede reutilizarse.

4. Transferencia de sustrato separado: Este método de transferencia consiste en separar mecánica o electroquímicamente la película de grafeno del sustrato. Puede hacerse aplicando una película portadora sobre el grafeno y separándolo después mecánicamente del sustrato. También se pueden utilizar métodos electroquímicos para separar la película de grafeno del sustrato. La transferencia de sustrato separado también es rentable porque el sustrato se puede reutilizar.

Además de estos métodos, los científicos investigan y desarrollan continuamente nuevas técnicas para mejorar el proceso de transferencia y crear grafeno de mayor calidad. Por ejemplo, el tratamiento del sustrato de cobre antes del proceso de crecimiento del grafeno puede ayudar a reducir la actividad catalítica y mejorar la morfología de la superficie, lo que da lugar a copos de grafeno con menos imperfecciones.

¿Busca equipos de laboratorio fiables para su investigación sobre el grafeno? No busque más: ¡KINTEK! Nuestros suministros de alta calidad le ayudarán a transferir grafeno sin problemas sobre diversos sustratos como vidrio, Si/SiO2, películas de PET, etc. Tanto si necesita recubrimientos de PMMA como intercalación de óxido de cobre, tenemos todo lo que necesita. Lleve sus experimentos con grafeno al siguiente nivel con KINTEK. Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información.

Productos relacionados

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Crisol de grafito de evaporación por haz de electrones

Una tecnología utilizada principalmente en el campo de la electrónica de potencia. Es una película de grafito hecha de material fuente de carbono por deposición de material utilizando tecnología de haz de electrones.

Crisol de evaporación de grafito

Crisol de evaporación de grafito

Recipientes para aplicaciones de alta temperatura, donde los materiales se mantienen a temperaturas extremadamente altas para que se evaporen, lo que permite depositar películas delgadas sobre los sustratos.

Material de pulido de electrodos

Material de pulido de electrodos

¿Está buscando una manera de pulir sus electrodos para experimentos electroquímicos? ¡Nuestros materiales de pulido están aquí para ayudar! Siga nuestras sencillas instrucciones para obtener los mejores resultados.

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Recubrimiento de evaporación por haz de electrones Crisol de cobre libre de oxígeno

Cuando se utilizan técnicas de evaporación por haz de electrones, el uso de crisoles de cobre sin oxígeno minimiza el riesgo de contaminación por oxígeno durante el proceso de evaporación.

Placa de grafito de carbono - isostático

Placa de grafito de carbono - isostático

El grafito de carbono isostático se prensa a partir de grafito de alta pureza. Es un material excelente para la fabricación de toberas de cohetes, materiales de desaceleración y materiales reflectantes para reactores de grafito.

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

Horno de grafitización de película de alta conductividad térmica

El horno de grafitización de película de alta conductividad térmica tiene una temperatura uniforme, un bajo consumo de energía y puede funcionar de forma continua.

electrodo de grafito

electrodo de grafito

Electrodos de grafito de alta calidad para experimentos electroquímicos. Modelos completos con resistencia a ácidos y álcalis, seguridad, durabilidad y opciones de personalización.

Crisol de haz de pistola de electrones

Crisol de haz de pistola de electrones

En el contexto de la evaporación por haz de cañón de electrones, un crisol es un contenedor o soporte de fuente que se utiliza para contener y evaporar el material que se depositará sobre un sustrato.

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT

Horno de grafitización experimental IGBT, una solución personalizada para universidades e instituciones de investigación, con alta eficiencia de calentamiento, facilidad de uso y control preciso de la temperatura.

Horno de grafitización continua

Horno de grafitización continua

El horno de grafitización de alta temperatura es un equipo profesional para el tratamiento de grafitización de materiales de carbono. Es un equipo clave para la producción de productos de grafito de alta calidad. Tiene alta temperatura, alta eficiencia y calentamiento uniforme. Es adecuado para diversos tratamientos de alta temperatura y tratamientos de grafitización. Es ampliamente utilizado en la industria metalúrgica, electrónica, aeroespacial, etc.

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

Horno de grafitización de temperatura ultraalta

El horno de grafitización de temperatura ultraalta utiliza calentamiento por inducción de frecuencia media en un ambiente de vacío o gas inerte. La bobina de inducción genera un campo magnético alterno, induciendo corrientes parásitas en el crisol de grafito, que se calienta e irradia calor a la pieza de trabajo, llevándola a la temperatura deseada. Este horno se utiliza principalmente para la grafitización y sinterización de materiales de carbono, materiales de fibra de carbono y otros materiales compuestos.

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Deposición por evaporación mejorada con plasma Máquina de revestimiento PECVD

Actualice su proceso de recubrimiento con equipos de recubrimiento PECVD. Ideal para LED, semiconductores de potencia, MEMS y mucho más. Deposita películas sólidas de alta calidad a bajas temperaturas.

Hojas de metal de alta pureza: oro, platino, cobre, hierro, etc.

Hojas de metal de alta pureza: oro, platino, cobre, hierro, etc.

Mejore sus experimentos con nuestra lámina de metal de alta pureza. Oro, platino, cobre, hierro y más. Perfecto para electroquímica y otros campos.

Electrodo de hoja de oro

Electrodo de hoja de oro

Descubra electrodos de lámina de oro de alta calidad para experimentos electroquímicos seguros y duraderos. Elija entre modelos completos o personalícelos para satisfacer sus necesidades específicas.

Tela de carbono conductora / Papel de carbono / Fieltro de carbono

Tela de carbono conductora / Papel de carbono / Fieltro de carbono

Tela, papel y fieltro de carbón conductor para experimentos electroquímicos. Materiales de alta calidad para resultados fiables y precisos. Ordene ahora para opciones de personalización.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

RF-PECVD es el acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) sobre sustratos de germanio y silicio. Se utiliza en la gama de longitudes de onda infrarrojas de 3-12um.


Deja tu mensaje