La evaporación térmica es un método utilizado para preparar películas finas depositando materiales sobre un sustrato en un entorno de alto vacío.
4 Pasos clave en la preparación de películas delgadas por evaporación térmica
1. Calentamiento del material a depositar
El material que se va a depositar (el blanco) se calienta a una temperatura elevada.
Normalmente, esto se hace utilizando calentamiento resistivo o un haz de electrones.
Este calentamiento hace que el material se sublime o hierva, liberando vapor.
2. Transporte del vapor
A continuación, el material vaporizado se transporta a través de la cámara de vacío.
El entorno de vacío es crucial, ya que minimiza la posibilidad de que el vapor choque con otras partículas.
Esto garantiza una trayectoria directa hasta el sustrato.
3. Condensación en el sustrato
El vapor llega al sustrato y se condensa, formando una fina película.
El grosor y la uniformidad de la película dependen de factores como la velocidad de evaporación, la distancia entre la fuente y el sustrato y la duración del proceso.
4. Crecimiento y nucleación de la película
La repetición de los ciclos de deposición permite el crecimiento y la nucleación de la película fina.
Esto es importante para conseguir las propiedades y el espesor de película deseados.
La evaporación térmica es especialmente útil en aplicaciones como la creación de capas de unión de metales en células solares, transistores de película fina, obleas semiconductoras y OLED basados en carbono.
Puede depositar un único material o codepositar capas de distintos materiales, en función de los requisitos específicos de la aplicación.
Este método es el preferido por su sencillez y la alta calidad de las películas que puede producir, lo que lo convierte en un elemento básico tanto en el laboratorio como en la industria para la preparación de películas finas.
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