Conocimiento ¿Cuántos tipos de sputtering existen? (2 técnicas principales explicadas)
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Cuántos tipos de sputtering existen? (2 técnicas principales explicadas)

El sputtering es un proceso crucial en diversas industrias, especialmente en la fabricación de productos de laboratorio, películas ópticas, semiconductores, etc.

¿Cuántos tipos de sputtering existen? (Explicación de las 2 técnicas principales)

¿Cuántos tipos de sputtering existen? (2 técnicas principales explicadas)

1. Pulverización catódica por haz de iones

En el sputtering por haz de iones, se dirige un haz de iones a la superficie del material que debe vaporizarse.

El elevado campo eléctrico del haz de iones provoca la ionización de los gases de vapor metálico.

Tras la ionización, estos iones se dirigen hacia el objetivo o la pieza donde se necesita la deposición.

Este método se utiliza a menudo en la fabricación, especialmente en la industria médica para producir productos de laboratorio y películas ópticas.

2. Pulverización catódica por magnetrón

El sputtering por magnetrón utiliza un magnetrón, un tipo de cátodo que crea un plasma en un entorno de gas a baja presión.

Este plasma se forma cerca del material objetivo, que suele ser metálico o cerámico.

El plasma hace que los iones de gas choquen con el blanco de sputtering, desprendiendo átomos de la superficie y expulsándolos a la fase gaseosa.

El campo magnético producido por el imán aumenta la velocidad de pulverización catódica y garantiza una deposición más uniforme del material pulverizado sobre el sustrato.

Esta técnica se utiliza ampliamente para depositar películas finas de metales, óxidos y aleaciones sobre diversos sustratos, lo que la hace respetuosa con el medio ambiente y versátil para aplicaciones en semiconductores, dispositivos ópticos y nanociencia.

Tanto el sputtering por haz de iones como el sputtering por magnetrón forman parte de los métodos de deposición física en fase vapor (PVD).

El PVD consiste en la deposición de películas finas mediante la introducción de un gas controlado, normalmente argón, en una cámara de vacío y la energización eléctrica de un cátodo para establecer un plasma autosostenido.

La elección entre estas dos técnicas depende de los requisitos específicos de la aplicación, incluido el tipo de material que debe depositarse, la uniformidad del revestimiento y las condiciones ambientales.

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