Conocimiento ¿Qué espesor tiene un cátodo para sputtering?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 3 meses

¿Qué espesor tiene un cátodo para sputtering?

El espesor de un cátodo para sputtering puede variar en función del material que se utilice y de la naturaleza de la película fina que se cree.

Para el sputtering por magnetrón de materiales magnéticos como el níquel, se utiliza un blanco más fino, normalmente una lámina o una hoja de menos de 1 mm de grosor.

Para los blancos metálicos normales, se considera aceptable un grosor de hasta 4 ó 5 mm. Lo mismo se aplica a los blancos de óxido.

El tamaño y la forma de los cátodos para sputtering también pueden variar enormemente. Los más pequeños pueden tener menos de una pulgada (2,5 cm) de diámetro, mientras que los más grandes pueden tener más de una yarda (0,9 m) de longitud. En algunos casos, pueden ser necesarios cátodos más grandes, y los fabricantes pueden crear cátodos segmentados conectados por juntas especiales.

Las formas más comunes de los cátodos para sputtering son la circular y la rectangular, aunque también se pueden fabricar otras formas como cuadrados y triangulares.

Los tamaños estándar de los blancos redondos van de 1" a 20" de diámetro, y los blancos rectangulares pueden estar disponibles en longitudes de hasta 2000 mm o más, dependiendo del metal y de si se trata de una construcción de una o varias piezas.

Los métodos de fabricación de cátodos para sputtering dependen de las propiedades del material del cátodo y de su aplicación. Pueden utilizarse los métodos de fusión y laminado en vacío, prensado en caliente, proceso especial de prensado-sinterizado, prensado en caliente en vacío y forjado.

Los cátodos para sputtering suelen ser placas sólidas de metales puros, aleaciones o compuestos como óxidos o nitruros. El espesor de los revestimientos depositados por pulverización catódica suele oscilar entre angstroms y micras. La película fina puede ser de un solo material o de varios materiales en una estructura de capas.

El sputtering reactivo es otro proceso en el que se utiliza un gas no inerte, como el oxígeno, en combinación con un material objetivo elemental para crear una reacción química y formar una nueva película compuesta.

En resumen, el espesor de un cátodo para sputtering puede variar según el material y la aplicación, desde menos de 1 mm para materiales magnéticos hasta 4 ó 5 mm para cátodos normales de metal y óxido. El tamaño y la forma de los cátodos para sputtering también pueden variar en gran medida, con cátodos redondos que van desde 1" a 20" de diámetro y cátodos rectangulares disponibles en longitudes de hasta y más de 2000 mm.

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