La limpieza previa en la deposición de películas finas es un paso crucial que consiste en preparar la superficie del sustrato para garantizar las propiedades y el rendimiento deseados de la película depositada. Este proceso es necesario para minimizar la contaminación y mejorar la compatibilidad y adhesión de la película fina al sustrato.
Control de la contaminación:
La contaminación puede afectar significativamente a la calidad de las películas finas. Entre las fuentes de contaminación se incluyen los gases residuales en la cámara de deposición, las impurezas en los materiales de partida y los contaminantes superficiales en el sustrato. Para mitigar estos problemas, es esencial utilizar un entorno de deposición limpio y materiales fuente de gran pureza.Compatibilidad del sustrato:
La elección del material del sustrato es fundamental, ya que puede influir en las características y la adherencia de la película fina. No todos los materiales son compatibles con todos los procesos de deposición, y algunos pueden reaccionar de forma indeseable durante la deposición. Es vital seleccionar un sustrato que pueda soportar las condiciones de deposición e interactuar adecuadamente con el material de la película fina.
Método de deposición y profundidad de limpieza:
La elección del método de limpieza previa depende del método de deposición y de la profundidad de limpieza requerida. Por ejemplo, las tecnologías de fuente de iones son compatibles con los sistemas de evaporación, pero pueden no ser tan eficaces con los sistemas de pulverización catódica. El método de limpieza debe elegirse en función de si el objetivo es eliminar hidrocarburos y moléculas de agua (lo que requiere una baja energía iónica) o capas enteras de óxido (lo que requiere una mayor densidad y energía iónica).Área de cobertura:
Los distintos métodos de limpieza previa ofrecen distintas áreas de cobertura. Por ejemplo, los métodos de placa incandescente de RF y pretratamiento por plasma pueden cubrir grandes áreas, mientras que los pretratamientos por RF o microondas y las fuentes de iones circulares ofrecen una cobertura más limitada.
Preparación de la cámara de vacío:
