Conocimiento ¿Es mejor el sputtering de CC pulsada que el sputtering de CC?
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Equipo técnico · Kintek Solution

Actualizado hace 1 semana

¿Es mejor el sputtering de CC pulsada que el sputtering de CC?

El sputtering de corriente continua pulsada suele considerarse mejor que el sputtering de corriente continua para determinadas aplicaciones, especialmente en el sputtering reactivo y cuando se trata de aislantes. Esto se debe a su capacidad para mitigar los daños por descarga de arco y a su mayor control sobre las propiedades de la película.

Mitigación del daño por descarga de arco:

El sputtering de corriente continua pulsada es especialmente ventajoso en el sputtering iónico reactivo, donde el riesgo de descarga de arco es elevado. La descarga de arco se produce debido a la acumulación de carga en el blanco, que puede ser perjudicial tanto para la película fina como para la fuente de alimentación. El sputtering de CC pulsada ayuda a gestionar este problema descargando periódicamente la carga acumulada, evitando así la acumulación que provoca las descargas de arco. Esto hace que el proceso sea más estable y menos dañino para el equipo y las películas depositadas.Mayor control de las propiedades de la película:

El sputtering de corriente continua pulsada permite un mejor control de diversas propiedades de la película, como el espesor, la uniformidad, la fuerza de adhesión, la tensión, la estructura del grano y las propiedades ópticas o eléctricas. Esto es crucial en aplicaciones en las que es necesario un control preciso de las características de la película. La naturaleza pulsante de la fuente de alimentación permite un entorno más controlado para la deposición de materiales, lo que da lugar a películas de mayor calidad.

Ventajas en el depósito de materiales aislantes:

El sputtering DC tradicional tiene limitaciones a la hora de depositar materiales aislantes debido a la acumulación de carga en el blanco. El sputtering de corriente continua pulsada, junto con avances como el sputtering magnetrónico por impulsos de alta potencia (HiPIMS), supera estas limitaciones proporcionando un método para depositar materiales aislantes de forma eficaz. Esto es especialmente importante en el desarrollo de materiales y recubrimientos avanzados en los que las propiedades aislantes son esenciales.

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