Conocimiento ¿Cuáles son los principios de la deposición física de vapor?
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Actualizado hace 1 semana

¿Cuáles son los principios de la deposición física de vapor?

El depósito físico en fase vapor (PVD) es una técnica utilizada para depositar películas finas de materiales sobre un sustrato mediante la vaporización física del material de origen en condiciones de vacío. El proceso consta de tres pasos principales: gasificación del material de recubrimiento, transporte del vapor a través de una región de baja presión y condensación del vapor en el sustrato para formar la película fina. Los métodos de PVD incluyen la evaporación en vacío, la deposición por pulverización catódica, el metalizado por arco de plasma y el metalizado iónico, entre otros. Estos métodos son conocidos por su rápida velocidad de deposición, gran adherencia, buena difracción y amplia gama de aplicaciones. Los recubrimientos PVD son especialmente útiles en aplicaciones que requieren dureza y resistencia al desgaste, y son respetuosos con el medio ambiente, lo que los hace adecuados para su uso en implantes médicos y otras aplicaciones críticas.

Gasificación del material de revestimiento:

El primer paso del PVD consiste en convertir el material que se va a depositar en un estado de vapor. Esto puede conseguirse mediante varios métodos, como la evaporación, la sublimación o el sputtering. En la evaporación, el material se calienta hasta su punto de ebullición en el vacío, lo que hace que se convierta en vapor. La sublimación consiste en la conversión directa de un sólido en gas sin pasar por la fase líquida. La pulverización catódica, un método más utilizado, expulsa átomos del material mediante el intercambio de momentos al bombardearlo con partículas de alta energía.Transporte del vapor:

Una vez que el material se encuentra en estado de vapor, debe transportarse hasta el sustrato. Esto ocurre en un entorno de baja presión, normalmente dentro de una cámara de vacío, lo que minimiza las colisiones con otras moléculas de gas y garantiza una ruta directa para que el vapor llegue al sustrato. La baja presión también ayuda a mantener la pureza del vapor y a controlar el proceso de deposición.

Condensación del vapor:

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