El depósito químico en fase vapor (CVD) es un proceso complejo utilizado para crear películas finas sobre diversos sustratos.
5 pasos clave de la reacción CVD
1) Introducción de productos químicos precursores
Los productos químicos precursores se introducen en el reactor CVD.
Estos productos químicos son los materiales de partida que reaccionarán para formar la película fina deseada.
2) Transporte de las moléculas precursoras
Una vez dentro del reactor, las moléculas precursoras deben transportarse a la superficie del sustrato.
Esto se consigue normalmente mediante una combinación de transporte fluido y difusión.
3) Adsorción en la superficie del sustrato
Las moléculas precursoras que llegan a la superficie del sustrato deben someterse a un proceso de adsorción.
La adsorción se refiere a la adhesión de estas moléculas a la superficie del sustrato.
Este paso es crucial para que se produzcan las reacciones posteriores.
4) Reacciones químicas
Una vez adsorbidas, las moléculas precursoras reaccionan con la superficie del sustrato para formar la película fina deseada.
Estas reacciones pueden ser reacciones homogéneas en fase gaseosa o reacciones heterogéneas que se producen en/cerca de la superficie calentada del sustrato.
5) Desorción de subproductos
Durante las reacciones químicas, se forman moléculas de subproductos.
Estos subproductos deben desorberse de la superficie del sustrato para dejar espacio a más moléculas precursoras entrantes.
La desorción se refiere a la liberación de estas moléculas a la fase gaseosa.
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